JP2008270263A

JP2008270263A - 塗布装置

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Publication number: JP2008270263A
Application number: JP2007107140A
Authority: JP
Inventors: Toshihiro Mori; 俊裕森; Toru Fukunaga; 徹福永
Original assignee: Toray Engineering Co Ltd
Current assignee: Toray Engineering Co Ltd
Priority date: 2007-04-16
Filing date: 2007-04-16
Publication date: 2008-11-06
Anticipated expiration: 2027-04-16
Also published as: JP5089228B2

Abstract

【課題】ガントリが走行するレールを分割構造にした場合であっても、レールの分割部がガントリの定速走行性に与える影響を抑えるとともに、分割されたレールの組付け作業を容易にすることにより、組付け精度の向上を図ることができるとともに作業時間の短縮化を図ることができる塗布装置を提供する。
【解決手段】基板を保持するステージと、前記ステージに沿って特定方向に延びるとともに複数に分割されたレールと、基板上に塗布液を塗布する塗布ユニットと、を備えており、前記レールは、前記塗布ユニットが塗布液の吐出開始から吐出終了まで走行する塗布走行部と、この塗布走行部から特定方向に延長された延長部とを有しており、この延長部に、前記レールを分割する分割部を形成する。
【選択図】図１

Description

本発明は、基板上に塗布液を塗布する塗布装置に関するものである。

液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイには、ガラス基板上にレジスト液が塗布されたもの（塗布基板と称す）が使用されている。この塗布基板は、レジスト液を均一に塗布する塗布装置によって形成されている。

すなわち、塗布装置は、ガラス基板を載置するステージと、レジスト液を吐出する口金と、この口金をステージ上に支持するとともにステージに沿って移動させる門型のガントリとを有しており、口金のスリットノズルからレジスト液を吐出させながら、ガントリをガラス基板に沿う方向に定速で走行させることにより、均一厚さのレジスト液膜が塗布された塗布基板が形成されるようになっている。

このような塗布装置では、ステージを載置する基台上に一方向に延びる石材製のレールが設置されており、ガントリは、このレールに沿って走行するように構成されている。近年では、フラットパネルディスプレイの大型化に伴い、大型の塗布基板を生産すべく、ステージの大型化及びレールの長尺化が余儀なくされている。しかし、レールが長尺化されると、石材製のレールの長尺化に伴う加工限界の問題や、塗布装置の運送上の問題が避けられないことから、下記特許文献１では、複数のレール部品を連結することによりレールを構成するステージ装置が開示されている。

特開２００６−９５６６５号公報

しかし、上記特許文献１に示されたステージ装置を塗布装置に適用すると、レールの継ぎ目の存在により、不良基板を生産されやすいという問題がある。すなわち、上記ステージ装置のレールには、そのほぼ中央部分にレールの継ぎ目（分割部分）が設けられているため、ガントリがレールの分割部分を通過する際にガントリの定速走行に乱れが生じる虞れがあり、これにより、塗布ムラが発生して不良基板が生産されやすいという問題がある。

また、分割されたレールを有する塗布装置は、現地で組付け作業を行う必要がある。この組付け作業は、短期間で終える必要がある一方で、組付け精度が塗布装置の動作に影響し塗布ムラの発生を誘発する場合もあるため、高精度に行う必要がある。

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、ガントリが走行するレールを分割構造にした場合であっても、レールの分割部分がガントリの定速走行性に与える影響を抑えるとともに、分割されたレールの組付け作業を容易にすることにより、組付け精度の向上を図ることができるとともに作業時間の短縮化を図ることができる塗布装置を提供することを目的としている。

上記課題を解決するために本発明の塗布装置は、基板を保持するステージと、前記ステージに沿って特定方向に延びるとともに複数に分割されたレールと前記レール上を走行しつつ塗布液を吐出することにより、基板上に塗布液を塗布する塗布ユニットと、を備えており、前記レールは、前記塗布ユニットが塗布液の吐出開始から吐出終了まで走行する塗布走行部と、この塗布走行部から特定方向に延長された延長部とを有しており、この延長部にに前記レールを分割する分割部が形成されていることを特徴としている。

