JP2008268649A - 電子写真装置用クリーニングブレード及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】球形（真球状、異形状）で、かつ、小粒径の重合法トナーを使用した場合であっても、優れたクリーニング性（特に、低温低湿下でのクリーニング性）を有する電子写真装置用クリーニングブレードを提供する。
【解決手段】弾性ゴム部材１１及び支持部材１２を有する電子写真装置用クリーニングブレードであって、上記弾性ゴム部材は、エッジ層２１及び上記エッジ層以外の層を有する２層以上の複層構造を有し、かつ、上記エッジ層を上側にした３点曲げ試験において、たわみ及び曲げ荷重のヒステリシスロス（Ｂ／Ａ）が下記式（１）；Ｂ／Ａ＜０．５ （１）の特性を満たす材料からなる電子写真装置用クリーニングブレード。
【選択図】図１

Description

本発明は、電子写真装置用クリーニングブレード及びその製造方法に関する。

普通紙を記録紙として用いる電子写真装置では、一般に、像担持体の表面に放電により静電荷を与え、その上に画像を露光して静電潜像を形成し、次に、帯電したトナーを静電潜像に付着させて現像し、そのトナー像を記録紙に転写し、最後に、トナー像が転写された記録紙を加熱加圧し、トナーを記録紙上に定着させることによって複写が行われる。

従って、複数枚の記録紙に順次複写を行うためには、上記の工程において、像担持体より記録紙にトナー像を転写した後、像担持体の表面に残留したトナーを除去する必要があり、このようなトナーの除去は、通常、電子写真装置用クリーニングブレードにより行われている。電子写真装置用クリーニングブレードとしては、金属板からなる支持部材、弾性ゴム部材及び支持部材と弾性ゴム部材とを接合するための接着剤層からなるものが広く使用されている。

近年電子写真装置でより高品質な印刷物が要求されており、従来の粉砕法トナーに比べその形状が球形（真球状、異形状）で、かつ、小粒径の重合法トナーが使用されるようになっている。このような重合法トナーは転がり易いため、残留トナーのすり抜けによるクリーニング不良が生じ易い。

このため、重合法トナーを用いた電子写真装置において従来のクリーニングブレードを適用した場合、充分なクリーニング性が得られないという問題が生じ、特に低温低湿下におけるクリーニング性が悪くなってしまう。

特許文献１〜４には、エッジ層及びベース層からなる２層構造の弾性ゴム部材と支持部材とを有する電子写真装置用クリーニングブレードが開示されている。しかしながら、ここで開示されているクリーニングブレードを使用した場合、クリーニング性（特に、低温低湿下）に劣ることがある。
特開２００３−２９５９４号公報 特開２００２−２１４９８９号公報 特開２００２−２１４９９０号公報 特開２００７−１１０４７号公報

本発明は、上記現状に鑑み、球形（真球状、異形状）で、かつ、小粒径の重合法トナーを使用した場合であっても、優れたクリーニング性（特に、低温低湿下でのクリーニング性）を有する電子写真装置用クリーニングブレードを提供することを目的とするものである。

本発明は、弾性ゴム部材及び支持部材を有する電子写真装置用クリーニングブレードであって、上記弾性ゴム部材は、エッジ層及び上記エッジ層以外の層を有する２層以上の複層構造を有し、かつ、上記エッジ層を上側にした３点曲げ試験において、たわみ及び曲げ荷重のヒステリシスロス（Ｂ／Ａ）が下記式（１）；
Ｂ／Ａ＜０．５ （１）
の特性を満たす材料からなることを特徴とする電子写真装置用クリーニングブレードである。

上記弾性ゴム部材は、エッジ層及びベース層からなる２層構造を有し、かつ、上記エッジ層を上側にした３点曲げ試験において、たわみ及び曲げ荷重のヒステリシスロス（Ｂ／Ａ）が下記式（１）；
Ｂ／Ａ＜０．５ （１）
の特性を満たす材料からなることが好ましい。

上記エッジ層がポリカプロラクトンポリオール及び／又はポリエステルポリオールをポリオール成分とするポリウレタンからなり、かつ、上記エッジ層以外の層の少なくとも１層がポリカプロラクトンポリオール及び／又はポリエステルポリオールをポリオール成分とするポリウレタンからなることが好ましい。

本発明はまた、遠心成形法を用いた上述の電子写真装置用クリーニングブレードの製造方法であって、金型の内側にシリコーンゴムの成形体を製造する工程（Ｉ）と、上記工程（Ｉ）で得られたシリコーンゴムの成形体上に、弾性ゴム部材のエッジ層を構成する成形体を製造する工程（ＩＩ）と、上記工程（ＩＩ）で得られたエッジ層を構成する成形体上に、弾性ゴム部材のエッジ層以外の層を構成する成形体を製造する工程（ＩＩＩ）とを含み、得られた弾性ゴム部材を構成する成形体は、エッジ層を上側にした３点曲げ試験において、たわみ及び曲げ荷重のヒステリシスロス（Ｂ／Ａ）が下記式（１）；
Ｂ／Ａ＜０．５ （１）
の特性を満たす材料からなることを特徴とする電子写真装置用クリーニングブレードの製造方法でもある。

上記製造方法において、上記シリコーンゴムの成形体は、ケイ素原子に結合する脂肪族不飽和炭化水素基を少なくとも２個有するオルガノポリシロキサン、ケイ素原子に結合する水素原子を少なくとも２個有するオルガノハイドロジエンポリシロキサン、及び、白金系触媒を含む付加硬化型シリコーンゴム組成物から得られるものであることが好ましい。
以下、本発明を詳細に説明する。

〔電子写真装置用クリーニングブレード〕
本発明の電子写真装置用クリーニングブレード（以下、単に「クリーニングブレード」ともいう）の弾性ゴム部材は、エッジ層及び上記エッジ層以外の層を有する２層以上の複層構造を有している。また、上記弾性ゴム部材は、上記エッジ層を上側にした３点曲げ試験において、たわみ及び曲げ荷重のヒステリシスロス（Ｂ／Ａ）がＢ／Ａ＜０．５の特性を満たす材料からなる。弾性ゴム部材がこのようなヒステリシスロス特性を有しているため、本発明のクリーニングブレードを使用した場合、トナーとして球形（真球状、異形状）で、小粒径の重合法トナーを使用した場合であっても、優れたクリーニング性（特に低温低湿下）が発揮される。

