JP5097432B2 - 電子写真装置用クリーニングブレード及びその製造方法 - Google Patents

電子写真装置用クリーニングブレード及びその製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、電子写真装置用クリーニングブレード及びその製造方法に関する。
普通紙を記録紙として用いる電子写真装置では、一般に、像担持体の表面に放電により静電荷を与え、その上に画像を露光して静電潜像を形成し、次に、帯電したトナーを静電潜像に付着させて現像し、そのトナー像を記録紙に転写し、最後に、トナー像が転写された記録紙を加熱加圧し、トナーを記録紙上に定着させることによって複写が行われる。
従って、複数枚の記録紙に順次複写を行うためには、上記の工程において、像担持体より記録紙にトナー像を転写した後、像担持体の表面に残留したトナーを除去する必要があり、このようなトナーの除去は、通常、電子写真装置用クリーニングブレードにより行われている。電子写真装置用クリーニングブレードとしては、金属板からなる支持部材、弾性ゴム部材及び支持部材と弾性ゴム部材とを接合するための接着剤層からなるものが広く使用されている。
近年電子写真装置でより高品質な印刷物が要求されており、従来の粉砕法トナーに比べその形状が球形(真球状、異形状)で、かつ、小粒径の重合法トナーが使用されるようになっている。このような重合法トナーは転がり易いため、残留トナーのすり抜けによるクリーニング不良が生じ易い。
従来から単層構造の弾性ゴム部材を備えたクリーニングブレードが使用されていたが、電子写真装置の起動時及び停止時に、更には運転時連続的に、弾性ゴム部材と像担持体とが摺擦することに起因して、高温高湿下において異音(鳴き)が発生するという問題がある。
特許文献1〜3には、エッジ層及びベース層からなる2層構造の弾性ゴム部材と支持部材とを有する電子写真装置用クリーニングブレードが開示されている。しかしながら、ここで開示されているクリーニングブレードは、高温高湿下での異音防止性や常温常湿下のクリーニング性を有さないことがある。
特開2003−29594号公報 特開2002−214989号公報 特開2002−214990号公報 特開2007−11047号公報
本発明は、上記現状に鑑み、球形(真球状、異形状)で、かつ、小粒径の重合法トナーを使用した場合であっても、高温高湿下の異音防止性に加えて常温常湿下のクリーニング性を向上できる電子写真装置用クリーニングブレードを提供することを目的とするものである。
本発明は、弾性ゴム部材及び支持部材を有する電子写真装置用クリーニングブレードであって、上記弾性ゴム部材は、エッジ層及び上記エッジ層以外の層を有する2層構造を有し、かつ、上記支持部材と接合する面から測定した国際ゴム硬さ計(M法)による23℃における硬度が73〜100°、そのクリープ特性が9〜20で、エッジ層側の面から測定した国際ゴム硬さ計(M法)による23℃における硬度が67〜85°、そのクリープ特性が0.5〜3.3である材料からなり、上記エッジ層の厚さが0.45〜1.60mmであることを特徴とする電子写真装置用クリーニングブレードである。
上記弾性ゴム部材において、上記エッジ層の厚み(a)と、上記エッジ層の厚み(a)及び上記エッジ層以外の層の総厚み(b)の和(a+b)との比(a/(a+b))は、0.05〜0.75であることが好ましい。
上記エッジ層以外の層がポリカプロラクトンポリオール及び/又はポリエステルポリオールをポリオール成分とするポリウレタンからなるものであることが好ましい。
上記エッジ層がポリカプロラクトンポリオール及び/又はポリエステルポリオールをポリオール成分とするポリウレタンからなり、かつ、エッジ層以外の層がポリカプロラクトンポリオール及び/又はポリエステルポリオールをポリオール成分とするポリウレタンからなるものであることが好ましい。
本発明はまた、遠心成形法を用いた上述の電子写真装置用クリーニングブレードの製造方法であって、金型の内側にシリコーンゴムの成形体を製造する工程(I)と、上記工程(I)で得られたシリコーンゴムの成形体上に、弾性ゴム部材のエッジ層を構成する成形体を製造する工程(II)と、上記工程(II)で得られたエッジ層を構成する成形体上に、弾性ゴム部材のエッジ層以外の層を構成する成形体を製造する工程(III)とを含み、得られた弾性ゴム部材を構成する成形体は、支持部材と接合する面から測定した国際ゴム硬さ計(M法)による23℃における硬度が73〜100°、そのクリープ特性が9〜20である材料からなることを特徴とする電子写真装置用クリーニングブレードの製造方法でもある。
上記製造方法において、上記シリコーンゴムの成形体は、ケイ素原子に結合する脂肪族不飽和炭化水素基を少なくとも2個有するオルガノポリシロキサン、ケイ素原子に結合する水素原子を少なくとも2個有するオルガノハイドロジエンポリシロキサン、及び、白金系触媒を含む付加硬化型シリコーンゴム組成物から得られるものであることが好ましい。
以下、本発明を詳細に説明する。
〔電子写真装置用クリーニングブレード〕
本発明の電子写真装置用クリーニングブレード(以下、単に「クリーニングブレード」ともいう)の弾性ゴム部材は、エッジ層及び上記エッジ層以外の層を有する2層以上の複層構造を有している。また、上記弾性ゴム部材は、上記支持部材と接合する面から測定した国際ゴム硬さ計(M法)による23℃における硬度が73〜100°である材料からなる。更に、上記弾性ゴム部材は、そのクリープ特性(支持部材と接合する面から測定した国際ゴム硬さ計(M法)による23℃における硬度のクリープ特性)が9〜20である材料からなる。弾性ゴム部材がこのような硬度及びクリープ特性を有しているため、クリーニングブレードとして用いた場合、トナーとして球形(真球状、異形状)で、小粒径の重合法トナーを使用した場合であっても、高温高湿下の異音防止性に加えて常温常湿下のクリーニング性を向上することが可能である。
本発明の電子写真装置用クリーニングブレードを使用した場合に、高温高湿下の異音防止性に加えて常温常湿下のクリーニング性を向上できる理由は明らかではないが、以下に説明する作用が発揮されるためであると推察される。