上記塗布装置によれば、塗布ユニットがレールの塗布走行部を定速を維持した状態で走行しながら、基板上に塗布液を吐出する塗布動作が行われる。そして、この塗布動作が終了すると塗布液の吐出を停止してレールの延長部を走行する。すなわち、塗布動作を実行する場合には、塗布ユニットがレールの分割部（レールの不連続面）の存在しない塗布走行部を走行し、塗布動作が終了した後、分割部が存在する延長部を走行するため、この分割部が塗布動作時における塗布ユニットの定速性に与える影響を抑えることができる。したがって、レールの分割部をレールの延長部に形成することにより、塗布動作時における塗布ユニットの定速状態を維持することができるため、レールの不連続面の存在により塗布ムラが発生する問題を解消し、大型の塗布基板の生産に適した塗布装置とすることができる。

具体的な様態としては、前記レールを設置する基台をさらに備え、前記基台は、前記塗布走行部を含むレールが設置された基準ベース部と、前記延長部が設置された分割ベース部とを有しており、この基準ベース部と分割ベース部とが連結されることにより、前記塗布走行部と前記延長部とが前記特定方向に配列された状態で前記レールが基台に設置される構成とすることができる。

上記構成によれば、基準ベース部と分割ベース部とを連結することにより、塗布走行部と延長部とが特定方向に配列されるため、レールの組付け作業を容易にすることができる。したがって、レールの組付け精度の向上を図ることができるとともに、短期間で組付け作業を行うことができる。

また、前記基準ベース部及び分割ベース部には、これらを支持する支持部が取り付けられており、この支持部により、基準ベース部及び分割ベース部は、それぞれ前記レールが連結される姿勢に維持される構成としてもよい。

この構成によれば、前記支持部により、基準ベース部と分割ベース部とが、それぞれ独立して前記レールが連結される姿勢に維持されるため、レールの組付け作業を容易にすることができる。

また、前記塗布ユニットは塗布液を吐出する口金部とこの口金部を支持する脚部とを有しており、前記基準ベース部の支持部のうち分割ベース部に最も近接する位置に取り付けられた支持部と、前記分割ベース部の支持部のうち基準ベース部に最も近接する位置に取り付けられた支持部との間隔寸法が、前記塗布ユニットの脚部の特定方向寸法よりも小さく設定されていることが好ましい。

この構成によれば、前記塗布ユニットがレールの分割部を走行している際、塗布ユニットがベース部の端部に位置するため、塗布ユニットが位置するレールには支持部を支点とする微小な撓みが発生する。しかし、上記支持部の間隔寸法を塗布ユニットの特定方向寸法（レールが延びる方向の寸法）よりも小さくすることにより、塗布ユニットがベース部の端部に位置する状態であっても、支持部が塗布ユニットを支持することができるため、レールの分割部の微小撓み（段差）を小さくすることができる。したがって、塗布ユニットが分割部を通過した場合であっても、塗布ユニットの定速性に与える影響を抑えて塗布ムラの発生を抑えることができる。

また、前記支持部は、前記レールの高さ位置を調節する高さ調節部を有することが好ましい。

この構成によれば、前記支持部の高さ調節部でレールの高さ位置を調節できることにより、レールの組付け作業を容易にするとともに、組付け精度を向上させることができる。

本発明の塗布装置によれば、塗布ユニットが走行するレールを分割構造にした場合であっても、レールの分割部がガントリの走行定速性に与える影響を抑えるとともに、分割されたレールの組付け作業を容易にすることにより、組付け精度の向上を図ることができるとともに作業時間の短縮化を図ることができる。

本発明に係る実施の形態を図面を用いて説明する。

図１は、本発明の一実施形態における塗布装置１を示す概略上面図、図２は、その側面図、図３は、塗布ユニット５のユニット支持部５２付近を示す図である。なお、図１においては、塗布ユニット５等は省略している。

