JP2008240153A - 前駆体用の供給装置 - Google Patents

Abstract

【課題】凝縮を回避しつつ、気体状前駆体を供給する方法、並びに流量監視装置を備える供給装置を提供する。
【解決手段】室温及び大気圧で固体及び／又は液体である前駆体用の貯蔵容器３を減圧すると共に、減圧により気化した気体状前駆体を給送する真空ポンプ２と、該真空ポンプ２と固体及び／又は液体である前駆体用の貯蔵容器３との間に接続をもたらすために、真空ポンプ２の入口側に第１の管路セクション２３、及びキャリヤガスを真空ポンプ２に供給する少なくとも１つの第２の管路セクション２４と、第１の管路セクション２３及び第２の管路セクション２４に接続することができると共に、該装置の作動中に、少なくともポンプに入った後で気体状前駆体の分圧をその飽和蒸気圧よりも低く保つことによって、凝縮を回避しつつ、気体状前駆体を供給する。
【選択図】図１

Description

本発明は、包括的に、各独立請求項の前文に記載の、さらなる処理用の気体状前駆体を供給する供給装置及び気体状前駆体の供給方法に関する。本発明は、具体的には前駆体をキャリアガス流内に給送することに関する。

本願において、「前駆体」という表現は、前駆体をさらに処理している間に形成されるコーティング用の初期物質について用いられる。この場合の「前駆体」という表現は、コーティングを形成する任意の化合物（単数又は複数）の前駆体（単数又は複数）を示す。したがって、前駆体は１つ又は複数の物質から成り得る。

原則的に、真空ポンプは供給のために、適切な場合には前駆体の計量のために用いることができ、前駆体は、さらなる処理のために入口（input）に広がっている状態、例えば、ＣＶＤコーティング装置（installation）の入口に広がっている状態では、この入口での圧力及び／又はプロセスガス流内の圧力よりも低い蒸気圧を有する。しかしながら、前駆体が真空ポンプを介して給送されるときに飽和蒸気圧に達する危険性、及び前駆体がポンプ内で凝縮する危険性がある。

一方で、このことはポンプの性能に悪影響を及ぼす可能性がある。他方で、特に化学気相蒸着法（ＣＶＤ）、燃焼化学気相蒸着堆積法（ＣＣＶＤ）、特に火炎熱分解、プラズマ強化化学気相蒸着法（ＰＥＣＶＤ）、及びプラズマ衝撃化学蒸着法（ＰＩＣＶＤ）等のコーティングプロセスの場合、コーティングプロセスを確実に実行させるために、気体状前駆体のみを供給することが重要である。

室温かつ大気圧(atmospheric pressure)下で固体又は液体の形態である前駆体の場合、したがって、特にコーティングプロセスの用途においてまず前駆体を気化させ、次いで確実に供給し、必要であれば気体状前駆体を計量することが必要である。

したがって、本発明の一目的は、供給且つ計量されている間に前駆体が凝縮しないことを確実にする、後続の処理用に気体状前駆体を供給する能力を特にＣＤＶコーティング装置に与えることである。本発明のさらなる目的は、できるだけ単純であり、できる限り確実な供給プロセスを実行することを可能にすることである。

本発明によれば、これらの目的は、各独立請求項の特徴を有する装置及び方法によって達成される。有利な展開はそれぞれに係る従属請求項の主題である。

本発明は、後続の処理用に気体状前駆体を供給する供給装置であって、室温及び大気圧下で固体及び／又は液体である前駆体用の貯蔵容器を減圧すると共に、減圧により気化した気体状前駆体を供給する真空ポンプと、真空ポンプと固体及び／又は液体前駆体用の貯蔵容器との間に接続をもたらすための、真空ポンプの入口側の第１の管路セクション、及びキャリヤガスを真空ポンプに供給する少なくとも１つの第２の管路セクションとを備える供給装置を提供する。さらに、該供給装置は、第１の管路セクション及び第２の管路セクションに接続することができると共に、該供給装置の作動中に、少なくともポンプに入った後で気体状前駆体の分圧をその飽和蒸気圧よりも低く保つことによって、気体状前駆体及び／又はキャリアガスの流量に対してループ及び／又は閉ループ制御を行う監視装置を有する。