図1(i)は、2層以上の複層構造の弾性ゴム部材を有する本発明の電子写真装置用クリーニングブレードの一例を示したものであり、エッジ層及びベース層(エッジ層以外の層)からなる2層構造の弾性ゴム部材を有するものの一例である。図1(i)のクリーニングブレードは、弾性ゴム部材11、支持部材12及び接着剤層13を有するものであり、上記弾性ゴム部材11は、エッジ層21及びベース層22の2層構造を有している。図1(ii)は、このような構成のクリーニングブレードを使用した場合の像担持体(相手材)14の表面のクリーニング挙動を示した模式図であり、相手材14の動作中に、エッジ層21におけるエッジが相手材14上の残留トナー(図示せず)を掻き取っている状態を示している。
本発明のクリーニングブレードを使用した場合、図1(ii)で示されているように、クリーニング挙動において、支持部材12と接合するベース層22が高硬度であることにより、ブレードの使用時において、弾性ゴム部材の座屈を防止し、エッジの位置の移動を抑制できるため、常温常湿下でのクリーニング性を向上させることが可能になったと推察される。また、高温高湿下においては、異音(鳴き)が発生し易いが、弾性ゴム部材11のベース層22側の面23(支持部材と接合する面)から測定した硬度のクリープ特性の値が大きい(主荷重負荷時間の経過に伴う硬度の低下が大きい)ことにより、ベース層22において振動吸収性が発揮され、その結果、高温高湿下において異音の発生の防止が可能になったと推察される。
高温高湿下の異音防止性に加えて常温常湿下のクリーニング性を向上するという効果は、図1(i)で示した2層構造の弾性ゴム部材の場合だけでなく、3層以上の構造(更に他の層を有する)の弾性ゴム部材の場合も得られる。そして、この場合においても上記と同様の作用機能が発揮されているものと推察される。従って、本発明では、以上に説明した作用機能が発揮されることにより、上記重合法トナーを使用した場合であっても、高温高湿下の異音防止性に加えて常温常湿下のクリーニング性の向上が可能になったと推察される。
上記電子写真装置用クリーニングブレードは、弾性ゴム部材及び支持部材を有するものである。
上記弾性ゴム部材は、上記クリーニングブレードの使用時に、像担持体表面のトナー及び外添剤等を掻き取るものである。上記弾性ゴム部材は、エッジ層及び上記エッジ層以外の層を有する2層以上の複層構造を有している。
上記エッジ層は、弾性ゴム部材の相手材と当接させる側に位置するブレード長さ方向の層である。一方、上記エッジ層以外の層は、2層以上の複層構造の弾性ゴム部材におけるエッジ層以外のブレード長さ方向の層である。上記エッジ層以外の層は、1層のみ有するもの、その層以外に更に他の層を1層又は2層以上有するもののいずれであってもよい。
上記複層構造の弾性ゴム部材は、上記支持部材と接合する面から測定した国際ゴム硬さ計(M法)による23℃における硬度(以下、「接合面硬度」ともいう)が73〜100°であり、かつ、そのクリープ特性(以下、「接合面クリープ特性」ともいう)が9〜20である材料からなるものである。弾性ゴム部材として、上記特定の接合面硬度及び接合面クリープ特性を有する複層構造(2層以上)のものを用いることにより、高温高湿下の異音防止性に加えて常温常湿下のクリーニング性を向上できる。このような効果が得られるのは、上述した作用が発揮されるためであると推察される。
本明細書において、「支持部材と接合する面」は、複層構造の弾性ゴム部材における支持部材と接合させる面である。例えば、図1のエッジ層21及びベース層22からなる2層構造の弾性ゴム部材を有するクリーニングブレードでは、支持部材と接合する面23が該当し、その面23は接着剤層13を介して支持部材12と接合している。一方、エッジ層21は支持部材12と接合していない。ここで、接合とは、接し合っていることを意味する。
本明細書において、「国際ゴム硬さ計(M法)による23℃における硬度」は、JIS K 6253に準じて測定される値である。「支持部材と接合する面から測定した国際ゴム硬さ計(M法)による23℃における硬度」とは、弾性ゴム部材(複層構造)の支持部材と接合する面に略垂直方向にプランジャーの先端球を押し込んで測定して得られる値である。例えば、図1の弾性ゴム部材11では、支持部材と接合する面23が上面(先端球が押し込まれる面)となるように弾性ゴム部材11を試験機に設置し、その面23に略垂直方向24(矢印方向)に先端球を押し込むことにより接合面硬度が測定される(測定温度23℃)。また、上記硬度は相対湿度50%において測定される。
但し、JIS K 6253の国際ゴム硬さ試験(M法)では、試験片の厚さ1.5〜2.5mm、硬さ35〜85 IRHDが正規の測定範囲とされ、厚さ1.0〜4.0mm、硬さ30〜95 IRHDの範囲に用いても良いとされているが、本明細書では、任意の厚み、硬度を有する弾性ゴム部材の測定に適用する。また、本明細書において、国際ゴム硬さ計(M法)による23℃における硬度は、「全自動IRHD マイクロゴム硬さ測定システム」〔高分子計器社製、(ヒルデブランド社製)〕を使用して測定される値である(主荷重負荷時間:30秒)。
本明細書において、「そのクリープ特性(支持部材と接合する面から測定した国際ゴム硬さ計(M法)による23℃における硬度のクリープ特性)」は、「全自動IRHD マイクロゴム硬さ測定システム」による23℃における硬度測定において、下記式により得られる値である。
クリープ特性
=〔(主荷重負荷時間10秒後の硬度/主荷重負荷時間30秒後の硬度)−1〕×1000
具体的には、図2における実施例1の接合面クリープ特性では、主荷重負荷時間10秒後、30秒後の硬度が73.40°、72.63°であるため、これらの値を上記式に適用すると、クリープ特性10.6〔(=73.40/72.63−1)×1000〕である。
上記接合面硬度が73°未満であると、常温常湿下のクリーニング性の向上に寄与しないおそれがある。74〜87°であることが好ましい。
上記接合面クリープ特性が9未満であると、高温高湿下での異音防止に寄与しないおそれがある。20を超えると、低温低湿下において硬くなり、クリーニング性を低下させるおそれがある。10〜18であることが好ましい。
上記弾性ゴム部材は、エッジ層側の面から測定した国際ゴム硬さ計(M法)による23℃における硬度(以下、「エッジ層面硬度」ともいう)が66〜85°である材料からなることが好ましい。66°未満であると、エッジのニップ巾が広くなり、トナーのせき止める能力が低下するおそれがある。85°を超えると、エッジが硬くてもろくなり、欠けを生じ易くなる。67〜85°であることがより好ましい。
本明細書において、「エッジ層側の面」は、複層構造の弾性ゴム部材における相手材と当接させるエッジ層側の面であり、例えば、図1のクリーニングブレードでは、エッジ層側の面25が該当する。