図１〜図３に示すように、塗布装置は、供給される薄板状の基板２に薬液やレジスト等の液状物（以下塗布液と称す）を塗布するものであり、基台３と、基板２を載置するためのステージ４と、このステージ４に対し特定方向に移動可能に構成される塗布ユニット５とを備えている。

なお、以下の説明では、塗布ユニット５が移動する方向をＸ軸方向（本発明の特定方向）、これと水平面上で直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸およびＹ軸方向の双方に直交する方向をＺ軸方向とし、基台３に基板２が載置される側を上方、基板２が載置される側と反対側を下方として説明を進めることとする。

前記基台３は、ステージ４、塗布ユニット５等が載置されるものであり、ステージ４が載置される基準ベース部３１とこの基準ベース部３１に連結される４体の分割ベース部３２とを有している。そして、基台３上には、ステージ４に沿って特定方向（Ｘ軸方向）に延びるレール６がステージ４を挟むように配置されている。

前記レール６は、塗布ユニット５の走行をガイドするものである。このレール６は、基準ベース部３１のレール部６１及び分割ベース部３２のレール部６２が連結されることによって構成されており、塗布走行部６ａと延長部６ｂとを有している。

ここで、塗布走行部６ａは、前記塗布ユニット５が塗布液の吐出開始から吐出終了まで走行する部分であり、図２において、塗布液の吐出が開始される位置（吐出開始位置Ｓ）から塗布液の吐出が終了する位置（吐出終了位置Ｔ）までに相当する部分である。また、延長部６ｂは、この塗布走行部６ａからＸ軸方向に延長される部分である。そして、塗布走行部６ａは、分割されることなく連続的に一体成形されており、延長部６ｂには、レール６が分割される分割部６３が形成されている。

基準ベース部３１は、石材によって形成されており、図４（ａ）、（ｂ）に示すように、Ｙ軸方向両側にＸ軸方向に延びるレール部６１が一体形成されている。ここで、図４（ａ）は、基準ベース部３１をＹ軸方向から見た図、図４（ｂ）は、基準ベース部３１をＸ軸方向から見た図である。図１〜図４に示すように、このレール部６１は、塗布走行部６ａと延長部６ｂとを有しており、Ｚ軸方向に突出するとともに、基準ベース部３１のＸ軸方向に亘って連続して形成されている。そして、このレール部６１には、平坦かつ平滑なガイド面６１ａが形成されている。すなわち、このガイド面６１ａは、後述する塗布ユニット５のエアベアリング１４（本発明の軸受け部）と対向する位置に形成されており、本実施形態では、それぞれのレール部６１に、Ｚ軸方向に垂直をなす方向と、Ｙ軸方向に垂直をなす方向との２カ所にガイド面６１ａが形成されている。

また、基準ベース部３１のＸ軸方向側面、すなわち分割ベース部３２と対向する面には、分割ベース部３２と連結する基準ベース側連結部３３を有している。この基準ベース側連結部３３には、雌ネジ部３３ａが複数行列に亘って形成されており、この雌ネジ部３３ａにボルトを螺合させることにより、基準ベース部３１と分割ベース部３２とが連結されるようになっている。なお、雌ネジ部３３ａの配置は、格子状、千鳥状等であってもよいが、本実施形態では、この雌ネジ部３３ａが格子状に配列されている。

また、基準ベース部３１の下面には、基準ベース部３１を支持する支持部３１ｂが取り付けられている。本実施形態では、基準ベース部３１には４つの支持部３１ｂが取り付けられており、この支持部３１ｂにより、基準ベース部３１上面のガイド面６１ａが水平となる姿勢を維持できるようになっている。そして、支持部３１ｂは、高さ調節部（不図示）を有しており、支持部３１ｂが高さ方向（Ｚ軸方向）に変位可能になっている。これにより、基準ベース部３１上面のガイド面６１ａの高さ位置を所定の高さ位置に調節することができるようになっている。

分割ベース部３２は、石材で形成されており、図５（ａ）、（ｂ）に示すように、ブロック状に形成された分割ベース本体部３２ａと、この分割ベース本体部３２ａの上方に配置されるレール部６２とを有している。なお、図５（ａ）は、分割ベース部３２をＹ軸方向から見た図、図４（ｂ）は、分割ベース部３２をＸ軸方向から見た図である。