本出願の目的のために、前駆体の供給は前駆体を計量することを含み得ることが有利である。この場合、供給装置は同時に計量装置としても働く。しかしながら、前駆体は必ずしも供給プロセス又は供給装置によって計量される必要はない。

本願の目的のための「減圧」という表現は、材料の圧力が大気圧よりも低い値に下がっている状態で材料が圧送されることを意味する。

一方で「流量」という表現は関連物質の質量流量を含み、他方でその体積流を含む。

「真空ポンプ」という表現は概して、密度、したがって閉領域内に収容されているガスの圧力を下げる器具を指すために用いられ、したがって、大気圧未満の圧力を生成、改善、及び／又は維持するのに用いられる。

前駆体の分圧とキャリアガス及び前駆体の流量との間の関係は、例えば総圧と前駆体の飽和蒸気圧力とに関して、説明することができる。この場合では、前駆体の分圧は総圧を乗算した気相内の前駆体のモル分率に相当する。

前駆体の分圧がその飽和水蒸気圧力よりも低くなければならない本発明による状態になると、例えば、各自のモル質量を考慮して、前駆体及びキャリアガスの質量流量の総圧に対する前駆体の飽和水蒸気圧の比の関係を導くことができる。

したがって、本発明の可能な一実施形態では、監視装置は、前駆体の質量流量に応じて、前駆体及びキャリアガスの総圧及びモル質量、並びに前駆体の飽和蒸気圧を考慮してキャリアガスの質量流量を調整するように構成されることで、気体状前駆体の分圧がその飽和水蒸気圧よりも低く保たれるように構成され得る。

本発明により、飽和水蒸気圧を考慮して前駆体及びキャリアガスが開ループ及び閉ループ制御を受けることが可能であるため、本発明は、追加の測定装置によりさらなる変数を記録する必要なく、互いに各自の支障のない動作状態で物質が単純且つ確実に調和するという利点を与える。結果として、本発明による装置は特にコンパクトであり、さらに、有利なことに確実である。したがって、室温で固体及び／又は液体である前駆体が、本発明により、前駆体の凝縮を確実に防止するようにしてさらなる処理用に気化した形態で供給される。

本発明の有利な一展開では、監視装置は、第１の管路セクション内に気体状前駆体用の第１の質量流量制御装置（ＭＦＣ）、及び／又は第２の管路セクション内にキャリアガス用の第２の質量流量制御装置（ＭＦＣ）を有する。質量流量制御装置は、前駆体及びキャリアガスの流量の閉ループ並びに／又は開ループ制御に対して広範の圧力範囲にわたって用いることができる確固とした解決策を提供する。

供給装置を特に簡単に扱うことができるようにするために、本発明のさらなる実施形態においては、前駆体の少なくとも１つの飽和水蒸気圧を記憶することができるメモリを有し、この場合は、第１の質量流量制御装置及び／又は第２の質量流量制御装置に特に接続されることができる。供給装置が本質的に同じ前駆体に用いられる場合、ユーザはさらにいかなるステップも必要とせずに、この値が常に利用可能であるようにメモリ内に飽和水蒸気圧を記憶することができる。

異なる前駆体について供給装置の柔軟性のある使用のための有利な一展開において、本発明によれば、監視装置は、少なくとも各前駆体の飽和水蒸気圧の値が複数の前駆体について記憶されるメモリと、ユーザが初期の供給及び計量タスクについて一前駆体を選択することを可能にする入力装置とを有する。本展開のさらなる実施の形態では、前駆体及びキャリアガスのモル質量、濃度、及びさらなる適した変数もメモリ内に格納することもできる。

