JP2008243962A - 2次元フォトニック結晶面発光レーザ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】2次元フォトニック結晶31内に多数周期的に設けた主異屈折率領域33のそれぞれに対して同一の相対的位置に副構造物34を設ける。副構造物34の位置は、2次元フォトニック結晶31の面内の一方向に、主異屈折率領域33により反射される主反射光361と、副構造物34により反射される副反射光362が干渉により弱め/強められるように定める。これにより、帰還効果を弱め/強めることができる。帰還効果を弱めることにより、2次元フォトニック結晶31内で増幅される光が結晶面の中心付近に局在することを防ぐことができ、それによりレーザ発振を安定化させることができる。
【選択図】図3
Description
前記母材内であって各主異屈折率領域に関して同一の相対的位置に周期的に配置された前記所定波長の光を反射する構造物であって、該構造物により前記2次元フォトニック結晶の面内の一方向に反射される前記所定波長の副反射光と前記主異屈折率領域により該一方向に反射される前記所定波長の主反射光の干渉を調整するように所定の相対的位置に配置されている副構造物を備えることを特徴とする。
図2〜図8を用いて、本発明に係る2次元フォトニック結晶面発光レーザ(以下、単に「面発光レーザ」という。)の第1の実施形態について説明する。
図4は2次元フォトニック結晶31内の電界及び磁界の強度分布の計算結果を、1組の主異屈折率領域33及び副構造物34付近を拡大して示したものである。図中、濃淡は磁界の強弱を、矢印の方向は電界の方向を、矢印の長さは電界の強度を、それぞれ示している。この図から、例えば磁界が最も強い位置が主異屈折率領域33の中心よりも副構造物34側にずれている等、磁界及び電界の強度分布が第2傾斜軸382に関して非対称であることがわかる。このように強度分布の非対称性が生じることにより、外部に取り出されるレーザ光が干渉により弱められることを防ぐことができる。
本発明に係る2次元フォトニック結晶面発光レーザの第2の実施形態について、図9及び図10を用いて説明する。本実施形態の面発光レーザは、2次元フォトニック結晶を除いて、図2に示したものと同様の構造を有する。ここでは、第2実施形態における2次元フォトニック結晶の構成について説明する。
12…母材
13、131、132…空孔
21…基板
221、222…クラッド層
23…活性層
24…キャリアブロック層
26…コンタクト層
27…下部電極
28…上部電極
31、41…2次元フォトニック結晶
32、42…母材
33、33a〜33j、43…主異屈折率領域
34、34a〜34j、44、44a〜44j…副構造物
361…主反射光
362…副反射光
371…第1垂直回折光
372…第2垂直回折光
381、481…第1傾斜軸
382、482…第2傾斜軸
Claims (13)
- 板状の母材に該母材とは屈折率が異なる材料から成る同一形状の領域である主異屈折率領域が周期的に配置されて成る2次元フォトニック結晶と、該母材の一方の側に設けた、電流が注入されることにより所定の波長の光を発光する活性層と、を備える2次元フォトニック結晶面発光レーザにおいて、
前記母材内であって各主異屈折率領域に関して同一の相対的位置に配置された構造物であって、該相対的位置が、該構造物により反射される前記所定波長の副反射光と前記主異屈折率領域により反射される前記所定波長の主反射光が前記2次元フォトニック結晶の面内において所定の位相で干渉するように設定されている副構造物を備える2次元フォトニック結晶面発光レーザ。 - 前記副構造物が、前記副反射光と前記主反射光の位相差θがπ/2<θ<(3/2)πとなるような位置に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の2次元フォトニック結晶面発光レーザ。
- 前記副構造物が、前記副反射光と前記主反射光の位相差θが-π/2<θ<π/2となるような位置に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の2次元フォトニック結晶面発光レーザ。
- 前記主異屈折率領域及び前記副構造物が、共に前記母材よりも屈折率が低いか、又は共に前記母材よりも屈折率が高い材料から成り、
前記主異屈折率領域が、周期aを持つ正方格子の格子点に配置されており、
前記相対的位置が前記格子点から、x方向に0.15a〜0.35a、y方向に0.15a〜0.35a、それぞれ離れた位置であることを特徴とする請求項2に記載の2次元フォトニック結晶面発光レーザ。 - 前記相対的位置が前記格子点から、x方向に0.25a、y方向に0.25a、それぞれ離れた位置であることを特徴とする請求項4に記載の2次元フォトニック結晶面発光レーザ。
- 前記相対的位置が前記格子点から、x方向に0.27a〜0.29a、y方向に0.27a〜0.29a、それぞれ離れた位置であることを特徴とする請求項4に記載の2次元フォトニック結晶面発光レーザ。
- 前記主異屈折率領域及び前記副構造物が、共に前記母材よりも屈折率が低いか、又は共に前記母材よりも屈折率が高い材料から成り、
前記主異屈折率領域が、周期aを持つ正方格子の格子点に配置されており、
前記相対的位置が前記格子点から、x方向に0.35a〜0.5a、y方向に0.35a〜0.5a、それぞれ離れた位置であることを特徴とする請求項3に記載の2次元フォトニック結晶面発光レーザ。 - 前記主異屈折率領域及び副構造物のいずれか一方が前記母材よりも屈折率が低い材料から成り、他方が前記母材よりも屈折率が高い材料から成ることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の2次元フォトニック結晶面発光レーザ。
- 前記主異屈折率領域及び前記副構造物が空孔から成ることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の2次元フォトニック結晶面発光レーザ。
- 前記副構造物が、前記主異屈折率領域内に配置され、前記主異屈折率領域とは屈折率が異なる材料から成ることを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載の2次元フォトニック結晶面発光レーザ。
- 前記副構造物が、前記主異屈折率領域内に配置され、前記母材と同じ材料から成ることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の2次元フォトニック結晶面発光レーザ。
- 前記主異屈折率領域が正方格子状に配置されており、前記2次元フォトニック結晶が、該正方格子のx軸又はy軸から45°傾斜した軸に関して対称であることを特徴とする請求項1〜11のいずれかに記載の2次元フォトニック結晶面発光レーザ。
- 前記45°傾斜軸に直交する軸に関して前記2次元フォトニック結晶が非対称であることを特徴とする請求項12に記載の2次元フォトニック結晶面発光レーザ。
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