「エッジ層側の面から測定した国際ゴム硬さ計(M法)による23℃における硬度」とは、弾性ゴム部材(複層構造)のエッジ層側の面に略垂直方向にプランジャーの先端球を押し込んで測定して得られる値である。例えば、図1の弾性ゴム部材11では、エッジ層側の面25が上面(先端球を押し込まれる面)となるように弾性ゴム部材11を試験機に設置し、その面25に略垂直方向26(矢印方向)に先端球を押し込むことによりエッジ層面硬度が測定される(測定温度23℃)。測定装置、測定条件は、上記接合面硬度の測定と同様である。
上記弾性ゴム部材は、エッジ層側の面から測定した国際ゴム硬さ計(M法)による23℃における硬度のクリープ特性(以下、「エッジ層面クリープ特性」)が0〜16である材料からなることが好ましい。16を超えると、低温低湿下におけるクリーニング性が悪くなるおそれがある。0〜12であることがより好ましい。
上記エッジ層面クリープ特性は、エッジ層面硬度の測定において上記式により得られる値である。
本発明において、上記特定の接合面硬度及び接合面クリープ特性は、支持部材と接合する面を有する層を構成する材料を適当に選択して得ることができる。また、上記特定のエッジ層面硬度及びエッジ層面クリープ特性は、エッジ層を構成する材料を適当に選択して得ることができる。
上記弾性ゴム部材は、上記エッジ層の厚み(a)と、上記エッジ層の厚み(a)及び上記エッジ層以外の層の総厚み(b)の和(a+b)との比(a/(a+b))は、0.05〜0.75であることが好ましい。これにより、高温高湿下の異音防止性に加えて常温常湿下のクリーニング性を向上することができる。0.25〜0.75であることがより好ましい。
上記エッジ層の厚み(a)は、50μmを超えるものであることが好ましく、0.2〜2.0mmであることがより好ましい。これにより、高温高湿下の異音防止性に加えて常温常湿下のクリーニング性を向上することができる。0.45〜1.60mmであることが更に好ましい。
上記接合面硬度及び接合面クリープ特性は、上記エッジ層面硬度及びエッジ層面クリープ特性と異なることが好ましい。この場合、高温高湿下の異音防止性に加えて常温常湿下のクリーニング性を向上することができる。ここで、「異なる」とは、接合面硬度とエッジ層面硬度が異なる値の場合、接合面クリープ特性とエッジ層面クリープ特性が異なる値の場合、これら両方が異なる値の場合のいずれも含む。
上記弾性ゴム部材は、上述したもののなかでも、エッジ層及びベース層からなる2層構造を有し、かつ、上記ベース層側の面から測定した国際ゴム硬さ計(M法)による23℃における硬度(以下、「ベース層面硬度」ともいう)が73〜100°、そのクリープ特性(以下、「ベース層面クリープ特性」)が9〜20である材料からなることが好ましい。この場合、ベース層がエッジ層以外の層に該当し、エッジ層以外の層はこのベース層の1層のみである。また、ベース層面硬度及びベース層面クリープ特性は、上述した接合面硬度及び接合面クリープ特性の測定方法により得られる値である。このような2層構造の場合、高温高湿下の異音防止性に加えて常温常湿下のクリーニング性を向上することができる。
上記ベース層は、弾性ゴム部材の支持部材側に位置するブレード長さ方向の層である。図1のクリーニングブレードでは、上記エッジ層は支持部材と接合しておらず、上記ベース層は接着剤層を介して支持部材と接合している。
上記弾性ゴム部材がエッジ層及びベース層からなる2層構造を有するものである場合において、ベース層面硬度やベース層面クリープ特性が上記範囲外であると、上述したエッジ層以外の層で述べたことと同様の不具合が生じる。また、ベース層面硬度、ベース層面クリープ特性の好ましい範囲は、上述したエッジ層以外の層において述べた範囲と同様である。更に、エッジ層、ベース層の厚みの好ましい範囲も同様である(この場合、ベース層の厚みが上述したエッジ層以外の層の総厚み(b)に該当する)。
上記エッジ層、エッジ層以外の層の少なくとも1層(ベース層等)は、ともにポリウレタンからなるものであることが好ましい。これにより、高温高湿下の異音防止性に加えて常温常湿下のクリーニング性を向上することができる。上記弾性ゴム部材を形成するポリウレタンとしては、ポリオール、ポリイソシアネート及び必要に応じて架橋剤を反応させて得られるもの等を挙げることができる。
上記ポリオールとしては特に限定されず、例えば、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリカプロラクトンポリオール等を挙げることができる。なかでも、高温高湿下の異音防止性に加えて常温常湿下のクリーニング性を向上できる点から、ポリエステルポリオール、ポリカプロラクトンポリオールが好ましく、ポリカプロラクトンポリオールが特に好ましい。これらは、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
上記ポリオールは、数平均分子量が1000〜3000であることが好ましい。上記範囲内のポリオールを用いることにより、高温高湿下の異音防止性に加えて常温常湿下のクリーニング性を向上することができる。
上記ポリエステルポリオールとしては、例えば、ジカルボン酸とグリコールとを常法に従って反応させることにより得ることができるものを挙げることができる。
上記ジカルボン酸としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸等の脂肪族ジカルボン酸、オキシ安息香酸等のオキシカルボン酸、それらのエステル形成性誘導体等を挙げることができる。上記グリコールとしては、例えば、エチレングリコール、1,4−ブタンジオール、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,9−ノナンジオール、トリエチレングリコール等の脂肪族グリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール等の脂環族グリコール、p−キシレンジオール等の芳香族ジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオキシアルキレングリコール等を挙げることができる。これらによるポリエステルポリオールは、線状構造であるが、3価以上のエステル形成成分を用いて分枝状ポリエステルであってもよい。なかでも、高温高湿下の異音防止性に加えて常温常湿下のクリーニング性を向上できる点から、上記ジカルボン酸としては、脂肪族ジカルボン酸が好ましく、アジピン酸が特に好ましい。上記グリコールとしては、脂肪族グリコールが好ましく、エチレングリコール、1,4−ブタンジオールが更に好ましい。