特に、後続するさらなる処理が大気圧よりも低い圧力で行われることを目的としているが、真空ポンプが周囲圧力に相当する出口圧力を有する場合、本発明においては有利には、後続するさらなる処理に対して入口の上流に絞り弁を設ける。このため、適切な一実施形態における供給装置は、真空ポンプの出口側でのさらなる処理用の少なくとも気化した前駆体を供給する第３の管路セクションを有し、この第３の管路セクションは、設定用並びに／又は出口圧力の開ループ及び／若しくは閉ループ制御用の弁を有する。したがって、ポンプには、本発明を異なる動作パラメータ要件に対して柔軟に使用することができるように、一定の出口圧力が与えられる。

本発明によれば、気体状前駆体とキャリアガスとの混合物が真空ポンプから出る出口圧力ｐ_ｏｕｔが設定され、且つ／又は有利な一展開では閉ループ及び／若しくは開ループ制御を受ける。

固体及び／又は液体の前駆体の気化に役立つようにするために、本発明の有利な一展開では、供給装置が、第１の管路セクションを特に貯蔵容器から第１の質量流量制御装置にかけて加熱する第１の加熱装置を有する。付加的に又は代替的に、第１の管路セクションを第１の質量流量制御装置から真空ポンプの入口にかけて加熱する第２の加熱装置を提供することができる。同様に、真空ポンプを加熱する第３の加熱装置を提供することは、本発明のさらなる実施の形態の範囲内にある。さらに、付加的に又は代替的に、供給装置は、真空ポンプの出口から下流に第３の管路セクションを加熱する第４の加熱装置を有し得る。それぞれの用途で凝縮が生じる危険性が最も高い地点に応じて、本発明は、それぞれの管路セクション及び／又は真空ポンプ及び／又はその作業エリアを柔軟に熱処理する能力を提供することで、プロセス条件が凝縮状況から安全に維持される。

したがって、本発明の有利な展開では、貯蔵容器から第１の質量流量制御装置にかけての管路セクション内で、気体状前駆体の温度Ｔ_１が設定され且つ／又は開ループ及び／若しくは閉ループ制御を受けることができ、且つ／又は第１の質量流量制御装置から真空ポンプの入口にかけての管路セクション内で、気体状前駆体の温度Ｔ_２が設定され且つ／又は開ループ及び／若しくは閉ループ制御を受けることができ、且つ／又は真空ポンプ内で、気体状前駆体及び／又はキャリアガスの温度Ｔ_３が設定され且つ／又は開ループ及び／若しくは閉ループ制御を受けることができ、且つ／又は真空ポンプから出た後、管路セクション内で、気体状前駆体とキャリアガスとの混合物の温度Ｔ_４が設定され且つ／又は開ループ及び／若しくは閉ループ制御を受けることができる。

用途分野に応じて、本発明は、前駆体を気化、供給及び計量するのに考えられ得る様々な気化方法を提供する。例として、多段真空ポンプを用いることができる。特に、真空ポンプは、膜ポンプ、ターボポンプ、スクロールポンプ、及び回転スライドポンプを含む群から選択され得る。多段ポンプの場合では、本発明の有利な一展開は、圧力が増大するにつれて凝縮の危険性が増すため、キャリアガスが真空ポンプの最後の段で、すなわちできるだけ遅くに添加されることを提供する。

本発明は、後続のさらなる処理用に気体状前駆体を供給及び計量する方法であって、
ａ）室温及び大気圧で固体及び／又は液体である前駆体を用意する工程；
ｂ）真空ポンプを用いて、気体状前駆体を生成するように、固体及び／又は液体である前駆体にかかる圧力を少なくとも下げることによって固体及び／又は液体である前駆体を気化する工程；
ｃ）真空ポンプ内で気体状前駆体をキャリアガスと混合する工程；
を有し、気体状前駆体及びキャリアガスの流量を、少なくとも真空ポンプに入った後で、気体状前駆体の分圧がその飽和蒸気圧よりも低く保たれるように互いに調和させる方法をさらに提供する。

本発明による装置と同じようにして、本発明による方法も同様に複数の前駆体物質を処理するのに用いることが有利である。例えば、本発明によれば、前駆体は、ＴｉＣｌ_４、ＳｎＣｌ_４、ＮｂＣｌ_５、ＴａＣｌ_５、ＡｌＣｌ_３、ＳｉＣｌ_４、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）、ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳＮ）、テトラメチルジシロキサン（ＴＭＤＳＯ）、及びテトラオキシシラン（テトラエチルオルソシリケート、ＴＥＯＳ）を含む群から選択される。