分割ベース部３２のレール部６２は、基準ベース部３１のレール部６１と同様に、Ｚ軸方向に突出するとともに、分割ベース部３２のＸ軸方向に亘って連続して形成されている。このレール部６２は、延長部６ｂを有しており、分割ベース本体部３２ａにボルトで連結されている。具体的には、分割ベース本体部３２ａには、レール部６２を連結するためのボルト穴３４ｂが形成されており、このボルト穴３４ｂには、ボルトの取付け、取外し作業を行うための連結作業窓３４からアクセスできるようになっている。そして、この連結作業窓３４からボルト穴３４ｂに挿入されたボルトにより、レール部６２と分割ベース本体部３２ａとが連結されるようになっている。そして、図５に示す例では、連結作業窓３４が２カ所形成されている。

また、レール部６２は、平坦かつ平滑なガイド面６２ａを有しており、このガイド面６２ａは、後述する塗布ユニット５のエアベアリング１４（本発明の軸受け部）と対向する位置に形成されている。すなわち、ガイド面６２ａは基準ベース部３１と同様に、Ｚ軸方向に垂直をなす方向と、Ｙ軸方向に垂直をなす方向との２カ所にガイド面６２ａが形成されている。そして、基準ベース部３１と分割ベース部３２とが連結された状態では、レール部６１，６２がＸ軸方向に延びるように連結され、レール部６１，６２のガイド面６１ａ、６２ａが分割部６３を形成しつつ連続状に連結される。すなわち、レール６の分割部６３においては、それぞれのレール部６１，６２のガイド面６１ａ，６２ａ同士が連続し、平坦かつ平滑に連結される。これにより、塗布ユニット５が基準ベース部３１のレール部６１及び分割ベース部３２のレール部６２上をスムーズに移動できるようになっている。

また、分割ベース部３２には、基準ベース部３１と連結される側に、基準ベース部３１と連結するためのボルトを挿通するボルト穴３４ａが形成されている。このボルト穴３４ａは、基準ベース部３１側（図５（ａ）において右側）の連結作業窓３４から、アクセスできるようになっている。そして、このボルト穴３４ａは、基準ベース側連結部３３の雌ネジ部３３ａに対応する位置に形成されており、このボルト穴３４ａにボルトを挿通させて雌ネジ部３３ａに螺着させることにより、分割ベース部３２が基準ベース部３１に連結固定されるようになっている。

また、図１、図５に示すように、分割ベース部３２の下面には、分割ベース部３２を支持する支持部３２ｂが取り付けられている。本実施形態では、分割ベース本体部３２ａに３つの支持部３２ｂが取り付けられている。具体的には、図１の破線で示すように、分割ベース部３２の基準ベース部３１側に２つの支持部３２ｂがＹ軸方向に並んだ状態で取り付けられているとともに、この２つの支持部３２ｂよりもＸ軸方向に離れた位置に１つの支持部３２ｂが取り付けられている。この３つの支持部３２ｂにより、分割ベース部３２のガイド面６２ａが水平となる状態に維持されるようになっている。すなわち、分割ベース部３２は、基準ベース部３１と連結に適した姿勢を維持できるようになっている。

また、支持部３２ｂは、高さ調節部を有しており、支持部３２ｂが高さ方向（Ｚ軸方向）に変位可能になっている。これにより、分割ベース部３２のガイド面６２ａの高さ位置を所定の高さ位置に調節することができるようになっている。すなわち、４つの分割ベース部３２は、この支持部３２ｂにより、それぞれ独立して基準ベース部３１と連結される姿勢に維持されるとともに、高さ調節可能になっている。