本発明の電子写真装置用クリーニングブレードを使用した場合に、優れたクリーニング性（特に低温低湿下）が得られる理由は明らかではないが、以下に説明する作用が発揮されるためであると推察される。

図１（ｉ）は、２層以上の複層構造の弾性ゴム部材を有する本発明の電子写真装置用クリーニングブレードの一例を示したものであり、エッジ層及びベース層（エッジ層以外の層）からなる２層構造の弾性ゴム部材を有するものである。図１（ｉ）のクリーニングブレードは、弾性ゴム部材１１、支持部材１２及び接着剤層１３を有するものであり、上記弾性ゴム部材１１は、エッジ層２１及びベース層２２の２層構造を有している。図１（ｉｉ）は、このような構成のクリーニングブレードを使用した場合の像担持体（相手材）１４の表面のクリーニング挙動を示した模式図であり、相手材１４の動作中に、エッジ層２１におけるエッジが相手材１４上の残留トナー（図示せず）を掻き取っている状態を示している。

重合法トナーを使用した電子写真装置においてクリーニングブレードを適用した場合、特に低温低湿下でクリーニング性が低下するケースが多いが、弾性ゴム部材１１がエッジ層２１側の面２３を上側にして３点曲げ試験を行った場合にヒステリシスロス特性が０．５未満という小さい値を示すものであると、弾性ゴム部材全体としてのゴム弾性を維持できることにより、特に低温低湿下でのクリーニング性を向上させることが可能になったと推察される。

優れたクリーニング性（特に低温低湿下）は、図１（ｉ）で示した２層構造の弾性ゴム部材の場合だけでなく、３層以上の構造（更に他の層を有する）の弾性ゴム部材の場合も得られる。そして、この場合も上記と同様の作用機能が発揮されていると推察される。従って、本発明では、以上に説明した作用機能が発揮されることにより、上記重合法トナーを使用した場合であっても、優れたクリーニング性（特に低温低湿下）を得ることが可能になったと推察される。

上記電子写真装置用クリーニングブレードは、弾性ゴム部材及び支持部材を有するものである。
上記弾性ゴム部材は、上記クリーニングブレードの使用時に、像担持体表面のトナー及び外添剤等を掻き取るものである。上記弾性ゴム部材は、エッジ層及び上記エッジ層以外の層を有する２層以上の複層構造を有している。

上記エッジ層は、弾性ゴム部材の相手材と当接させる側に位置するブレード長さ方向の層である。一方、上記エッジ層以外の層は、２層以上の複層構造の弾性ゴム部材におけるエッジ層以外のブレード長さ方向の層である。上記エッジ層以外の層は、１層のみ有するもの、その層以外に更に他の層を１層又は２層以上有するもののいずれであってもよい。

上記弾性ゴム部材は、上記エッジ層を上側にした３点曲げ試験において、たわみ及び曲げ荷重のヒステリシスロス（Ｂ／Ａ）がＢ／Ａ＜０．５の特性を満たす材料からなるものである。上記特性を有する弾性ゴム部材を用いることにより、優れたクリーニング性（特に低温低湿下）を得ることができる。このような効果は、上述した作用が発揮されることにより得られると推察される。

本明細書において、３点曲げ試験は、ＪＩＳ Ｋ ７２０３に準じた方法である（硬質プラスチックの曲げ試験方法（１９８２））。なお、下記については記載の条件で試験を行う。
試験片の寸法：長さ４０ｍｍ、幅５．０ｍｍ、高さ２．０ｍｍ
試験速度（圧縮速度）：２０ｍｍ／分
たわみ：３．０ｍｍ
支点間距離：３２ｍｍ

上記エッジ層を上側にした３点曲げ試験は、複層構造の弾性ゴム部材をエッジ層側の面が上側（加圧くさびで加圧される側）となるように試験装置に静置して行われる試験であり、たわみ０〜３．０ｍｍの範囲内で曲げ荷重が連続的に測定される。例えば、図１の弾性ゴム部材１１では、エッジ層側の面２３が上側となるように弾性ゴム部材１１を静置し、その面２３に対して加圧くさびを矢印方向２４に加圧して、たわみを０〜３．０ｍｍの範囲内で連続的に変位させる間に曲げ荷重が連続的に測定される。なお、本発明における３点曲げ試験は、たわみを０ｍｍから３．０ｍｍに変位させた（曲げた）後、続いて３．０ｍｍから０ｍｍに変位させる（曲げを戻す）ことで行われる。

上記３点曲げ試験において、たわみ及び曲げ荷重のヒステリシスロス（Ｂ／Ａ）は、下記Ａ（面積）に対する下記Ｂ（面積）の比Ｂ／Ａ（面積比）である。
Ａ：試験装置に静置した弾性ゴム部材をたわみ０ｍｍの状態からたわみ３．０ｍｍの状態まで試験速度（圧縮速度）２０ｍｍ／分で変位させる（曲げる）３点曲げ試験において、試験で得られたたわみ（ｍｍ）及び曲げ荷重（ｇｆ）の関係曲線による面積値。
Ｂ：上記Ａの面積値と、上記によってたわみ３．０ｍｍの状態まで変位させた弾性ゴム部材を更にたわみ０ｍｍの状態まで試験速度（圧縮速度）２０ｍｍ／分で変位させる（戻す）３点曲げ試験において、試験で得られたたわみ（ｍｍ）及び曲げ荷重（ｇｆ）の関係曲線による面積値との差。

上記ヒステリシスロス（Ｂ／Ａ）について、以下図２を用いて更に具体的に説明する。
図２は、本発明における３点曲げ試験で得られたたわみ（ｄ）及び曲げ荷重（Ｆ）の関係曲線の一例である。
図２においては、先ず、たわみ（ｄ）０ｍｍから３．０ｍｍまで変位させる（曲げる）間に連続的に曲げ荷重値を測定して得られたたわみ−曲げ荷重曲線〔（イ）→（ロ）→（ハ）の曲線（図２の例では直線）〕が示されている。上記Ａは、曲げ荷重（Ｆ）＝０（ｇｆ）の直線、たわみ（ｄ）＝３．０（ｍｍ）、及び、（イ）→（ロ）→（ハ）の曲線によって囲まれた面積値（斜線部の面積値）である。