ポリカプロラクトンポリオールとしては、例えば、触媒の存在下に低分子量グリコールを開始剤としてε−カプロラクトンを開環付加させることにより得ることができるものを挙げることができる。上記低分子量グリコールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−ブチレングリコール、ネオペンチルグリコール等の2価のアルコールとトリメチレングリコール、グリセリン等の3価のアルコールが好ましく用いられる。上記触媒としては、テトラブチルチタネート、テトラプロピルチタネート、テトラエチルチタネート等の有機チタン系化合物、オクチル酸スズ、ジブチルスズオキシド、ジブチルスズラウレート、塩化第1スズ、臭化第1スズ等のスズ系化合物等が好ましく用いられる。なお、上記ε−カプロラクトン以外にもトリメチルカプロラクトンやバレロラクトンのような他の環状ラクトンを一部混合してもかまわない。
本発明においてより好ましい形態は、上記エッジ層以外の層の少なくとも1層(ベース層等)がポリカプロラクトンポリオール及び/又はポリエステルポリオールをポリオール成分とするポリウレタンからなるものである。
また、特に好ましい形態は、本発明の効果が良好に得られる点から、上記エッジ層がポリカプロラクトンポリオール及び/又はポリエステルポリオールをポリオール成分とするポリウレタンからなり、かつ、上記エッジ層以外の層の少なくとも1層(ベース層等)がポリカプロラクトンポリオール及び/又はポリエステルポリオールをポリオール成分とするポリウレタンからなるものである。この場合、高温高湿下の異音防止性に加えて常温常湿下のクリーニング性を向上することができる。この形態において、上記ポリエステルポリオールは、ポリエチレンアジペートエステルジオール、ポリブチレンアジペートエステルジオールが特に好ましい。
上記ポリイソシアネートとしては特に限定されず、従来公知のものを使用することができ、例えば、脂肪族イソシアネート、脂環族イソシアネート、芳香族イソシアネート等を挙げることができる。なかでも、高温高湿下の異音防止性に加えて常温常湿下のクリーニング性を向上できる点から、芳香族イソシアネートが好ましい。
上記脂肪族イソシアネートとしては、例えば、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート等が挙げられる。また、ヘキサメチレンジイソシアネートやイソホロンジイソシアネートのイソシアヌレート体、ビウレット体、アダクト体の変性体等を挙げることができる。上記脂環族イソシアネートとしては、例えば、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、4,4′−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、1,4−シクロヘキサンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート(NBDI)等の脂環族ジイソシアネート等を挙げることができる。上記芳香族イソシアネートとしては、例えば、トリレンジイソシアネート(TDI)、フェニレンジイソシアネート、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、1,5−ナフタレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート(XDI)、カルボジイミド変性のMDI、ウレタン変性のMDI等を挙げることができる。上記ポリイソシアネートのなかでも、高温高湿下の異音防止性に加えて常温常湿下のクリーニング性を向上できる点から、MDI、ウレタン変性のMDIが好ましく、MDIが特に好ましい。
上記ポリウレタンにおいて、必要に応じて用いられる架橋剤としては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリメチロールプロパン、グリセリン、ヒドラジン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、4,4′−ジアミノジフェニルメタン、4,4′−ジアミノジシクロヘキシルメタン、N,N−ビス(2−ヒドロキシプロピル)アニリン、水等を挙げることができる。なかでも、高温高湿下の異音防止性に加えて常温常湿下のクリーニング性を向上できる点から、エチレングリコール、1,4−ブタンジオール、トリメチロールプロパン、N,N−ビス(2−ヒドロキシプロピル)アニリンが好ましく、特に1,4−ブタンジオール及びトリメチロールプロパンを併用することが好ましい。
上記ポリウレタンは、上記原料を使用し公知の方法で製造することができ、例えば、適当な有機溶剤中で必要に応じて触媒を使用し、各原料の当量比をNCO/OH=1.02〜1.18に調整して反応させること、無溶剤で溶融反応させること等により製造することができる。また、全原料を同時に反応させる方法、プレポリマー方法等により製造することができる。
上記ポリウレタンからなる弾性ゴム部材の成形方法としては特に限定されず、例えば、常圧注型成形、減圧注型成形、遠心成形、回転成形、押出成形、射出成形、反応射出成形(RIM)、スピンコーティング等を挙げることができる。なかでも、高温高湿下の異音防止性に加えて常温常湿下のクリーニング性を向上できる点から、遠心成形により成形して製造することが好ましい。
上記支持部材は、弾性ゴム部材を支持する機能を有するものである。上記支持部材としては特に限定されず、従来公知のものを使用することができ、例えば、剛体の金属、弾性を有する金属、プラスチック、セラミック等から製造されたもの等を挙げることができる。なかでも、剛体の金属が好ましい。
上記クリーニングブレードは、接着剤層を有するものであることが好ましい。上記接着剤層は、上記支持部材及び弾性ゴム部材間に設けられる層であり、両部材を接着させる機能を有する層である。上記接着剤層は、例えば、EVA系、ポリアミド系、ポリウレタン系ホットメルト接着剤や、硬化型接着剤、若しくは両面テープによる接着方法又は板金による挟み込み等により形成することができる。なかでも、高温高湿下の異音防止性に加えて常温常湿下のクリーニング性を向上できる点から、上記接着剤層は、ホットメルト接着剤を用いて形成されるものであることが好ましい。