また、基準ベース部３１の支持部３１ｂのうち分割ベース部３２に最も近接する位置に取り付けられた支持部３１ｂと、分割ベース部３２の支持部３２ｂのうち基準ベース部に最も近接する位置に取り付けられた支持部３２ｂとの間隔寸法βは、後述する塗布ユニット５のユニット支持部５２（本発明の脚部）の特定方向寸法α（Ｘ軸方向寸法）よりも小さくなっている（図２参照）。すなわち、塗布ユニット５がレール６の分割部６３を通過した際に、基準ベース部３１の延長部６ｂ、分割ベース部３２の延長部６ｂには、塗布ユニット５の重量による僅かな撓みが発生するが、支持部３１ｂ、３２ｂが上記間隔寸法に配置されていることにより、分割部６３を通過した塗布ユニット５を基台３の下面側から支持することができる。したがって、塗布ユニット５が通過することによる撓みの影響を小さくすることができる。これにより、塗布ユニット５が分割部６３を通過した際の塗布ムラの発生を抑制することができる。

前記ステージ４は、搬入された基板２をその表面に載置して保持するものである。具体的には、ステージ４には、その表面に開口する複数の吸引孔（不図示）が形成されており、これらの吸引孔と真空ポンプとが連通して接続されている。そして、ステージ４の表面に基板２が載置された状態で真空ポンプを作動させることにより、吸引孔に吸引力が発生し基板２がステージ４の表面側に吸引されて吸着保持されるようになっている。

また、ステージ４には、基板２を昇降動作させる基板昇降機構（不図示）が設けられている。すなわち、ステージ４の表面には複数のピン孔が形成されており、このピン孔にはＺ軸方向に昇降動作可能なリフトピンが埋設されている。これにより、ステージ４の表面に基板２を載置した状態でリフトピンを上昇又は下降させることにより、基板２にリフトピンの先端部分が当接した状態で、基板２の昇降動作、及び、基板２を所定の高さ位置に保持できるようになっている。

前記塗布ユニット５は、ステージ４に載置された基板２に塗布液を塗布するためのものであり、図３に示すように、一方向に延び塗布液を吐出する口金部５１と、この口金部５１の両端部分に設けられたユニット支持部５２（本発明の脚部）とを有している。本実施形態では、互いに独立して動作することができる塗布ユニット５が２台設置されている。これら塗布ユニット５は、塗布動作前では、図２に示すように、初期位置Ｐで停止している。すなわち、図２において左側の塗布ユニット５は左側の初期位置Ｐで停止しており（二点鎖線で示す）、右側の塗布ユニット５は右側の初期位置Ｐで停止している。

前記ユニット支持部５２は、口金部５１を昇降動作可能に支持するとともに、この口金部５１をＸ軸方向に移動させるためのものである。すなわち、このユニット支持部５２は、口金部５１を昇降動作させる昇降装置２０と、口金部５１を走行させる走行装置１０とを有している。

昇降装置２０は、図３に示すように、口金部５１を昇降動作させるものであり、Ｚ軸方向に延びるガイドレール２１と、口金部５１と連結されるスライダ２２とを有している。このガイドレール２１には、スライダ２２がガイドレール２１に沿ってスライド自在に取り付けられている。また、スライダ２２にはサーボモータにより駆動されるボールねじ機構が取り付けられており、このサーボモータを駆動制御することにより、スライダ２２がＺ軸方向に移動するとともに、任意の位置で停止できるようになっている。これにより、口金部５１は、Ｚ軸方向への昇降動作が駆動制御され、ステージ４に対して接離可能に動作するようになっている。

走行装置１０は、図３に示すように、口金部５１をＸ軸方向に走行させるためのものであり、スライド支持部１１とリニアモータ１２とを有している。

このスライド支持部１１は、レール６との間に設けられるエアベアリング１４（本発明の軸受け部）によってレール６上に支持されている。そして、スライド支持部１１に取り付けられたリニアモータ１２を駆動制御することにより、スライド支持部１１がＸ軸方向に移動するようになっている。具体的には、スライド支持部１１に設けられたエアベアリング１４にはコンプレッサが接続されており、このコンプレッサを作動させることにより、エアベアリング１４からガイド面６１ａ、６２ａ側にエアが供給される。そして、エアベアリング１４とガイド面６１ａ、６２ａとの間にエアが供給されることにより、スライド支持部１１がガイド面６１ａ、６２ａから浮上する状態に維持される。そして、スライド支持部１１が浮上する状態においてリニアモータ１２を駆動させることにより、スライド支持部１１がＸ軸方向に移動するようになっている。すなわち、塗布ユニット５は、リニアモータ１２を駆動させることにより、エアベアリング１４がレール６から浮上した状態で、Ｘ軸方向に沿って走行することができるようになっている。