図２には、更に、上記で変位させた（曲げた）たわみ（ｄ）３．０ｍｍの状態をたわみ０ｍｍまで変位させる（戻す）間に連続的に曲げ荷重値を測定して得られたたわみ−曲げ荷重曲線〔（ハ）→（ニ）→（ホ）の曲線〕が示されている。上記Ｂは、（イ）→（ロ）→（ハ）の曲線、及び、（ハ）→（ニ）→（ホ）の曲線によって囲まれた面積値（縦線部の面積値（縦線と斜線が交差している部分の面積値））である。言い換えると、上記Ｂは、上記Ａの面積値−〔曲げ荷重（Ｆ）＝０（ｇｆ）の直線、たわみ（ｄ）＝３．０（ｍｍ）、及び、（ハ）→（ニ）→（ホ）の曲線によって囲まれた面積値〕である。

本発明では、上記ヒステリシスロス（Ｂ／Ａ）の値が０．５未満であるが、Ｂ／Ａ≧０．５であると、クリーニング性（特に低温低湿下）が低下するおそれがある。上記弾性ゴム部材は、好ましくは０．２≦Ｂ／Ａ≦０．４の特性を満たすものである。

上記Ａ（面積値）は、１５〜４５（ｍｍ×ｇｆ）であることが好ましい。１５未満であると、クリーニングに必要な圧接力を保持することができない（トナーがすり抜ける）おそれがある。４５を超えると、圧接力が大きくなり過ぎ、異音発生や、反転めくれが起き易くなる。

本発明において、上記式（１）の特性を満たす弾性ゴム部材は、エッジ層を構成する材料、支持部材と接合する層（ベース層等）を構成する材料を適当に選択して得ることができる。また、上記好ましい範囲内のＡを有する弾性ゴム部材も、エッジ層を構成する材料、支持部材と接合する層（ベース層等）を構成する材料を適当に選択して得ることができる。

なお、「支持部材と接合する層」とは、複層構造の弾性ゴム部材の層のうち、支持部材と接合させる層であり、例えば、図１のエッジ層２１及びベース層２２からなる２層構造の弾性ゴム部材を有するクリーニングブレードでは、ベース層２２が該当し、その層２２は接着剤層１３を介して支持部材１２と接合している。一方、エッジ層２１は支持部材１２と接合していない。ここで、接合とは、接し合っていることを意味する。

上記弾性ゴム部材は、上記エッジ層の厚み（ａ）と、上記エッジ層の厚み（ａ）及び上記エッジ層以外の層の総厚み（ｂ）の和（ａ＋ｂ）との比（ａ／（ａ＋ｂ））が、０．０３〜０．９７であることが好ましい。これにより、優れたクリーニング性（特に低温低湿下）を得ることができる０．０７〜０．４０であることがより好ましい。

上記エッジ層の厚み（ａ）が、０．１〜２．９ｍｍであることが好ましい。これにより、優れたクリーニング性（特に低温低湿下）を得ることができる。０．２〜０．４ｍｍであることがより好ましい。

上記弾性ゴム部材は、エッジ層及びベース層からなる２層構造を有し、かつ、上記エッジ層を上側にした３点曲げ試験において、たわみ及び曲げ荷重のヒステリシスロス（Ｂ／Ａ）が上記式（１）の特性を満たす材料からなることが好ましい。この場合、ベース層がエッジ層以外の層に該当し、エッジ層以外の層はこのベース層の１層のみである。また、エッジ層及びベース層の２層構造の弾性ゴム部材において、ヒステリシスロス（Ｂ／Ａ）は上述した曲げ試験と同様の方法で測定される値である。

上記ベース層は、２層構造の弾性ゴム部材の支持部材側に位置するブレード長さ方向の層である。図１のクリーニングブレードでは、上記エッジ層は支持部材と接合しておらず、上記ベース層は接着剤層を介して支持部材と接合している。

上記弾性ゴム部材がエッジ層及びベース層からなる２層構造を有するものである場合において、上記式（１）の特性を満たさないと、上記と同様の問題が生じる。また、ヒステリシスロス（Ｂ／Ａ）、Ａの好ましい範囲は、エッジ層以外の層において述べた範囲と同様である。更に、エッジ層の厚みとエッジ層及びベース層の厚みの和との比、エッジ層の厚みの好ましい範囲も同様である（この場合、ベース層の厚みが上述したエッジ層以外の層の総厚み（ｂ）に該当する）。

上記エッジ層、エッジ層以外の層の少なくとも１層（ベース層等）は、ともにポリウレタンからなるものであることが好ましい。これにより、優れたクリーニング性（特に低温低湿下）を得ることができる。上記弾性ゴム部材を形成するポリウレタンとしては、ポリオール、ポリイソシアネート及び必要に応じて架橋剤を反応させて得られるもの等を挙げることができる。

上記ポリオールとしては特に限定されず、例えば、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリカプロラクトンポリオール等を挙げることができる。なかでも、優れたクリーニング性（特に低温低湿下）を得ることができる点から、ポリエステルポリオール、ポリカプロラクトンポリオールが好ましく、ポリカプロラクトンポリオールが特に好ましい。これらは、単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

上記ポリオールは、数平均分子量が１０００〜３０００であることが好ましい。上記範囲内のポリオールを用いることにより、優れたクリーニング性（特に低温低湿下）を得ることができる。

上記ポリエステルポリオールとしては、例えば、ジカルボン酸とグリコールとを常法に従って反応させることにより得ることができるものを挙げることができる。
上記ジカルボン酸としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸等の脂肪族ジカルボン酸、オキシ安息香酸等のオキシカルボン酸、それらのエステル形成性誘導体等を挙げることができる。上記グリコールとしては、例えば、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、トリエチレングリコール等の脂肪族グリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール等の脂環族グリコール、ｐ−キシレンジオール等の芳香族ジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオキシアルキレングリコール等を挙げることができる。これらによるポリエステルポリオールは、線状構造であるが、３価以上のエステル形成成分を用いて分枝状ポリエステルであってもよい。なかでも、優れたクリーニング性（特に低温低湿下）を得ることができる点から、上記ジカルボン酸としては、脂肪族ジカルボン酸が好ましく、アジピン酸が特に好ましい。上記グリコールとしては、脂肪族グリコールが好ましく、エチレングリコール、１，４−ブタンジオールが更に好ましい。