特にユーザフレンドリーに且つ確実に本方法を行う（handle）ことを可能にするために、本発明が複数の異なる前駆体用に用いられる場合であっても、本発明の一展開においては、少なくとも、複数の前駆体について各前駆体の飽和水蒸気圧力の値が記憶され、ユーザが初期供給及び／又は計量タスクのために１つの前駆体を選択することに応じて、気体状前駆体及びキャリアガスの流量の閉ループ及び／又は開ループ制御を行うことができる。

本発明はまた、コーティングプロセスでの後続のさらなる処理用に、室温及び大気圧で固体及び／又は液体である前駆体を供給及び／又は計量する、上述の装置及び上述の方法の使用方法をも提供する。この場合、コーティングプロセスは、例えば、化学気相蒸着法（ＣＶＤ）と、燃焼化学気相蒸着法（ＣＣＶＤ）、特に火炎熱分解と、プラズマ強化化学気相蒸着法（ＰＥＣＶＤ）と、プラズマ衝撃化学気相蒸着法（ＰＩＣＶＤ）とを含む群から選択され得る。

この場合では、本発明は、室温及び大気圧下で固体及び／又は液体である前駆体がガス形態で計量される必要はなく同時に気化せずに液体形態で本発明により給送及び計量される、という利点を提供する。特に、室温及び大気圧で固体である前駆体については、このことは溶媒の使用を意味する。しかしながら、プロセスにおけるさらなる物質として溶媒を使用することは実際には、上述の方法のためのコーティングプロセスの処置の妨げとなる可能性がある。

本発明は、例示的な実施形態を用い、添付の図面を参照しながら、以下の記載により詳細に説明する。全ての図において同じ構成要素には同じ参照符号が与えられている。

図１に概略的に示されている本発明の第１の実施形態による供給装置１は、前駆体が貯蔵される貯蔵容器３を有する。前駆体は固体及び／又は液体の形態で供給される。第１の管路セクション２３が貯蔵容器３を真空ポンプ２に接続し、それにより、真空ポンプが貯蔵容器３を管路セクション２３を介して減圧して、前駆体を気化させるようにする。前駆体は圧力ｐ_ｉｎの気体形態で真空ポンプ２に入る。

図示した例示的な実施形態では３段真空ポンプ２を使用している。しかしながら、単段真空ポンプ又は他の多段真空ポンプも本発明の範囲内で使用することができる。特に、本発明は、複数の真空ポンプが直列に接続されることに限られない。必要であれば、オイルフリー真空ポンプを用いて前駆体及び／又はキャリアガスの油汚れを回避するようにしてもよい。

キャリアガスが真空ポンプ２内の前駆体と混合される。キャリアガスは貯蔵容器４内に保持されている。真空ポンプは、前駆体、又は前駆体とキャリアガスとの混合物をｐ_ｉｎよりも大きいｐ_ｏｕｔの圧力に圧縮し、この圧力で、混合物が次の用途のために、すなわち、前駆体、又は前駆体とキャリアガスとの混合物のさらなる処理のために第３の管路セクション２５を通る。

各貯蔵容器３、４から真空ポンプ２に供給される前駆体及びガスキャリアの流量は、少なくとも真空ポンプ内での前駆体の凝縮を回避するように互いに調和している。このため、監視装置５が設けられ、この監視装置５は第１の質量流量制御装置（ＭＦＣ１）６及び第２の質量流量制御装置（ＭＦＣ２）７に接続されている。有線又は無線の接続を用いて監視装置５と質量流量制御装置６、７とを接続してもよい。

例えば、前駆体の質量流量が適正な要件に従って第１の質量流量制御装置６により固定される場合、キャリアガスと前駆体の混合物における前駆体の分圧が前駆体の飽和蒸気圧未満であるままにするように、監視装置５により第２の質量流量制御装置７にキャリアガスの質量流量を固定させる。