また、塗布ユニット５はＸ軸方向における位置が検出されるようになっている。すなわち、レール６上には、ガイド面６２ａに沿ってスケール１５ｂが設けられている。そして、スライド支持部１１には、このスケール１５ｂと対向する位置にスケール読取部１５ａが取り付けられており、このスケール読取り部１５ａによりスケール１５ｂを読み取ることにより、塗布ユニット５が走行中であっても、現在における塗布ユニット５の位置を精度よく検出できるようになっている。

これにより、塗布ユニット５は、初期位置ＰからＸ軸方向において移動終了位置Ｑまで移動することができるとともに、これらを含めた任意の位置で停止できるようになっている。なお、この移動終了位置Ｑは、塗布動作終了後、塗布ユニット５が基板２の取出しの妨げになることのない位置である。

前記口金部５１は、基板２上に塗布液を吐出するものである。この口金部５１は、Ｙ軸方向に延びる形状を有する柱状部材であり、ステージ４の表面と対向する側には塗布液を吐出するノズル５１ａ（図３参照）が形成されている。このノズル５１ａは、ステージ４の表面側に突出し、この突出した部分にはＹ軸方向に延びる形状のスリットが形成されている。すなわち、このスリットを通じて口金部５１に供給された塗布液が基板２の表面に吐出されるようになっている。

本実施形態では、塗布ユニット５は、初期位置ＰからＸ軸方向に移動し、吐出開始位置Ｓで塗布液の吐出が開始されるとともに吐出終了位置Ｔで塗布液の吐出を終了させ、さらに、移動終了位置Ｑまで移動できるようになっている。

また、分割ベース部３２上には、口金部５１を清掃する清掃装置７が設けられている。この清掃装置７は、スクレーパとトレイとを有しており、スクレーパにより口金部５１のノズル付近に付着した塗布液の残留物を掻き取って、剥がれた付着物をトレイにて受け取るように構成されている。本実施形態では、清掃装置７が分割ベース部３２上に２カ所設けられており、図２において右側の塗布ユニット５が右側の清掃装置７で清掃されるとともに、左側の塗布ユニット５が左側の清掃装置７で清掃されるようになっている。なお、初期位置Ｐは、この清掃装置７上に口金部５１が位置する状態である。

次に、この塗布装置の組み立て作業について説明する。

まず、分割ベース部３２を基準ベース部３１の所定位置に配置する。具体的には、基準ベース部３１の基準ベース側連結部３３にそれぞれ分割ベース部３２を対向させて配置する。そして、基準ベース部３１のガイド面６２ａと分割ベース部３２のガイド面６２ａとの高さ位置がほぼ同じになるように、基準ベース部３１及び分割ベース部３２における支持部３２ｂの高さ調節部を調節する。このとき、基準ベース部３１及び分割ベース部３２は、それぞれの支持部３１ｂ、３２ｂにより独立して連結される姿勢を維持することができる。

次に、分割ベース部３２をボルトにより基準ベース部３１に固定する。すなわち、分割ベース部３２と基準ベース部３１との組付け精度の確認及び調節を行って固定する。具体的には、基準ベース部３１及び分割ベース部３２のレール部６１、６２のガイド面６１ａ、６２ａを計測することにより、これらのずれ量が所定範囲になるように調節して固定する。

次に、精度よく基台３の組付け作業が完了した後、塗布ユニット５等を組付ける。すなわち、塗布ユニット５のエアベアリング１４がレール６のガイド面６１ａ、６２ａに対向するように組付けるとともに、分割ベース部３２上に清掃装置７を組付ける。