上記クリーニングブレードは、従来の粉砕法トナーだけでなく、重合法トナーを用いる電子写真装置においても好適に使用することができる。上記重合法トナーとしては特に限定されず、例えば、特許第2537503号公報(乳化重合凝集法)、特開2002−351143号公報(溶液懸濁+重合法)、特開平9−15902号公報(溶液懸濁法)等に記載の従来公知のものを使用することができる。上記重合法トナーとしては、球形(真球状、異形状)で、平均粒径が5〜8μmのものを挙げることができる。上記平均粒径は公知の方法により得られる値(D50)である。
〔電子写真装置用クリーニングブレードの製造方法〕
上述の電子写真装置用クリーニングブレードの製造方法としては特に限定されず、2層以上の複層構造の弾性ゴム部材を有するブレードの従来公知の製造方法によって製造することが可能であるが、以下に述べる製造方法が好ましい。このような製造方法も本発明の1つである。
本発明の電子写真装置用クリーニングブレードの製造方法は、遠心成形法を用いた製造方法であって、金型の内側にシリコーンゴムの成形体を製造する工程(I)と、上記工程(I)で得られたシリコーンゴムの成形体上に、弾性ゴム部材のエッジ層を構成する成形体を製造する工程(II)と、上記工程(II)で得られたエッジ層を構成する成形体上に、弾性ゴム部材のエッジ層以外の層を構成する成形体を製造する工程(III)とを含み、得られた弾性ゴム部材を構成する成形体は、支持部材と接合する面から測定した国際ゴム硬さ計(M法)による23℃における硬度が73〜100°、そのクリープ特性が9〜20である材料からなる方法である。
本発明の製造方法では、最初に成形されたシリコーンゴム層の空気側面(遠心成形の際に内側となっていた面)に、鏡面状の面が形成されるため、続いて成形されたエッジ層のシリコーンゴム接触面も鏡面状となる。従って、弾性ゴム部材の使用面をエッジ層のシリコーンゴム接触面とすることができる。その結果、注型時に巻き込む気泡やホコリ等の異物に起因する表面不良を減少させ、生産性を向上させることができる。
また、シリコーンゴムは金型の振れを吸収したかたちで硬化されるため、内側の空気側面が鏡面状で、しかも高い振れ精度(金型が回転する際の、金型の中心軸から内面までの距離の最大値と最小値の差)を有するシリコーンゴム層が形成される。その結果、0.1mm以下という良好な厚み精度(一成形分のシート厚みの最大値と最小値の差)を有する弾性ゴム部材材料層を作製することができる。なお、厚み精度は0.05mm以下であることが好ましい。
更に、上記製造方法によると、エッジ層とエッジ層以外の層とを有し、かつ、上記特定の接合面硬度及び接合面クリープ特性を有する複層構造の弾性ゴム部材が得られるため、クリーニングブレードとして使用した場合、重合法トナーを使用した場合であっても、高温高湿下の異音防止性に加えて常温常湿下のクリーニング性を向上することができる。
本発明の製造方法は、遠心成形法を用いた方法であり、先ず、遠心成形機の金型の内側にシリコーンゴムの成形体を製造する工程が行われる(工程(I))。遠心成形法に用いる成形機や金型としては、従来公知のものを用いることができる。シリコーンゴムの成形体の製造は、例えば、高速で回転する加熱した円筒形状の成形金型の内面に、シリコーンゴムの成形体を構成する熱硬化性材料を流し込み、加熱、硬化させることによって行うことができる。
上記工程(I)によって、金型の内面上にシリコーンゴム層(平面形状のシリコーンゴムの成形体シート)が形成される。シリコーンゴムの成形体は、離型性に優れているため、離型剤を用いなくても、その上に形成される弾性ゴム部材材料層を容易に剥離することができる。
上記工程(I)において、上記シリコーンゴムの成形体は、付加硬化型シリコーンゴム組成物から得られるものが好ましく、上記付加硬化型シリコーンゴム組成物としては、ケイ素原子に結合する脂肪族不飽和炭化水素基を少なくとも2個有するオルガノポリシロキサン、ケイ素原子に結合する水素原子を少なくとも2個有するオルガノハイドロジエンポリシロキサン、及び、白金系触媒を含むものが好ましい。この場合、高い振れ精度を有するシリコーンゴムの成形体が形成され、良好な厚み精度を有する弾性ゴム部材を作製できる。また、弾性ゴム部材のエッジ層における表面不良を改善できる。更に、得られたクリーニングブレードにおいて高温高湿下の異音防止性に加えて常温常湿下のクリーニング性を向上することができる。また、有機溶媒が添加されていない組成物を使用した場合、作業者の健康を害することなく、作業環境の衛生を良好に保つことができる。
上記ケイ素原子に結合する脂肪族不飽和炭化水素基を少なくとも2個有するオルガノポリシロキサンは、付加硬化型シリコーンゴム組成物のベースポリマーとなる成分であり、平均組成式(1):R SiO[4−(a+b)]/2で表される化合物であることが好ましい。上記式(1)において、Rは炭素数2〜10で表される1価の脂肪族不飽和炭化水素基を表す。好ましくは炭素数2〜6である。Rの具体例としては、ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基等のアルケニル基が好ましく、ビニル基がより好ましい。
は炭素数が1〜12の置換又は非置換の1価の炭化水素基を表す。好ましくは炭素数1〜8である。ただし、Rには、上記脂肪族不飽和炭化水素基は除かれる。Rの具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基等のアルキル基;フェニル基、トリル基等のアリール基;ベンジル基、フェニルエチル基等のアラルキル基;これらの基の水素原子の一部又は全部がフッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子やシアノ基で置換されているもの(クロロメチル基、ブロモエチル基、トリフルオロプロピル基、シアノエチル基等)を挙げることができる。なかでも、メチル基、フェニル基、トリフルオロプロピル基が好ましく、メチル基がより好ましい。Rは92モル%以上がメチル基であることが好ましく、実質的にすべてメチル基でもよい。また、耐溶剤性が求められるときは、3,3,3−トリフルオロプロピル基等、要求特性に応じて適宜、他の基を併用することができる。