上記ポリエーテルポリオールとしては、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、それらの共重合体等のポリアルキレングリコール等を挙げることができる。

上記ポリカプロラクトンポリオールとしては、例えば、触媒の存在下に低分子量グリコールを開始剤としてε−カプロラクトンを開環付加させることにより得ることができるものを挙げることができる。上記低分子量グリコールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−ブチレングリコール、ネオペンチルグリコール等の２価のアルコールとトリメチレングリコール、グリセリン等の３価のアルコールが好ましく用いられる。上記触媒としては、テトラブチルチタネート、テトラプロピルチタネート、テトラエチルチタネート等の有機チタン系化合物、オクチル酸スズ、ジブチルスズオキシド、ジブチルスズラウレート、塩化第１スズ、臭化第１スズ等のスズ系化合物等が好ましく用いられる。なお、上記ε−カプロラクトン以外にもトリメチルカプロラクトンやバレロラクトンのような他の環状ラクトンを一部混合してもかまわない。

上記ポリイソシアネートとしては特に限定されず、従来公知のものを使用することができ、例えば、脂肪族イソシアネート、脂環族イソシアネート、芳香族イソシアネート等を挙げることができる。なかでも、優れたクリーニング性（特に低温低湿下）を得ることができる点から、芳香族イソシアネートが好ましい。

上記脂肪族イソシアネートとしては、例えば、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート等が挙げられる。また、ヘキサメチレンジイソシアネートやイソホロンジイソシアネートのイソシアヌレート体、ビウレット体、アダクト体の変性体等を挙げることができる。上記脂環族イソシアネートとしては、例えば、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、４，４′−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、１，４−シクロヘキサンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート（ＮＢＤＩ）等の脂環族ジイソシアネート等を挙げることができる。上記芳香族イソシアネートとしては、例えば、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、フェニレンジイソシアネート、４，４′−ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、１，５−ナフタレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、カルボジイミド変性のＭＤＩ、ウレタン変性のＭＤＩ等を挙げることができる。上記ポリイソシアネートのなかでも、優れたクリーニング性（特に低温低湿下）を得ることができる点から、ＭＤＩ、ウレタン変性のＭＤＩが好ましく、ＭＤＩが特に好ましい。

上記ポリウレタンにおいて、必要に応じて用いられる架橋剤としては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリメチロールプロパン、グリセリン、ヒドラジン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、４，４′−ジアミノジフェニルメタン、４，４′−ジアミノジシクロヘキシルメタン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシプロピル）アニリン、水等を挙げることができる。なかでも、優れたクリーニング性（特に低温低湿下）を得ることができる点から、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、トリメチロールプロパン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシプロピル）アニリンが好ましく、特に１，４−ブタンジオール及びトリメチロールプロパンを併用することが好ましい。

上記ポリウレタンは、上記原料を使用し公知の方法で製造することができ、例えば、適当な有機溶剤中で必要に応じて触媒を使用し、各原料の当量比をＮＣＯ／ＯＨ＝１．０２〜１．１８に調整して反応させること、無溶剤で溶融反応させること等により製造することができる。また、全原料を同時に反応させる方法、プレポリマー方法等により製造することができる。

上記ポリウレタンからなる弾性ゴム部材の成形方法としては特に限定されず、例えば、常圧注型成形、減圧注型成形、遠心成形、回転成形、押出成形、射出成形、反応射出成形（ＲＩＭ）、スピンコーティング等を挙げることができる。なかでも、優れたクリーニング性（特に低温低湿下）を得ることができる点から、遠心成形により成形して製造することが好ましい。

上記支持部材は、弾性ゴム部材を支持する機能を有するものである。上記支持部材としては特に限定されず、従来公知のものを使用することができ、例えば、剛体の金属、弾性を有する金属、プラスチック、セラミック等から製造されたもの等を挙げることができる。なかでも、剛体の金属が好ましい。

上記クリーニングブレードは、接着剤層を有するものであることが好ましい。上記接着剤層は、上記支持部材及び弾性ゴム部材間に設けられる層であり、両部材を接着させる機能を有する層である。上記接着剤層は、例えば、ＥＶＡ系、ポリアミド系、ポリウレタン系ホットメルト接着剤や、硬化型接着剤、若しくは両面テープによる接着方法又は板金による挟み込み等により形成することができる。なかでも、優れたクリーニング性（特に低温低湿下）を得ることができる点から、上記接着剤層は、ホットメルト接着剤を用いて形成されるものであることが好ましい。

上記クリーニングブレードは、従来の粉砕法トナーだけでなく、重合法トナーを用いる電子写真装置においても好適に使用することができる。上記重合法トナーとしては特に限定されず、例えば、特許第２５３７５０３号公報（乳化重合凝集法）、特開２００２−３５１１４３号公報（溶液懸濁＋重合法）、特開平９−１５９０２号公報（溶液懸濁法）等に記載の従来公知のものを使用することができる。上記重合法トナーとしては、球形（真球状、異形状）で、平均粒径が５〜８μｍのものを挙げることができる。上記平均粒径は公知の方法により得られる値（Ｄ５０）である。

〔電子写真装置用クリーニングブレードの製造方法〕
上述の電子写真装置用クリーニングブレードの製造方法としては特に限定されず、２層以上の複層構造の弾性ゴム部材を有するブレードの従来公知の製造方法によって製造することが可能であるが、以下に述べる製造方法が好ましい。このような製造方法も本発明の１つである。

本発明の電子写真装置用クリーニングブレードの製造方法は、遠心成形法を用いた製造方法であって、金型の内側にシリコーンゴムの成形体を製造する工程（Ｉ）と、上記工程（Ｉ）で得られたシリコーンゴムの成形体上に、弾性ゴム部材のエッジ層を構成する成形体を製造する工程（ＩＩ）と、上記工程（ＩＩ）で得られたエッジ層を構成する成形体上に、弾性ゴム部材のエッジ層以外の層を構成する成形体を製造する工程（ＩＩＩ）とを含み、得られた弾性ゴム部材を構成する成形体が、エッジ層を上側にした３点曲げ試験において、たわみ及び曲げ荷重のヒステリシスロス（Ｂ／Ａ）がＢ／Ａ＜０．５の特性を満たす材料からなる方法である。