次に、この塗布装置における動作について、図６に示すフローチャート及び図７に示す塗布ユニット５とレール６等との位置関係を示す概略図を参照しながら説明する。なお、以下の説明では、一方の塗布ユニット５（図２において左側）によって塗布動作を行う場合について説明するものとし、他方の塗布ユニット５（図２において右側）については、一方の塗布ユニット５の塗布動作と同様であるため説明は省略する。

まず、ステップＳ１において、基板２の搬入が行われる。すなわち、図示しないロボットハンドにより基板２が搬入される。具体的には、ステージ４の表面から複数のリフトピンが突出した状態で待機されており、これらのリフトピンの先端部分に基板２が載置される。そして、リフトピンを下降させて基板２をステージ４の表面に載置し、この状態で真空ポンプを作動させて吸引孔に吸引力を発生させることにより、基板２をステージ４の表面上に吸着させて保持させる。

次に、ステップＳ２において、塗布ユニット５が初期位置Ｐに位置しているか否かの確認が行われる。具体的には、塗布ユニット５に設けられた位置検出器１５ａ、１５ｂにより、それぞれの塗布ユニット５が初期位置Ｐに位置しているか否か判断される。そして、塗布ユニット５が初期位置Ｐに位置していないと判断した場合には、ステップＳ２においてＮＯの方向に進み、リニアモータ１２を駆動制御することにより、それぞれの塗布ユニット５を初期位置Ｐに復帰させる（ステップＳ３）。すなわち、塗布ユニット５は、図７（ａ）に示す位置に配置された状態となる。

ステップＳ２において、塗布ユニット５がそれぞれの初期位置Ｐに位置している場合には、ステップＳ２においてＹＥＳの方向に進み、塗布動作が行われる（ステップＳ４）。具体的には、塗布動作を行う塗布ユニット５（図７において左側）がレール６の延長部６ｂを走行し、吐出開始位置Ｓまで移動する（図７（ｂ））。このとき、レール６の分割部６３を通過するため、塗布ユニット５の定速走行性に影響する虞れがあるが、塗布液は未だ吐出されていないため、分割部６３の通過が塗布ムラの発生に影響することを抑えることができる。

そして、吐出開始位置Ｓから塗布ユニット５の口金部５１から塗布液が吐出され、その状態で塗布ユニット５がレール６の塗布走行部６ａを走行することにより、基板上に塗布液が塗布される。そして、塗布ユニット５が吐出終了位置Ｔに達すると塗布液の吐出が停止した後、さらにレール６の延長部６ｂを走行して移動終了位置Ｑで停止する（図７（ｃ））。

塗布動作が終了すると、次に初期位置復帰動作が行われる（ステップＳ５）。すなわち、塗布ユニット５のリニアモータ１２を駆動制御することにより、塗布ユニット５をもとの初期位置Ｐに位置させる（図７（ｄ））。このとき、塗布ユニット５がレール６の分割部６３を通過するが、塗布液は吐出されていないため、分割部６３の通過が塗布ムラの発生に影響することを抑えることができる。

次に、塗布ユニット５の清掃処理が行われる（ステップＳ６）。具体的には、図７（ｅ）に示すように、初期位置Ｐに位置した塗布ユニット５の口金部５１を下降させることにより、口金部５１の下方部分と清掃装置７のスクレーパを接触させる。この状態からスクレーパを口金部５１の延びる方向に移動させることにより、スリットノズル５１ａ付近の付着物が掻き取られ、口金部５１のノズル部分の清掃が完了する。

次に、基板２の取出しが行われる（ステップＳ７）。具体的には、リフトピンを上昇させることにより、リフトピンの先端部分で基板２を保持する。そして、図示しないロボットハンドに基板２の受け渡しが行われ、ステージ４表面から基板２が排出される。

このように、本実施形態における塗布装置によれば、塗布ユニット５がレール６の塗布走行部６ａを走行して基板上に塗布液を吐出する塗布動作が行われ、この塗布動作が終了すると塗布液の吐出を停止して、レール６の延長部６ｂを走行する。すなわち、塗布動作を実行する場合には、塗布ユニットがレール６の分割部６３分の存在しない塗布走行部６ａを走行し、塗布動作が終了した後、分割部６３が存在する延長部６ｂを走行するため、この分割部６３が塗布動作に与える影響を抑制ことができる。したがって、レール６の分割部６３をレール６の延長部６ｂに形成することにより、大型の塗布基板を生産するためにレール６を分割構造にした場合であっても、レール６の不連続面の影響により塗布ムラが発生する問題を解消することができる。