上記a、bは、それぞれ0<a≦1、1<b<3、1<a+b<3の関係を満足する数を表し、好ましくは0.0001≦a≦0.5、1.8≦b≦2.2、1.8≦a+b≦2.25の関係を満足する数である。上記式(1)で表されるオルガノポリシロキサンは、その1分子中に上記脂肪族不飽和炭化水素基の2個以上がケイ素原子と結合している。上記脂肪族不飽和炭化水素基は、分子鎖末端のケイ素原子に結合していてもよく、また分子鎖中のケイ素原子のいずれかに結合していてもよく、更には両方に結合していてもよい。なかでも、上記式(1)で表されるオルガノポリシロキサンは、上記脂肪族不飽和炭化水素基(好ましくはアルケニル基、より好ましくはビニル基)が分子鎖両末端のケイ素原子に結合しているものが好ましい。
上記オルガノポリシロキサンは、その骨格が直鎖状、分岐状又は環状のいずれであってもよいが、主鎖部分がジオルガノシロキサン単位を繰り返し単位として有し、分子鎖末端がトリオルガノシロキサン単位を有しているものが好ましい。上記トリオルガノシロキサン単位(置換又は非置換の1価の炭化水素基のみがケイ素原子に結合したトリオルガノシロキサン単位)としては、トリメチルシロキサン単位、ジメチルフェニルシロキサン単位、メチルジフェニルシロキサン単位等のビニル基を含まないもの;ジメチルビニルシロキサン単位、メチルフェニルビニルシロキサン単位等のビニル基を含むものを挙げることができ、なかでも、ビニル基を含むものが好ましい。
上記オルガノポリシロキサンの重合度(分子中のSi原子の数)は、10〜20000であることが好ましく、100〜15000であることがより好ましい。10未満であると、充分な機械的強度(強度・伸び・硬さ)を有する硬化物が得られないおそれがある。15000を超えると、得られるシリコーンゴム組成物の流動性が悪化するおそれがある。
上記ケイ素原子に結合する水素原子を少なくとも2個有するオルガノハイドロジエンポリシロキサンは、ケイ素原子に結合する水素原子が上記オルガノポリシロキサンの脂肪族不飽和炭化水素基と付加反応(ヒドロシリル化)することにより、オルガノポリシロキサンの架橋剤として機能するものである。
上記オルガノハイドロジエンポリシロキサンとしては、平均組成式(2):R SiO[4−(c+d)]/2で表される化合物であることが好ましい。Rは、上記Rと同一の基を表す。なかでも、炭素数が1〜4の置換又は非置換の1価の炭化水素基が好ましい。合成のしやすさ、コストの面からアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。
上記c、dは、それぞれ0.8≦c≦2.2、0.002≦d≦1、0.8<c+d<3の関係を満足する数を表し、好ましくは1≦c≦2.2、0.01≦d≦1、1.8≦c+d≦2.5の関係を満足する数である。上記式(2)で表されるオルガノハイドロジエンポリシロキサンは、その骨格が直鎖状、分岐状又は環状のいずれであってもよく、またジオルガノハイドロジエンシロキサン単位とSiO単位を含有し、適宜にトリオルガノシロキサン単位やジオルガノシロキサン単位を含有している三次元網状構造の樹脂状物であってもよい。
上記オルガノハイドロジエンポリシロキサンは、1分子中に少なくとも2個、好ましくは3個以上の水素原子がケイ素原子と結合してSiH基が形成された化合物である。この場合、H原子は、分子鎖末端のSi原子に結合していてもよく、分子鎖途中のSi原子のいずれかに結合していてもよく、更には両方に結合していてもよい。また、上記オルガノハイドロジエンポリシロキサンの重合度(分子中のSi原子の数)は3〜400であることが好ましく、4〜300であることが特に好ましい。
上記オルガノハイドロジエンポリシロキサンの具体例としては、例えば、メチルハイドロジエンシクロポリシロキサン、メチルハイドロジエンシロキサン・ジメチルシロキサン環状共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジエンポリシロキサン、両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジエンシロキサン共重合体、両末端ジメチルハイドロジエンシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、両末端ジメチルハイドロジエンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジエンシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジエンシロキサン・ジフエニルシロキサン共重合体、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジエンシロキサン・ジフエニルシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体、両末端ジメチルハイドロジエンシロキシ基封鎖メチルハイドロジエンシロキサン・ジメチルシロキサン・ジフエニルシロキサン共重合体、(CHHSiO1/2単位と(CHSiO1/2単位とSiO4/2単位とからなる共重合体、(CHHSiO1/2単位とSiO4/2単位とからなる共重合体、(CHHSiO1/2単位とSiO4/2単位と(CSiO1/2単位とからなる共重合体等が挙げられる。
上記付加硬化型シリコーンゴム組成物において、上記オルガノポリシロキサンと上記オルガノハイドロジエンポリシロキサンの配合割合は、オルガノポリシロキサン中の脂肪族不飽和炭化水素基とオルガノハイドロジエンポリシロキサン中の水素原子とがモル比で1:10〜10:1であることが好ましく、1:3〜3:1の配合割合であることがより好ましい。
上記白金系触媒は、上記オルガノポリシロキサンとオルガノハイドロジエンポリシロキサンとの付加反応を開始させる機能を有する成分であり、例えば、白金、塩化第1白金、塩化白金酸、これらのビニルシロキサン錯体やそのアルコール変性溶液等の白金族金属化合物;ロジウム系化合物やパラジウム系化合物を挙げることができる。上記白金系触媒の配合量は、上記オルガノポリシロキサンに対して0.1〜1000ppmであることが好ましく、1〜500ppmであることがより好ましい。
上記付加硬化型シリコーンゴム組成物は、補強用シリカを含むものであってもよい。これは、強度特性を高めるために配合される充填剤であり、例えば、フュームドシリカ、沈降法シリカ、溶融シリカ等を挙げることができる。粒子径は20μm以下であることが好ましい。また、上記補強用シリカは、オルガノシラン、オルガノシロキサン、オルガノシラザン等で予め表面処理されたものであってもよく、また上記処理剤とインプロセスで反応させたものであってもよい。上記補強用シリカの含有量は、上記オルガノポリシロキサン100質量部に対して5〜200質量部であることが好ましい。