本発明の製造方法では、最初に成形されたシリコーンゴム層の空気側面（遠心成形の際に内側となっていた面）に、鏡面状の面が形成されるため、続いて成形されたエッジ層のシリコーンゴム接触面も鏡面状となる。従って、弾性ゴム部材の使用面をエッジ層のシリコーンゴム接触面とすることができる。その結果、注型時に巻き込む気泡やホコリ等の異物に起因する表面不良を減少させ、生産性を向上させることができる。

また、シリコーンゴムは金型の振れを吸収した形で硬化されるため、内側の空気側面が鏡面状で、しかも高い振れ精度（金型が回転する際の、金型の中心軸から内面までの距離の最大値と最小値の差）を有するシリコーンゴム層が形成される。その結果、０．１ｍｍ以下という良好な厚み精度（一成形分のシート厚みの最大値と最小値の差）を有する弾性ゴム部材材料層を作製することができる。なお、厚み精度は０．０５ｍｍ以下であることが好ましい。

更に、上記製造方法によると、エッジ層とエッジ層以外の層とを有し、かつ、上記式（１）の特性を満たす複層構造の弾性ゴム部材が得られるため、クリーニングブレードとして使用した場合、重合法トナーを使用した場合であっても、優れたクリーニング性（特に低温低湿下）を得ることができる。

本発明の製造方法は、遠心成形法を用いた方法であり、先ず、遠心成形機の金型の内側にシリコーンゴムの成形体を製造する工程が行われる（工程（Ｉ））。遠心成形法に用いる成形機や金型としては、従来公知のものを用いることができる。シリコーンゴムの成形体の製造は、例えば、高速で回転する加熱した円筒形状の成形金型の内面に、シリコーンゴムの成形体を構成する熱硬化性材料を流し込み、加熱、硬化させることによって行うことができる。

上記工程（Ｉ）によって、金型の内面上にシリコーンゴム層（平面形状のシリコーンゴムの成形体シート）が形成される。シリコーンゴムの成形体は、離型性に優れているため、離型剤を用いなくても、その上に形成される弾性ゴム部材材料層を容易に剥離することができる。

上記工程（Ｉ）において、上記シリコーンゴムの成形体は、付加硬化型シリコーンゴム組成物から得られるものが好ましく、上記付加硬化型シリコーンゴム組成物としては、ケイ素原子に結合する脂肪族不飽和炭化水素基を少なくとも２個有するオルガノポリシロキサン、ケイ素原子に結合する水素原子を少なくとも２個有するオルガノハイドロジエンポリシロキサン、及び、白金系触媒を含むものが好ましい。この場合、高い振れ精度を有するシリコーンゴムの成形体が形成され、良好な厚み精度を有する弾性ゴム部材を作製できる。また、弾性ゴム部材のエッジ層における表面不良を改善できる。更に、得られたクリーニングブレードにおいて優れたクリーニング性（特に低温低湿下）を得ることができる。また、有機溶媒が添加されていない組成物を使用した場合、作業者の健康を害することなく、作業環境の衛生を良好に保つことができる。

上記ケイ素原子に結合する脂肪族不飽和炭化水素基を少なくとも２個有するオルガノポリシロキサンは、付加硬化型シリコーンゴム組成物のベースポリマーとなる成分であり、平均組成式（２）：Ｒ^１ _ａＲ^２ _ｂＳｉＯ_{［４−（ａ＋ｂ）］／２}で表される化合物であることが好ましい。上記式（２）において、Ｒ^１は炭素数２〜１０で表される１価の脂肪族不飽和炭化水素基を表す。好ましくは炭素数２〜６である。Ｒ^１の具体例としては、ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基等のアルケニル基が好ましく、ビニル基がより好ましい。

Ｒ^２は炭素数が１〜１２の置換又は非置換の１価の炭化水素基を表す。好ましくは炭素数１〜８である。ただし、Ｒ^２には、上記脂肪族不飽和炭化水素基は除かれる。Ｒ^２の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基等のアルキル基；フェニル基、トリル基等のアリール基；ベンジル基、フェニルエチル基等のアラルキル基；これらの基の水素原子の一部又は全部がフッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子やシアノ基で置換されているもの（クロロメチル基、ブロモエチル基、トリフルオロプロピル基、シアノエチル基等）を挙げることができる。なかでも、メチル基、フェニル基、トリフルオロプロピル基が好ましく、メチル基がより好ましい。Ｒ^２は９２モル％以上がメチル基であることが好ましく、実質的にすべてメチル基でもよい。また、耐溶剤性が求められるときは、３，３，３−トリフルオロプロピル基等、要求特性に応じて適宜、他の基を併用することができる。

上記ａ、ｂは、それぞれ０＜ａ≦１、１＜ｂ＜３、１＜ａ＋ｂ＜３の関係を満足する数を表し、好ましくは０．０００１≦ａ≦０．５、１．８≦ｂ≦２．２、１．８≦ａ＋ｂ≦２．２５の関係を満足する数である。上記式（２）で表されるオルガノポリシロキサンは、その１分子中に上記脂肪族不飽和炭化水素基の２個以上がケイ素原子と結合している。上記脂肪族不飽和炭化水素基は、分子鎖末端のケイ素原子に結合していてもよく、また分子鎖中のケイ素原子のいずれかに結合していてもよく、更には両方に結合していてもよい。なかでも、上記式（２）で表されるオルガノポリシロキサンは、上記脂肪族不飽和炭化水素基（好ましくはアルケニル基、より好ましくはビニル基）が分子鎖両末端のケイ素原子に結合しているものが好ましい。

上記オルガノポリシロキサンは、その骨格が直鎖状、分岐状又は環状のいずれであってもよいが、主鎖部分がジオルガノシロキサン単位を繰り返し単位として有し、分子鎖末端がトリオルガノシロキサン単位を有しているものが好ましい。上記トリオルガノシロキサン単位（置換又は非置換の１価の炭化水素基のみがケイ素原子に結合したトリオルガノシロキサン単位）としては、トリメチルシロキサン単位、ジメチルフェニルシロキサン単位、メチルジフェニルシロキサン単位等のビニル基を含まないもの；ジメチルビニルシロキサン単位、メチルフェニルビニルシロキサン単位等のビニル基を含むものを挙げることができ、なかでも、ビニル基を含むものが好ましい。

