JP2008296495A - 金属ベース基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】クリーン度がクラス10,000以下の雰囲気下で、厚さ0.1〜5.0mmの金属板上に絶縁層を介して厚み18μm以上0.5mm以下の金属箔を載置してなる積層板を、金属板と金属箔とが当節するように、複数重ね合わせ、更に最外面の金属箔側に金属板を配し、その後に最上面及び最下面に緩衝材を配して積層する金属ベース基板の製造方法、好ましくは、金属ベース基板が0.01〜1.0m2の面積である請求項1に記載の金属ベース基板の製造方法。
【選択図】図1
Description
厚み1.5ミリメートルのアルミニウム板(大きさ500mm×500mm)上に、結晶質石英フィラー(龍森社製「A−1」)を56質量%含有するエポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製「JER828」)に、前記エポキシ樹脂の硬化剤としてフェノールノボラック樹脂(大日本インキ社製「TD−2131」)を前記エポキシ樹脂100質量部に対して47質量部配合した組成物を硬化後厚さが0.15mmとなるように塗布し、120℃10分間加熱して半硬化させた後に、厚さ0.035mmの銅箔を積層して、積層板を作製した。
尚、前記作業は、プレス機にセットする直前まで、即ち、緩衝材をセットするより前の作業についてはクリーン度クラス10,000にて管理されている工室にて行った。
金属板、絶縁層、金属箔の厚みを表1の通りに変更したこと以外は実施例1と同様の方法で金属ベース基板を作製し、評価した。この結果を表1、2に示した。
金属ベース基板の面積を表1の通りに変更したこと以外は実施例1と同様の方法で金属ベース基板を作製し、評価した。この結果を表1、2に示した。
作業工室のクリーン度を変更したこと以外は実施例1と同様の方法で回路基板を作製し、評価した。この結果を表3、4に示した。
2 :絶縁層
3 :金属箔
4 :積層板
5 :スペーサー
6 :緩衝材
Claims (2)
- 厚さ0.1〜5.0mmの金属板上に絶縁接着剤層を介して厚み18μm以上0.5mm以下の金属箔を載置してなる積層板を、金属板と金属箔とが当接するように、複数重ね合わせ、更に最外面の金属箔側に金属板を配置することをクリーン度がクラス10,000以下の雰囲気下で行った後に、更に最上面及び最下面に緩衝材を配置し、プレスする金属ベース基板の製造方法。
- 金属ベース基板の面積が0.01〜1.0m2である請求項1に記載の金属ベース基板の製造方法。
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