JP2008256695A - 欠陥率を低くするための組み立てられたpwa上のタンタルコンデンサの処理 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】この方法によって、試験されるアセンブリ上の各々のコンデンサ12が試験中に同じ調整レベルにさらされる。タンタルコンデンサ12を調整するため、サージ電流が制御された状態でコンデンサ12に誘導される。電圧レベル、タイミングおよび電流レベルは試験を行うために使用される回路10によって設定される。システムの用途でコンデンサ12と共に使用されるものと同じ回路が、調整プロセス中のタンタルコンデンサ試験回路10にも使用される。
【選択図】図1
Description
2 パルス周期
3 パルス周期
10 試験回路
12 タンタルコンデンサ/試験中のデバイス(“DUT”)
14 端子
16 端子
18 DC電圧源
20 電力パルス回路/ゲート駆動回路
21 FETのソース
22 電圧パルス
23 FETのドレン
24 FETのゲート
25 コンデンサの陽極
26 DUTサージ電流パルス
27 コンデンサの陰極
28 一連の電圧パルス
30 DUTサージ電流
32 第2のDC電圧源
34 メーター
40 等級合格曲線
42 等級不合格曲線
44 等級不合格曲線
Q1 電界効果トランジスタ(FET)
R1 小型抵抗
S1 スイッチ
Claims (10)
- 欠陥率を低くするためにタンタルコンデンサ(12)を調整し、かつ選別する方法であって、
試験される各々のタンタルコンデンサ(12)について、前記コンデンサ(12)を通る一連のサージ電流(26、30)を誘導するために前記コンデンサ(12)の両端に一連の電圧パルス(28)を印加する段階と、
前記コンデンサ(12)の両端に所定の電圧(18)を印加し、前記コンデンサ(12)の両端に前記所定の電圧(18)が印加された後に所定の時間間隔で前記コンデンサ(12)を通って流れる漏れ電流を測定する段階と、
前記コンデンサについて行われた前記漏れ電流測定に基づいて前記コンデンサ(12)が許容されるか否かを判定する段階と、
前記コンデンサが、時間を経て低下するか、または前記所定の時間間隔の選択された1つで所定の電流レベル未満にある漏れ電流のレベル(40)を有している場合は前記コンデンサ(12)が許容されるものと判定される段階と、
前記コンデンサが、時間を経て上昇するか、または前記所定の時間間隔の前記選択された1つで前記所定の電流レベル(44)以上にある漏れ電流のレベル(42)を有している場合は前記コンデンサ(12)が許容されないものと判定される段階と、を含む方法。 - 前記コンデンサ(12)を通る複数の一連のサージ電流(26、30)を誘導するために前記コンデンサ(12)の両端に複数の一連の電圧パルス(28)が印加される請求項1記載の方法。
- 前記一連の電圧パルス(28)は所定のピーク電圧値、所定の周波数、および所定のオン時間を有する請求項1記載の方法。
- 前記一連の電圧パルス(28)は15ボルトのピーク電圧値を有し、12kHzの周波数で発生し、25%のオン時間を有する請求項3記載の方法。
- 前記一連の電流パルス(26)は所定の周波数、および所定のオンタイム、および所定のデューティサイクルを有する請求項1記載の方法。
- 前記一連の電流パルス(26)は12kHzの周波数、25%のオン時間、および50%のデューティサイクルを有する請求項5記載の方法。
- 前記コンデンサ(12)を流れる漏れ電流が測定される前記所定時間間隔は第3のパルス周期(3)の終了後の所定量の時間で始まる請求項1記載の方法。
- 前記第3のパルス周期(3)の前記終了後の前記所定量の時間は各々のパルス周期(1、2、3)の継続時間に等しい請求項7記載の方法。
- 前記コンデンサ(12)を通って流れる前記漏れ電流が時間を経て上昇(42)しているか低下(40)しているかを判定するため、前記第3のパルス周期(3)の前記終了後の第1の所定の時間間隔で行われる第1の電流漏れ測定と、前記第3のパルス周期(3)の前記終了後の第2の所定の時間間隔で行われる第2の電流漏れ測定とが比較される請求項8記載の方法。
- 欠陥率を低くするためにタンタルコンデンサ(12)を選別できるように前記コンデンサ(12)を調整するための回路(10)であって、
試験されるコンデンサ(12)の両端に第1のDC電圧を印加するための第1の電圧源(18)と、
所定の継続時間の複数のパルス周期にわたって前記コンデンサ(12)の両端に幾つかの一連の電圧パルス(28)を印加するように、前記コンデンサ(12)の両端に印加される前記第1のDC電圧を切り換えるための回路(20、Q1、Q2)と、
前記コンデンサ(12)の両端に前記第1のDC電圧とは異なる第2のDC電圧を印加するための第2の電圧源(32)と、
前記コンデンサ(12)の両端に前記第2のDC電圧(32)が印加された後の所定の時間間隔にわたって漏れ電流を複数回測定するための回路(34、R2)と、を備え、
前記コンデンサ(12)について行われた前記漏れ電流測定の結果に基づいて前記コンデンサ(12)が許容されるか否かが判定され、
前記コンデンサ(12)が、時間を経て低下するか、または前記所定の時間間隔の所定の1つで所定の電流未満の漏れ電流のレベル(40)を有している場合は前記コンデンサ(12)が許容されるものと判定され、
前記コンデンサ(12)が、時間を経て上昇するか、または前記所定の時間間隔の所定1つで前記所定の電流(44)以上にある漏れ電流のレベル(42)を有している場合は前記コンデンサ(12)が許容されないものと判定される回路。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/730,995 US7609072B2 (en) | 2007-04-05 | 2007-04-05 | Processing tantalum capacitors on assembled PWAs to yield low failure rate |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008256695A true JP2008256695A (ja) | 2008-10-23 |
Family
ID=39591810
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008096671A Ceased JP2008256695A (ja) | 2007-04-05 | 2008-04-03 | 欠陥率を低くするための組み立てられたpwa上のタンタルコンデンサの処理 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7609072B2 (ja) |
EP (1) | EP1978370B1 (ja) |
JP (1) | JP2008256695A (ja) |
DE (1) | DE602008002087D1 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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- 2007-04-05 US US11/730,995 patent/US7609072B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-04-03 EP EP08154016A patent/EP1978370B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2008-04-03 JP JP2008096671A patent/JP2008256695A/ja not_active Ceased
- 2008-04-03 DE DE602008002087T patent/DE602008002087D1/de active Active
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DE602008002087D1 (de) | 2010-09-23 |
US20080246492A1 (en) | 2008-10-09 |
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Date | Code | Title | Description |
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RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20110125 |
|
A621 | Written request for application examination |
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|
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|
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|
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|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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