上記付加硬化型シリコーンゴム組成物はまた、アセチレン化合物、リン化合物、ニトリル化合物、カルボキシレート、スズ化合物、水銀化合物、硫黄化合物等、公知の反応制御剤を含むものであってもよい。
上記付加硬化型シリコーンゴム組成物の市販品としては、例えば、TSE3032(GE東芝シリコーン社製)、KE103(信越ポリマー社製)等を挙げることができる。
上記工程(I)においては、例えば、上記付加硬化型シリコーンゴム組成物等のシリコーンゴムの成形体の構成材料を30〜50℃に予熱した遠心成形機の金型内に注入し、120〜180分間硬化させることによりシリコーンゴムの成形体を製造することができる。
上記工程(I)において形成されるシリコーンゴムの成形体(シリコーンゴム層)の厚みは、0.5〜3mmであることが好ましい。0.5mm未満であると、シリコーンゴム層の厚みが薄すぎるため強度がなく、金型より剥離させる際に、全てをきれいに剥離させることができないおそれがある。3mmを超えると、金型の熱を有効に伝熱させることができず、形成された弾性ゴム部材材料層の特性に悪影響が発生するおそれがある。
上記電子写真装置用クリーニングブレードの製造方法は、上記工程(I)の後、工程(I)で得られたシリコーンゴムの成形体上に、弾性ゴム部材のエッジ層を構成する成形体を製造する工程が行われる(工程(II))。また、上記工程(II)の後、工程(II)で得られたエッジ層を構成する成形体上に、エッジ層以外の層を構成する成形体を製造する工程が行われる(工程(III))。従来公知の遠心成形の手法によって工程(II)、(III)を行うことにより、エッジ層及びエッジ層以外の層を有する複層構造の弾性ゴム部材を良好に製造することができる。エッジ層以外の層を構成する成形体は、1層のみ有するもの、その成形体以外に更に他の成形体を1層又は2層以上有するもののいずれであってもよい。また、製造したエッジ層における平滑なシリコーンゴム接触面を使用面(相手材との当接面)とすることが可能となる。更に、高温高湿下の異音防止性に加えて常温常湿下のクリーニング性を向上することができる。
上記製造方法において、エッジ層以外の層を構成する成形体は、上述したエッジ層以外の層の材料と同様のものである。また、エッジ層を構成する成形体としては、上述したエッジ層の材料と同様のものを使用することが好ましい。
上記製造方法において、上記工程(III)が工程(II)で得られたエッジ層を構成する成形体上に、弾性ゴム部材のベース層を構成する成形体を製造する工程であり、得られた弾性ゴム部材を構成する成形体は、支持部材と接合する面から測定した国際ゴム硬さ計(M法)による23℃における硬度が73〜100°、そのクリープ特性が9〜20である材料からなることが好ましい。この場合、高温高湿下の異音防止性に加えて常温常湿下のクリーニング性の向上が可能な2層構造の弾性ゴム部材を有するクリーニングブレードを製造できる。
遠心成形法により、上記工程(II)でエッジ層を構成する成形体を製造し、次いで工程(III)でベース層を構成する成形体を製造する方法は、従来公知の2層構造の弾性ゴム部材材料層の形成方法により行うことができる。上記エッジ層及びベース層を構成する成形体がともにポリウレタンからなる弾性ゴム部材を製造する場合、上記工程(II)、工程(III)は、例えば、以下に示す方法を用いて行うことができる。
上記工程(II)では、上記工程(I)により得られた遠心成形機の金型内のシリコーンゴムの成形体上に、エッジ層用材料を130〜150℃に遠心成形機を予熱して注入し、5〜10分間硬化させる。次いで、上記工程(III)では、上記工程(II)における硬化反応の後、ベース層用材料を硬化したエッジ層上に注入し、25〜50分間硬化させる。シリコーンゴムの成形体から2層構造の弾性ゴム部材のシート体を剥離して金型から取り出すことにより、厚さ1〜3mmの円柱状のシート体を得ることができる。これを幅8〜20mm、長さ220〜500mmの短冊状にカットすることにより、弾性ゴム部材を得ることができる。
上記製造方法において、エッジ層、ベース層を構成する成形体は、プレポリマー法、ワンショット法等によって得ることができる。
プレポリマー法を用いる場合には、脱水処理を行ったポリオールとイソシアネートとを混合し、温度50〜80℃で10〜600分間反応させて得られるプレポリマーに、架橋剤等を加えて金型に注入し、硬化させる方法等により、硬化したエッジ層、ベース層を得ることができる。ワンショット法を用いる場合には、脱水処理を行ったポリオールと架橋剤とを計量し、更にそこにポリイソシアネートを加えて計量して混合して、金型に注入し、硬化させる方法等により、硬化したエッジ層、ベース層を得ることができる。
上記製造方法において、複層構造の弾性ゴム部材を得た後、通常、得られた弾性ゴム部材と支持部材とを接着させる工程(IV)が行われる。上記工程(IV)は、従来公知の方法により行うことができ、例えば、上述した接着剤を用いて接着すること等により行うことができる。上記工程(IV)において、支持部材は、上述したものと同様のものである。これにより、図1に示したクリーニングブレードを製造することができる。
本発明の電子写真装置用クリーニングブレードは、上述した構成よりなるので、球形(真球状、異形状)で、かつ、小粒径の重合法トナーを使用した場合においても、高温高湿下の異音防止性に加えて常温常湿下のクリーニング性を向上することができる。
以下本発明について実施例を掲げて更に詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。また実施例中、「部」、「%」は特に断りのない限り「質量部」、「質量%」を意味する。
実施例1〜10及び比較例1〜7 クリーニングブレードの製造(エッジ層及びベース層からなる2層構造の弾性ゴム部材)
(シリコーンゴム層の形成)
公知の遠心成形機の成形金型ドラム(内径:700mm、奥行き:500mm、常温での振れ精度:0.06mm、成形時の回転数:800rpm、粗面状態:Ra=0.30)を40℃に加熱し、シリコーンゴム材料として、付加反応により硬化する付加硬化型シリコーンゴム組成物「TSE3032(A)」(主剤、GE東芝シリコーン社製)と「TSE3032(B)」(硬化剤)との混合液(配合質量比10:1)を、上記成形金型ドラム内に流し込み、120分間加熱硬化させ、シリコーンゴム層を形成した。得られたシリコーンゴム層は、空気側面が均一な鏡面状であり、厚さが0.7mmであった。