この場合、「固定」という表現は、監視装置がどのように設計されているかに応じて、開ループ又は閉ループ制御を設定することを意味する。例えば、制御デバイスとして改善されている場合、監視装置５は、前駆体の質量流量、及び／又は前駆体とキャリアガスとの混合物の質量流量用の、且つ／又は前駆体とキャリアガスとの混合物における総圧用の計量装置（図示せず）を有し得る。

このようなものとして供給装置１を設計している場合、特に第１の質量流量制御装置６が圧力損失Δｐ（デルタｐ）を確実に有するように注意を払うべきである。真空ポンプ２自体は、特定の最小入口圧力（input pressure）ｐ_ｉｎを有する。これらの２つの変数により、さらなる処理のためにどの前駆体を供給装置によって供給することができるかが決まるが、その理由は、前駆体の蒸気圧ｐ_{ｖａｐｏｒ}が少なくともｐ_ｉｎ及びΔｐの和と同じくらい大きくなければならないためである。

図２に概略的に示すさらなる実施形態では、供給装置１はメモリ８を有する監視装置５を有する。メモリ８は複数のメモリ位置を有し、それらメモリ位置に少なくとも前駆体物質の各飽和蒸気圧の値が記憶される。さらに、例えば、複数の前駆体物質のモル質量の値もメモリ８に記憶させてもよい。

メモリ８は入力装置９に接続される。ユーザは入力装置９を用いて、目的用途に使用することになっている前駆体を選択することができる。この選択に応じて、監視装置５がメモリ８を用いてこの特定の前駆体の飽和蒸気圧の値にアクセスする。監視装置５がどのように構成されているかに応じて、監視装置は前駆体のモル質量の値にもアクセスすることができる。次いで、メモリ８からこれらの値を用いて前駆体及びキャリアガスの質量流量が設定され、且つ／又は監視装置５によって質量流量制御装置６、７を介して開ループ及び／若しくは閉ループ制御を受けることで、前駆体の分圧がその飽和蒸気圧未満に保たれるようにする。

さらに、供給装置１は、第１の加熱装置１１を有し、この第１の加熱装置１１によって、前駆体用の貯蔵容器３及び第１の管路セクション２３の一部、特に前駆体用の貯蔵容器３から第１の質量流量制御装置６にかけての部分が温度Ｔ_１に加熱されることができる。

図３に概略的に示すようにさらなる実施形態では、供給装置１はさらに第２の加熱装置１２を有し、それにより、第１の質量流量制御装置６から真空ポンプ２の入口にかけて第１の管路セクション２３の一部を温度Ｔ_２に加熱することができる。真空ポンプ２は第３の加熱装置１３により温度Ｔ_３に加熱されることができる。特に、加熱装置１３は、本質的に真空ポンプ２の作業領域のみが温度Ｔ_３に加熱され、真空ポンプ２の他の構成部材は加熱されないままであるように設計され得る。さらに、供給装置１は第４の加熱装置１４を有し、それにより、真空ポンプ２の出力から次の用途のために、すなわち、さらなる処理のために第３の管路セクション２５を温度Ｔ_４に加熱することができる。

図４に概略的に示す本発明のさらなる実施形態では、供給装置１は、真空ポンプ２の出口の下流の第３の管路セクション２５に絞り弁２６を有する。図示された発展的態様では、絞り弁は圧力コントローラＰＣによって制御されることができる。圧力コントローラＰＣは圧力センサＰＩに接続され、この圧力センサＰＩが圧力ｐ_ｏｕｔの実際の値を計量する。プロセス圧力ｐ_{ｐｒｏｃｅｓｓ}が真空ポンプからの出口圧力ｐ_ｏｕｔ未満である場合、圧力ｐ_{ｐｒｏｃｅｓｓ}を設定するために、実際の値ｐ_ｏｕｔに応じて圧力コントローラＰＣは弁２６を制御する。したがって、圧力を下げることを含む用途のために実際に出口圧力が大気圧に等しい所望の真空ポンプも用いられるが、この理由は、絞り制御システム（restriction control system）がポンプに一定の出口圧力を提供するためである。