また、それぞれの分割ベース部３２が独立して基準ベース部３１と連結する姿勢を維持することができるため、レール６の組付け作業を容易にすることができる。

また、上記実施形態では、分割部６３を塗布走行部６ａから所定寸法離れた延長部６ｂに設ける例について説明したが、塗布走行部６ａに隣接する位置、すなわち、塗布走行部６ａ直前位置、直後位置に設けるものであってもよい。この場合であっても、塗布ユニット５が塗布動作を行う塗布走行部６ａに分割部６３が存在しないため、分割部６３が塗布ユニット５の定速走行性を維持することができ、塗布ムラが発生する問題を解消することができる。

また、上記実施形態では、分割ベース部３２に近接する基準ベース部３１の支持部３１ｂと、基準ベース部３１に近接する分割ベース部３２の支持部３２ｂの支持部３２ｂとの間隔寸法が、β（＜α）である例について説明したが、当該支持部３１ｂと支持部３２ｂとが隣接する（β≒０）ものであってもよい。これにより、塗布ユニット５がレール６の分割部６３を通過した際の僅かな撓みの発生を有効に抑制することができるため、塗布ユニット５が分割部６３を通過した際の塗布ムラの発生を抑えることができる。

本発明の一実施形態における塗布装置を示す概略上面図である。上記塗布装置の側面図である。上記塗布装置のユニット支持部付近を示す図である。基準ベース部を示す図であり、（ａ）は、Ｙ軸方向から見た図、（ｂ）は、Ｘ軸方向から見た図である。分割ベース部を示す図であり、（ａ）は、Ｙ軸方向から見た図、（ｂ）は、Ｘ軸方向から見た図である。上記塗布装置の動作を示すフローチャートである。塗布ユニットとレールとの位置関係を示す概略図である。

符号の説明

２基板
３基台
５塗布ユニット
６レール
６ａ塗布走行部
６ｂ延長部
１４エアベアリング
３１基準ベース部
３２分割ベース部
３１ｂ、３２ｂ支持部
６１ａ、６２ａガイド面
６３分割部

Claims

基板を保持するステージと、
前記ステージに沿って特定方向に延びるとともに複数に分割されたレールと
前記レール上を走行しつつ塗布液を吐出することにより、基板上に塗布液を塗布する塗布ユニットと、
を備えており、
前記レールは、前記塗布ユニットが塗布液の吐出開始から吐出終了まで走行する塗布走行部と、この塗布走行部から特定方向に延長された延長部とを有しており、この延長部にに前記レールを分割する分割部が形成されていることを特徴とする塗布装置。
前記レールを設置する基台をさらに備え、前記基台は、前記塗布走行部を含むレールが設置された基準ベース部と、前記延長部が設置された分割ベース部とを有しており、この基準ベース部と分割ベース部とが連結されることにより、前記塗布走行部と前記延長部とが前記特定方向に配列された状態で前記レールが基台に設置されることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
前記基準ベース部及び分割ベース部には、これらを支持する支持部が取り付けられており、この支持部により、基準ベース部及び分割ベース部は、それぞれ前記レールが連結される姿勢に維持されることを特徴とする請求項２に記載の塗布装置。
前記塗布ユニットは塗布液を吐出する口金部とこの口金部を支持する脚部とを有しており、前記基準ベース部の支持部のうち分割ベース部に最も近接する位置に取り付けられた支持部と、前記分割ベース部の支持部のうち基準ベース部に最も近接する位置に取り付けられた支持部との間隔寸法が、前記塗布ユニットの脚部の特定方向寸法よりも小さく設定されていることを特徴とする請求項３に記載の塗布装置。
前記支持部は、前記レールの高さ位置を調節する高さ調節部を有することを特徴とする請求項３又は４に記載の塗布装置。