(弾性ゴム部材材料層の形成)
エッジ層用材料を140℃に予熱した遠心成形機の金型内のシリコーンゴム層上に注入し、10分間硬化させた。上記硬化反応の後、ベース層用材料を硬化したエッジ層上に注入し、30分間硬化させた。上記硬化反応後、2層構造の弾性ゴム部材のシート体のみ金型から取り出すことにより、厚さ2.00mmの円柱状の2層構造シート体を得ることができた。これを幅12mm、長さ330mmの短冊状にカットすることにより、弾性ゴム部材を得ることができた。得られた弾性ゴム部材の厚み精度は、0.045mmと良好であった。また、弾性ゴム部材のエッジ層の表面状態(シリコーンゴム接触面)は、鏡面状態であり、欠陥は全く発見されなかった。
更に、得られた弾性ゴム部材をメッキ鋼からなる支持部材に、ポリウレタン系ホットメルト接着剤を用いて接着し、クリーニングブレードを得た。
使用したエッジ層用材料、ベース層用材料、エッジ層の厚み(a)、ベース層の厚み(b)、a/(a+b)、エッジ層面硬度、エッジ層面クリープ特性、ベース層面硬度、ベース層面クリープ特性は、表1〜2に示した通りである。エッジ層面硬度、エッジ層面クリープ特性、ベース層面硬度、ベース層面クリープ特性は、上述した方法により測定される値である。図2〜4は実施例及び比較例で得られた弾性ゴム部材のベース層面クリープ特性、エッジ層面クリープ特性を示したクリープ曲線である。
また、表1〜2中のポリウレタンは、表3に示した配合からなるものである。
上記クリーニングブレードの製造において、各ポリウレタン材料(ポリウレタンA〜K)を、エッジ層用材料、ベース層用材料として金型内へ注入する方法は、以下の通りである。
脱水処理を行ったポリオールとイソシアネートとを混合し、温度70℃で240分間反応させて得られるプレポリマーに、架橋剤を加えてから注入した(プレポリマー法)。
(印字テスト)
実施例、比較例で得られたクリーニングブレードを市販の普通紙複写機(有機感光体使用、速度10枚/分)に装着し、印字テストを行った。テストは、(1)温度23℃、湿度50%、(2)温度35℃、湿度75%の条件下で行った。印刷枚数100枚の時点において、上記(1)の条件でのトナーすり抜け(クリーニング性)、(2)の条件での異音(鳴き)の発生の結果を表1〜2に示した。また、使用したトナーの重量平均粒子径、形状も表1〜2に示した。
Figure 0005097432
Figure 0005097432
Figure 0005097432
表1〜2から、実施例で得られたクリーニングブレードは、重合法トナーを使用した場合、高温高湿下の異音防止性に加えて常温常湿下のクリーニング性を向上することができた。一方、比較例では、両性質又はいずれかの性質が劣っていた。
本発明の電子写真装置用クリーニングブレードは、普通紙を記録紙として用いる静電式電子写真複写機に対して好適に使用することができる。
本発明の電子写真装置用クリーニングブレードと、そのクリーニング挙動を示した模式図である。 実施例で得られた弾性ゴム部材のベース層面クリープ特性を示したクリープ曲線である。 比較例で得られた弾性ゴム部材のベース層面クリープ特性を示したクリープ曲線である。 実施例、比較例で得られた弾性ゴム部材のエッジ層面クリープ特性を示したクリープ曲線である。
符号の説明
11 弾性ゴム部材
12 支持部材
13 接着剤層
14 像担持体(相手材)
21 エッジ層
22 ベース層
23 支持部材と接合する面(ベース層側の面)
24 ベース層面硬度の測定時における先端球の押し込み方向(略垂直方向)
25 エッジ層側の面
26 エッジ層面硬度の測定時における先端球の押し込み方向(略垂直方向)

Claims (6)

  1. 弾性ゴム部材及び支持部材を有する電子写真装置用クリーニングブレードであって、
    前記弾性ゴム部材は、エッジ層及び前記エッジ層以外の層を有する2層構造を有し、かつ、
    前記支持部材と接合する面から測定した国際ゴム硬さ計(M法)による23℃における硬度が73〜100°、そのクリープ特性が9〜20で、エッジ層側の面から測定した国際ゴム硬さ計(M法)による23℃における硬度が67〜85°、そのクリープ特性が0.5〜3.3である材料からなり、
    前記エッジ層の厚さが0.45〜1.60mmである
    ことを特徴とする電子写真装置用クリーニングブレード。
  2. 前記エッジ層の厚み(a)と、前記エッジ層の厚み(a)及び前記エッジ層以外の層の総厚み(b)の和(a+b)との比(a/(a+b))は、0.05〜0.75である請求項1記載の電子写真装置用クリーニングブレード。
  3. エッジ層以外の層がポリカプロラクトンポリオール及び/又はポリエステルポリオールをポリオール成分とするポリウレタンからなるものである請求項1又は2記載の電子写真装置用クリーニングブレード。
  4. エッジ層がポリカプロラクトンポリオール及び/又はポリエステルポリオールをポリオール成分とするポリウレタンからなり、かつ、エッジ層以外の層がポリカプロラクトンポリオール及び/又はポリエステルポリオールをポリオール成分とするポリウレタンからなるものである請求項1、2又は3記載の電子写真装置用クリーニングブレード。
  5. 遠心成形法を用いた請求項1、2、3又は4記載の電子写真装置用クリーニングブレードの製造方法であって、
    金型の内側にシリコーンゴムの成形体を製造する工程(I)と、
    前記工程(I)で得られたシリコーンゴムの成形体上に、弾性ゴム部材のエッジ層を構成する成形体を製造する工程(II)と、
    前記工程(II)で得られたエッジ層を構成する成形体上に、弾性ゴム部材のエッジ層以外の層を構成する成形体を製造する工程(III)とを含み、
    得られた弾性ゴム部材を構成する成形体は、支持部材と接合する面から測定した国際ゴム硬さ計(M法)による23℃における硬度が73〜100°、そのクリープ特性が9〜20である材料からなる
    ことを特徴とする電子写真装置用クリーニングブレードの製造方法。
  6. シリコーンゴムの成形体は、ケイ素原子に結合する脂肪族不飽和炭化水素基を少なくとも2個有するオルガノポリシロキサン、ケイ素原子に結合する水素原子を少なくとも2個有するオルガノハイドロジエンポリシロキサン、及び、白金系触媒を含む付加硬化型シリコーンゴム組成物から得られるものである請求項記載の電子写真装置用クリーニングブレードの製造方法。
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