上記オルガノポリシロキサンの重合度（分子中のＳｉ原子の数）は、１０〜２００００であることが好ましく、１００〜１５０００であることがより好ましい。１０未満であると、充分な機械的強度（強度・伸び・硬さ）を有する硬化物が得られないおそれがある。１５０００を超えると、得られるシリコーンゴム組成物の流動性が悪化するおそれがある。

上記ケイ素原子に結合する水素原子を少なくとも２個有するオルガノハイドロジエンポリシロキサンは、ケイ素原子に結合する水素原子が上記オルガノポリシロキサンの脂肪族不飽和炭化水素基と付加反応（ヒドロシリル化）することにより、オルガノポリシロキサンの架橋剤として機能するものである。

上記オルガノハイドロジエンポリシロキサンとしては、平均組成式（３）：Ｒ^３ _ｃＨ_ｄＳｉＯ_{［４−（ｃ＋ｄ）］／２}で表される化合物であることが好ましい。Ｒ^３は、上記Ｒ^２と同一の基を表す。なかでも、炭素数が１〜４の置換又は非置換の１価の炭化水素基が好ましい。合成のしやすさ、コストの面からアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。

上記ｃ、ｄは、それぞれ０．８≦ｃ≦２．２、０．００２≦ｄ≦１、０．８＜ｃ＋ｄ＜３の関係を満足する数を表し、好ましくは１≦ｃ≦２．２、０．０１≦ｄ≦１、１．８≦ｃ＋ｄ≦２．５の関係を満足する数である。上記式（３）で表されるオルガノハイドロジエンポリシロキサンは、その骨格が直鎖状、分岐状又は環状のいずれであってもよく、またジオルガノハイドロジエンシロキサン単位とＳｉＯ_２単位を含有し、適宜にトリオルガノシロキサン単位やジオルガノシロキサン単位を含有している三次元網状構造の樹脂状物であってもよい。

上記オルガノハイドロジエンポリシロキサンは、１分子中に少なくとも２個、好ましくは３個以上の水素原子がケイ素原子と結合してＳｉＨ基が形成された化合物である。この場合、Ｈ原子は、分子鎖末端のＳｉ原子に結合していてもよく、分子鎖途中のＳｉ原子のいずれかに結合していてもよく、更には両方に結合していてもよい。また、上記オルガノハイドロジエンポリシロキサンの重合度（分子中のＳｉ原子の数）は３〜４００であることが好ましく、４〜３００であることが特に好ましい。

上記オルガノハイドロジエンポリシロキサンの具体例としては、例えば、メチルハイドロジエンシクロポリシロキサン、メチルハイドロジエンシロキサン・ジメチルシロキサン環状共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジエンポリシロキサン、両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジエンシロキサン共重合体、両末端ジメチルハイドロジエンシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、両末端ジメチルハイドロジエンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジエンシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジエンシロキサン・ジフエニルシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジエンシロキサン・ジフエニルシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体、両末端ジメチルハイドロジエンシロキシ基封鎖メチルハイドロジエンシロキサン・ジメチルシロキサン・ジフエニルシロキサン共重合体、（ＣＨ_３）_２ＨＳｉＯ_１／２単位と（ＣＨ_３）_３ＳｉＯ_１／２単位とＳｉＯ_４／２単位とからなる共重合体、（ＣＨ_３）_２ＨＳｉＯ_１／２単位とＳｉＯ_４／２単位とからなる共重合体、（ＣＨ_３）_２ＨＳｉＯ_１／２単位とＳｉＯ_４／２単位と（Ｃ_６Ｈ_５）_３ＳｉＯ_１／２単位とからなる共重合体等が挙げられる。

上記付加硬化型シリコーンゴム組成物において、上記オルガノポリシロキサンと上記オルガノハイドロジエンポリシロキサンの配合割合は、オルガノポリシロキサン中の脂肪族不飽和炭化水素基とオルガノハイドロジエンポリシロキサン中の水素原子とがモル比で１：１０〜１０：１であることが好ましく、１：３〜３：１の配合割合であることがより好ましい。

上記白金系触媒は、上記オルガノポリシロキサンとオルガノハイドロジエンポリシロキサンとの付加反応を開始させる機能を有する成分であり、例えば、白金、塩化第１白金、塩化白金酸、これらのビニルシロキサン錯体やそのアルコール変性溶液等の白金族金属化合物；ロジウム系化合物やパラジウム系化合物を挙げることができる。上記白金系触媒の配合量は、上記オルガノポリシロキサンに対して０．１〜１０００ｐｐｍであることが好ましく、１〜５００ｐｐｍであることがより好ましい。

上記付加硬化型シリコーンゴム組成物は、補強用シリカを含むものであってもよい。これは、強度特性を高めるために配合される充填剤であり、例えば、フュームドシリカ、沈降法シリカ、溶融シリカ等を挙げることができる。粒子径は２０μｍ以下であることが好ましい。また、上記補強用シリカは、オルガノシラン、オルガノシロキサン、オルガノシラザン等で予め表面処理されたものであってもよく、また上記処理剤とインプロセスで反応させたものであってもよい。上記補強用シリカの含有量は、上記オルガノポリシロキサン１００質量部に対して５〜２００質量部であることが好ましい。

上記付加硬化型シリコーンゴム組成物はまた、アセチレン化合物、リン化合物、ニトリル化合物、カルボキシレート、スズ化合物、水銀化合物、硫黄化合物等、公知の反応制御剤を含むものであってもよい。
上記付加硬化型シリコーンゴム組成物の市販品としては、例えば、ＴＳＥ３０３２（ＧＥ東芝シリコーン社製）、ＫＥ１０３（信越ポリマー社製）等を挙げることができる。

上記工程（Ｉ）においては、例えば、上記付加硬化型シリコーンゴム組成物等のシリコーンゴムの成形体の構成材料を３０〜５０℃に予熱した遠心成形機の金型内に注入し、１２０〜１８０分間硬化させることによりシリコーンゴムの成形体を製造することができる。