本発明が上述の例示的な実施形態に限定されず、実際に多くの方法に変化することができるということが当業者には明白である。特に、個々の例示的な実施形態の特徴を互いに組み合わせるか又は互いに交換することもできる。

本発明の第１の実施形態による供給装置の概略図である。 本発明の第２の実施形態による供給装置の概略図である。 本発明の第３の実施形態による供給装置の概略図である。 本発明の第４の実施形態による供給装置の概略図である。

符号の説明

１ 供給及び計量装置
２ 真空ポンプ
２３ 第１の管路セクション
２４ 第２の管路セクション
２５ 第３の管路セクション
２６ 弁
３ 前駆体用の貯蔵容器
４ キャリアガス用の貯蔵容器
５ 監視装置
６ 第１の質量流量制御装置
７ 第２の質量流量制御装置
８ メモリ
９ 入力装置
１１ 第１の加熱装置
１２ 第２の加熱装置
１３ 第３の加熱装置
１４ 第４の加熱装置

Claims (22)

1. 後続の処理用に気体状前駆体を供給する供給装置（１）であって、
   室温及び大気圧において固体及び／又は液体である前駆体用の貯蔵容器（３）を減圧すると共に、減圧により気化した該気体状前駆体を給送するための真空ポンプ（２）と、
   該真空ポンプ（２）と該固体及び／又は液体である前駆体用の該貯蔵容器（３）との間の接続をもたらすための、該真空ポンプ（２）の入口側の第１の管路セクション（２３）、及びキャリアガスを該真空ポンプ（２）に供給するための少なくとも１つの第２の管路セクション（２４）とを有しており、さらに
   該第１及び該第２管路セクション（２３、２４）に接続することができると共に、該供給装置（１）の作動中に、少なくとも該ポンプに入った後で該気体状前駆体の分圧をその飽和蒸気圧よりも低く保つことによって、該気体状前駆体及び／又は該キャリアガスの流量に対して開ループ及び／又は閉ループ制御を行う監視装置（５）を有することを特徴とする供給装置。
2. 前記監視装置（５）が、前記第１の管路セクション（２３）内の前記気体状前駆体用の第１の質量流量制御装置（６）、及び／又は前記第２の管路セクション（２４）内の前記キャリアガス用の第２の質量流量制御装置（７）を有している請求項１に記載の供給装置。
3. 前記監視装置（５）が、前駆体の少なくとも１つの飽和蒸気圧を記憶するメモリ（８）を有しており、この場合、該メモリは特に前記第１の質量流量制御装置（６）及び／又は前記第２の質量流量制御装置（７）に接続されることができる請求項１に記載の供給装置。
4. 前記監視装置（５）が、複数の前駆体について各前駆体の前記飽和蒸気圧の値を記憶するメモリ（８）と、ユーザが初期供給及び計量タスク用に１つの前駆体を選択することを可能にする入力装置（９）とを有している請求項１に記載の供給装置。
5. 前記真空ポンプ（２）の出口側に後続の処理用に前記気化した前駆体を供給する第３の管路セクション（２５）であって、設定用並びに／又は前記出口圧力の開ループ及び／若しくは閉ループ制御用の弁（２６）を有している請求項１に記載の供給装置。
6. 前記第１の管路セクション（２３）を前記貯蔵容器（３）から前記第１の質量流量制御装置（６）にかけて加熱する第１の加熱装置（１１）を有している請求項１に記載の供給装置。
7. 前記第１の管路セクション（２３）を前記第１の質量流量制御装置（６）から前記真空ポンプ（２）の入口にかけて加熱する第２の加熱装置（１２）を有している請求項１に記載の供給装置。
8. 前記真空ポンプ（２）を加熱する第３の加熱装置（１３）を有している請求項１に記載の供給装置。
9. 前記第３の管路セクション（２５）を加熱する第４の加熱装置（１４）を有している請求項１に記載の供給装置。
10. 多段真空ポンプ（２）を有している請求項１に記載の供給装置。
