JP2008293957A - 有機発光装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板1と、基板1の上に形成される有機発光素子と、前記有機発光素子の周囲に形成される素子分離膜6とを有し、前記有機発光素子は、基板1側から順に下部電極9と、有機化合物層8と、上部電極5とを有する有機発光装置11の製造方法において、少なくとも下部電極9及び素子分離膜6が形成される基板1を、10Pa以上10000Pa以下の範囲内の圧力下で、少なくとも酸素を含む気体を雰囲気中に導入及び排気しながらUV光を照射する洗浄工程と、前記洗浄工程により洗浄された下部電極9の上に有機化合物層8を形成する工程と、有機化合物層8の上に上部電極5を形成する工程と、を有することを特徴とする有機発光装置11の製造方法。
【選択図】図1
Description
基板と、前記基板の上に形成される有機発光素子と、前記有機発光素子の周囲に形成される素子分離膜とを有し、
前記有機発光素子は、基板側から順に下部電極と、有機化合物層と、上部電極とを有する有機発光装置の製造方法において、
少なくとも前記下部電極及び前記素子分離膜が形成される基板を、10Pa以上10000Pa以下の範囲内の圧力下で、少なくとも酸素を含む気体を雰囲気中に導入及び排気しながらUV光を照射する洗浄工程と、
前記洗浄工程により洗浄された基板の前記下部電極の上に有機化合物層を形成する工程と、
前記有機化合物層の上に上部電極を形成する工程と、
を有することを特徴とする。
Ag合金膜(膜厚100nm)上にITO膜(膜厚60nm)を積層した膜を陽極(下部電極)として形成した基板の全面に、ポジ型感光性ポリイミド樹脂を用いて、厚さ2μmの素子分離膜を形成した。次に紫外線ランプを用いてパターン露光、現像して開口部を形成した。
陽極として膜厚100nmのCr膜を使用すること以外は実施例1と全く同様にして素子基板を作製し、洗浄と脱水処理を行った。また、有機EL層形成前処理として、雰囲気圧力を100Paとすること以外は実施例1と全く同様にしてUVオゾン処理を行った。
実施例1で使用した素子基板をそのまま使用して、有機EL層形成前処理時の圧力を10000Paにすること以外は実施例1と全く同様に有機発光装置を作製した。
実施例1で使用した素子基板をそのまま使用して、有機EL層形成前処理時の圧力を10Pa、導入気体を純度99.9%の酸素、導入流量を0.5slm、UV光照射時間を20分にすること以外は実施例1と全く同様に有機発光装置を作製した。
実施例1で使用した素子基板をそのまま使用して、有機EL層形成前処理時の圧力を101300Pa(大気圧)にすること以外は、実施例1と全く同様に有機発光装置を作製した。 得られた有機発光装置を実施例1と同様に評価したところ、L(100h)/L(ini)は90.5%(初期輝度L(ini)=1300cd/m2)であり、上記実施例に劣る駆動寿命特性であった。また温度80℃、湿度80%の恒温恒湿層で1000時間放置した後、放置前にはみられなかった画素内周辺部の暗化が観察された。
実施例1で使用した素子基板をそのまま使用して、有機EL層形成前処理時の圧力を5Paとし、導入気体を純度99.9%の酸素とし、導入圧力を0.05slmとし、UV光照射時間を20分とした。これらを除いては、実施例1と全く同様に有機発光装置を作製した。
実施例2で使用した素子基板をそのまま使用して、有機EL層形成前処理時の圧力を101300Pa(大気圧)にしたことを除いては、実施例1と全く同様に有機発光装置を作製した。
2 TFT
3 層間絶縁膜
4 接続孔
5 上部電極(陽極)
6 素子分離膜
7 開口部
8 有機化合物層(有機EL層)
9 下部電極(陰極)
10 表面保護膜
11 有機発光装置
31 真空槽
32 UVランプ
33 基板
34 マスフローコントローラ
35 真空計
36 圧力コントローラ
37 可変バルブ
Claims (3)
- 基板と、前記基板の上に形成される有機発光素子と、前記有機発光素子の周囲に形成される素子分離膜とを有し、
前記有機発光素子は、基板側から順に下部電極と、有機化合物層と、上部電極とを有する有機発光装置の製造方法において、
少なくとも前記下部電極及び前記素子分離膜が形成される基板を、10Pa以上10000Pa以下の範囲内の圧力下で、少なくとも酸素を含む気体を雰囲気中に導入及び排気しながらUV光を照射する洗浄工程と、
前記洗浄工程により洗浄された前記下部電極の上に有機化合物層を形成する工程と、
前記有機化合物層の上に上部電極を形成する工程と、
を有することを特徴とする有機発光装置の製造方法。 - さらに、少なくとも前記下部電極及び前記素子分離膜が形成された基板を真空下で加熱脱水処理する工程を有し、
前記洗浄工程は、前記加熱脱水処理がなされた基板を洗浄する工程であり、
前記有機化合物層を形成する工程は、前記洗浄された基板の下部電極の上に真空下で有機化合物層を形成する工程であることを特徴とする請求項1に記載の有機発光装置の製造方法。 - 前記下部電極は陽極であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の有機発光装置の製造方法。
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