上記工程（Ｉ）において形成されるシリコーンゴムの成形体（シリコーンゴム層）の厚みは、０．５〜３ｍｍであることが好ましい。０．５ｍｍ未満であると、シリコーンゴム層の厚みが薄すぎるため強度がなく、金型より剥離させる際に、全てをきれいに剥離させることができないおそれがある。３ｍｍを超えると、金型の熱を有効に伝熱させることができず、形成された弾性ゴム部材材料層の特性に悪影響が発生するおそれがある。

上記電子写真装置用クリーニングブレードの製造方法は、上記工程（Ｉ）の後、工程（Ｉ）で得られたシリコーンゴムの成形体上に、弾性ゴム部材のエッジ層を構成する成形体を製造する工程が行われる（工程（ＩＩ））。また、上記工程（ＩＩ）の後、工程（ＩＩ）で得られたエッジ層を構成する成形体上に、エッジ層以外の層を構成する成形体を製造する工程が行われる（工程（ＩＩＩ））。従来公知の遠心成形の手法によって工程（ＩＩ）、（ＩＩＩ）を行うことにより、エッジ層及びエッジ層以外の層を有する複層構造の弾性ゴム部材を良好に製造することができる。エッジ層以外の層を構成する成形体は、１層のみ有するもの、その成形体以外に更に他の成形体を１層又は２層以上有するもののいずれであってもよい。また、製造したエッジ層における平滑なシリコーンゴム接触面を使用面（相手材との当接面）とすることが可能となり、また、優れたクリーニング性（特に低温低湿下）を得ることができる。

上記製造方法において、エッジ層以外の層を構成する成形体は、上述したエッジ層以外の層の材料と同様のものである。また、エッジ層を構成する成形体としては、上述したエッジ層の材料と同様のものを使用することが好ましい。

上記製造方法において、上記工程（ＩＩＩ）が工程（ＩＩ）で得られたエッジ層を構成する成形体上に、弾性ゴム部材のベース層を構成する成形体を製造する工程であり、得られた弾性ゴム部材を構成する成形体が、エッジ層を上側にした３点曲げ試験において、たわみ及び曲げ荷重のヒステリシスロス（Ｂ／Ａ）がＢ／Ａ＜０．５の特性を満たす材料からなることが好ましい。この場合、クリーニング性（特に低温低湿下）に優れた２層構造の弾性ゴム部材を有するクリーニングブレードを製造できる。

遠心成形法により、上記工程（ＩＩ）でエッジ層を構成する成形体を製造し、次いで工程（ＩＩＩ）でベース層を構成する成形体を製造する方法は、従来公知の２層構造の弾性ゴム部材材料層の形成方法により行うことができる。上記エッジ層及びベース層を構成する成形体がともにポリウレタンからなる弾性ゴム部材を製造する場合、上記工程（ＩＩ）、工程（ＩＩＩ）は、例えば、以下に示す方法を用いて行うことができる。

上記工程（ＩＩ）では、上記工程（Ｉ）により得られた遠心成形機の金型内のシリコーンゴムの成形体上に、エッジ層用材料を１３０〜１５０℃に遠心成形機を予熱して注入し、５〜１０分間硬化させる。次いで、上記工程（ＩＩＩ）では、上記工程（ＩＩ）における硬化反応の後、ベース層用材料を硬化したエッジ層上に注入し、２５〜５０分間硬化させる。シリコーンゴムの成形体から２層構造の弾性ゴム部材のシート体を剥離して金型から取り出すことにより、厚さ１〜３ｍｍの円柱状のシート体を得ることができる。これを幅８〜２０ｍｍ、長さ２２０〜５００ｍｍの短冊状にカットすることにより、弾性ゴム部材を得ることができる。

上記製造方法において、エッジ層、ベース層を構成する成形体は、プレポリマー法、ワンショット法等によって得ることができる。
プレポリマー法を用いる場合には、脱水処理を行ったポリオールとイソシアネートとを混合し、温度５０〜８０℃で１０〜６００分間反応させて得られるプレポリマーに、架橋剤等を加えて金型に注入し、硬化させる方法等により、硬化したエッジ層、ベース層を得ることができる。ワンショット法を用いる場合には、脱水処理を行ったポリオールと架橋剤とを計量し、更にそこにポリイソシアネートを加えて計量して混合して、金型に注入し、硬化させる方法等により、硬化したエッジ層、ベース層を得ることができる。

上記製造方法において、複層構造の弾性ゴム部材を得た後、通常、得られた弾性ゴム部材と支持部材とを接着させる工程（ＩＶ）が行われる。上記工程（ＩＶ）は、従来公知の方法により行うことができ、例えば、上述した接着剤を用いて接着すること等により行うことができる。上記工程（ＩＶ）において、支持部材は、上述したものと同様のものである。これにより、図１に示したクリーニングブレード等を製造することができる。

本発明の電子写真装置用クリーニングブレードは、上述した構成よりなるので、球形（真球状、異形状）で、かつ、小粒径の重合法トナーを使用した場合であっても、優れたクリーニング性（特に低温低湿下）を得ることができる。

以下本発明について実施例を掲げて更に詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。また実施例中、「部」、「％」は特に断りのない限り「質量部」、「質量％」を意味する。

実施例１〜７及び比較例１〜２ クリーニングブレードの製造（エッジ層及びベース層からなる２層構造の弾性ゴム部材）
（シリコーンゴム層の形成）
公知の遠心成形機の成形金型ドラム（内径：７００ｍｍ、奥行き：５００ｍｍ、常温での振れ精度：０．０６ｍｍ、成形時の回転数：８００ｒｐｍ、粗面状態：Ｒａ＝０．３０）を４０℃に加熱し、シリコーンゴム材料として、付加反応により硬化する付加硬化型シリコーンゴム組成物「ＴＳＥ３０３２（Ａ）」（主剤、ＧＥ東芝シリコーン社製）と「ＴＳＥ３０３２（Ｂ）」（硬化剤）との混合液（配合質量比１０：１）を、上記成形金型ドラム内に流し込み、１２０分間加熱硬化させ、シリコーンゴム層を形成した。得られたシリコーンゴム層は、空気側面が均一な鏡面状であり、厚さが０．７ｍｍであった。