11. 前記真空ポンプ（２）が、膜ポンプ、ターボポンプ、スクロールポンプ、及び回転スライドポンプから成る群より選択されたものである請求項１に記載の供給装置。
12. 後続の処理用に気体状前駆体を供給する方法であって、
    ａ）室温及び大気圧で固体及び／又は液体である前駆体を用意する工程；
    ｂ）真空ポンプ（２）を用いて、気体状前駆体を生成するように、該固体及び／又は液体である前駆体にかかる圧力を少なくとも減じることによって該固体及び／又は液体である前駆体を気化する工程；及び
    ｃ）該真空ポンプ（２）内で該気体状前駆体をキャリアガスと混合する工程を有しており、
    該気体状前駆体及び該キャリアガスの各流量を、少なくとも該真空ポンプ（２）に入った後で該気体状前駆体の分圧がその飽和蒸気圧よりも低く保たれるように互いに調和させることを特徴とする方法。
13. 前記前駆体が、ＴｉＣｌ_４、ＳｎＣｌ_４、ＮｂＣｌ_５、ＴａＣｌ_５、ＡｌＣｌ_３、ＳｉＣｌ_４、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）、ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳＮ）、テトラメチルジシロキサン（ＴＭＤＳＯ）、及びテトラオキシシラン（テトラエチルオルソシリケート、ＴＥＯＳ）を含む群から選択されたものである請求項１２に記載の方法。
14. 複数の前駆体について各前駆体の前記飽和水蒸気圧力の値が記憶され、ユーザが初期供給及び／又は計量タスク用に１つの前駆体を選択したことに応じて、前記気体状前駆体及び前記キャリアガスの流量の閉ループ及び／又は開ループ制御に利用することができる請求項１２又は１３に記載の方法。
15. 前記気体状前駆体と前記キャリアガスとの混合物が前記真空ポンプ（２）を出る出口圧力Ｐ_ｏｕｔが設定され、且つ／又は閉ループ及び／若しくは開ループ制御を受ける請求項１２〜１４のいずれか一項に記載の方法。
16. 前記第１の管路セクション（２３）の少なくとも前記貯蔵容器（３）から前記第１の質量流量制御装置（６）にかけての部分で、前記気体状前駆体の温度Ｔ_１が設定され且つ／又は開ループ及び／若しくは閉ループ制御を受ける請求項１２〜１５のいずれか一項に記載の方法。
17. 前記第１の管路セクション（２３）の少なくとも前記第１の質量流量制御装置（６）から前記真空ポンプ（２）の入口にかけての部分で、前記気体状前駆体の温度Ｔ_２が設定され且つ／又は開ループ及び／若しくは閉ループ制御を受ける請求項１２〜１６のいずれか一項に記載の方法。
18. 前記真空ポンプ（２）内で、前記気体状前駆体及び／若しくは前記キャリアガスの温度Ｔ_３が設定され且つ／又は開ループ及び／若しくは閉ループ制御を受ける請求項１２〜１７のいずれか一項に記載の方法。
19. 前記真空ポンプ（２）から出た後、前記第３の管路セクション（２５）の少なくとも一部で、前記気体状前駆体と前記キャリアガスとの混合物の温度Ｔ_４が設定され且つ／又は開ループ及び／若しくは閉ループ制御を受ける請求項１２〜１８のいずれか一項に記載の方法。
20. コーティングプロセスでの後続の処理用に、室温及び大気圧で固体及び／又は液体である前駆体を供給及び／又は計量する請求項１〜１１のいずれか一項に記載の装置の使用方法。
21. コーティングプロセスでの後続の処理用に、室温及び大気圧で固体及び／又は液体である前駆体を供給及び／又は計量する請求項１２〜１９のいずれか一項に記載の方法の使用方法。
22. 前記コーティングプロセスが、化学気相蒸着法（ＣＶＤ）、燃焼化学気相蒸着法（ＣＣＶＤ）、特に火炎熱分解、プラズマ強化化学気相蒸着法（ＰＥＣＶＤ）、プラズマ衝撃化学気相蒸着法（ＰＩＣＶＤ）とを含む群から選択される請求項２０又は２１に記載の使用方法。

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