（弾性ゴム部材材料層の形成）
エッジ層用材料を１４０℃に予熱した遠心成形機の金型内のシリコーンゴム層上に注入し、１０分間硬化させた。上記硬化反応の後、ベース層用材料を硬化したエッジ層上に注入し、３０分間硬化させた。上記硬化反応後、２層構造の弾性ゴム部材のシート体のみ金型から取り出すことにより、厚さ２．００ｍｍの円柱状の２層構造シート体を得ることができた。これを幅１２ｍｍ、長さ３３０ｍｍの短冊状にカットすることにより、弾性ゴム部材を得ることができた。また、弾性ゴム部材のエッジ層の表面状態（シリコーンゴム接触面）は、鏡面状態であり、欠陥は全く発見されなかった。

更に、得られた弾性ゴム部材をメッキ鋼からなる支持部材に、ポリウレタン系ホットメルト接着剤を用いて接着し、クリーニングブレードを得た。

使用したエッジ層用材料、ベース層用材料、エッジ層の厚み（ａ）、ベース層の厚み（ｂ）、ａ／（ａ＋ｂ）、エッジ層を上側にした３点曲げ試験における上記Ａ、Ｂ、ヒステリシスロス（Ｂ／Ａ）は、表１〜２に示した通りである。Ａ、Ｂ、Ｂ／Ａは、上述した方法により測定される値である。
また、表１〜２中のポリウレタンは、表３に示した配合からなるものである。

上記クリーニングブレードの製造において、各ポリウレタン材料（ポリウレタンＡ〜Ｆ）を、エッジ層用材料、ベース層用材料として金型内へ注入する方法は、以下の通りである。
脱水処理を行ったポリオールとイソシアネートとを混合し、温度７０℃で２４０分間反応させて得られるプレポリマーに、架橋剤を加えてから注入した（プレポリマー法）。
脱水処理を行ったポリオールと架橋剤とを計量し、更にそこにポリイソシアネートを加えて計量して混合して、金型に注入し（ワンショット法）。

（印字テスト）
実施例、比較例で得られたクリーニングブレードを市販の普通紙複写機（有機感光体使用、速度１０枚／分）に装着し、印字テストを行った。テストは、（１）温度２３℃、湿度５０％、（２）温度１０℃、湿度１５％の条件下で行った。印字テストは、１０００枚ごとにトナーのすり抜けが生じているか否かをチェックして、印刷物にトナーのすり抜けに起因するスジが認められた時点で終了とし、その印刷枚数を記録した。１０００００枚印刷してもスジが発生しなかったものは、そこでテストを終了した。テスト中のトナーのすり抜けや反転めくれの発生を評価した。結果を表１に示した。

表から、実施例で得られたクリーニングブレードは、常温常湿下においてトナーのすり抜けが生じなかった。また、低温低湿下においても実用上問題がないクリーニング性を有していた。一方、比較例では性能が劣っていた。

本発明の電子写真装置用クリーニングブレードは、普通紙を記録紙として用いる静電式電子写真複写機に対して好適に使用することができる。

本発明の電子写真装置用クリーニングブレードを示した模式図である。 ３点曲げ試験のたわみ（ｄ）及び曲げ荷重（Ｆ）の関係曲線の一例である。

符号の説明

１１ 弾性ゴム部材
１２ 支持部材
１３ 接着剤層
１４ 像担持体（相手材）
２１ エッジ層
２２ ベース層
２３ エッジ層側の面
２４ 加圧くさびの加圧方向（エッジ層側を上側にした場合）

Claims (5)

1. 弾性ゴム部材及び支持部材を有する電子写真装置用クリーニングブレードであって、
   前記弾性ゴム部材は、エッジ層及び前記エッジ層以外の層を有する２層以上の複層構造を有し、かつ、
   前記エッジ層を上側にした３点曲げ試験において、たわみ及び曲げ荷重のヒステリシスロス（Ｂ／Ａ）が下記式（１）；
   Ｂ／Ａ＜０．５ （１）
   の特性を満たす材料からなる
   ことを特徴とする電子写真装置用クリーニングブレード。
2. 弾性ゴム部材は、エッジ層及びベース層からなる２層構造を有し、かつ、
   前記エッジ層を上側にした３点曲げ試験において、たわみ及び曲げ荷重のヒステリシスロス（Ｂ／Ａ）が下記式（１）；
   Ｂ／Ａ＜０．５ （１）
   の特性を満たす材料からなる
   請求項１記載の電子写真装置用クリーニングブレード。
3. エッジ層がポリカプロラクトンポリオール及び／又はポリエステルポリオールをポリオール成分とするポリウレタンからなり、かつ、エッジ層以外の層の少なくとも１層がポリカプロラクトンポリオール及び／又はポリエステルポリオールをポリオール成分とするポリウレタンからなる請求項１又は２記載の電子写真装置用クリーニングブレード。
4. 遠心成形法を用いた請求項１、２又は３記載の電子写真装置用クリーニングブレードの製造方法であって、
   金型の内側にシリコーンゴムの成形体を製造する工程（Ｉ）と、
   前記工程（Ｉ）で得られたシリコーンゴムの成形体上に、弾性ゴム部材のエッジ層を構成する成形体を製造する工程（ＩＩ）と、
   前記工程（ＩＩ）で得られたエッジ層を構成する成形体上に、弾性ゴム部材のエッジ層以外の層を構成する成形体を製造する工程（ＩＩＩ）とを含み、
   得られた弾性ゴム部材を構成する成形体は、エッジ層を上側にした３点曲げ試験において、たわみ及び曲げ荷重のヒステリシスロス（Ｂ／Ａ）が下記式（１）；
   Ｂ／Ａ＜０．５ （１）
   の特性を満たす材料からなる
   ことを特徴とする電子写真装置用クリーニングブレードの製造方法。
5. シリコーンゴムの成形体は、ケイ素原子に結合する脂肪族不飽和炭化水素基を少なくとも２個有するオルガノポリシロキサン、ケイ素原子に結合する水素原子を少なくとも２個有するオルガノハイドロジエンポリシロキサン、及び、白金系触媒を含む付加硬化型シリコーンゴム組成物から得られるものである請求項４記載の電子写真装置用クリーニングブレードの製造方法。

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