JPH07217537A - 排気装置及び排気方法 - Google Patents
排気装置及び排気方法Info
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- JPH07217537A JPH07217537A JP1057994A JP1057994A JPH07217537A JP H07217537 A JPH07217537 A JP H07217537A JP 1057994 A JP1057994 A JP 1057994A JP 1057994 A JP1057994 A JP 1057994A JP H07217537 A JPH07217537 A JP H07217537A
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- container
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 排気装置の改善に関し、被真空容器内の単位
時間当たりの圧力変化を小さく抑え、単位時間内に最も
効率良く真空引きし、塵埃の舞い上がりを極力阻止す
る。 【構成】 被真空容器１６とポンプ手段１２との間に設
けられ、及び、該被真空容器１６からの排気流量を調整
する第１の調整手段１１と、被真空容器１６を真空引き
をして所定真空度を保持するポンプ手段１２と、このポ
ンプ手段１２に圧力調整用のダミーガスＧを供給するガ
ス供給手段１３と、ガス供給手段１３とポンプ手段１２
との間に設けられ、及び、ダミーガスＧの注入流量を調
整する第２の調整手段１４とを備える。第１の調整手段
１１は、被真空容器１６とポンプ手段１２とを接続又は
遮断する開閉バルブ11Ａ及び、被真空容器１６からの排
気流量を調整する流量バルブ11Ｂを有する。
時間当たりの圧力変化を小さく抑え、単位時間内に最も
効率良く真空引きし、塵埃の舞い上がりを極力阻止す
る。 【構成】 被真空容器１６とポンプ手段１２との間に設
けられ、及び、該被真空容器１６からの排気流量を調整
する第１の調整手段１１と、被真空容器１６を真空引き
をして所定真空度を保持するポンプ手段１２と、このポ
ンプ手段１２に圧力調整用のダミーガスＧを供給するガ
ス供給手段１３と、ガス供給手段１３とポンプ手段１２
との間に設けられ、及び、ダミーガスＧの注入流量を調
整する第２の調整手段１４とを備える。第１の調整手段
１１は、被真空容器１６とポンプ手段１２とを接続又は
遮断する開閉バルブ11Ａ及び、被真空容器１６からの排
気流量を調整する流量バルブ11Ｂを有する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、排気装置及び排気方法
に関するものであり、更に詳しく言えば、電子ビーム露
光装置の鏡筒内や半導体製造装置のチャンバ内を真空引
きする装置及びその方法の改善に関するものである。近
年，半導体集積回路（以下ＬＳＩという）装置の高密度
化及び超微細化に伴い、半導体ウエハの露光処理の際や
その各種プラズマ処理の際に、高精度な真空環境が要求
される。例えば、電子ビーム装置の鏡筒内やプラズマ装
置のチャンバ内を真空引きするために排気装置が使用さ
れる。
に関するものであり、更に詳しく言えば、電子ビーム露
光装置の鏡筒内や半導体製造装置のチャンバ内を真空引
きする装置及びその方法の改善に関するものである。近
年，半導体集積回路（以下ＬＳＩという）装置の高密度
化及び超微細化に伴い、半導体ウエハの露光処理の際や
その各種プラズマ処理の際に、高精度な真空環境が要求
される。例えば、電子ビーム装置の鏡筒内やプラズマ装
置のチャンバ内を真空引きするために排気装置が使用さ
れる。
【０００２】これによれば、排気調整系は排気速度を調
整するために、主配管にバイパス配管が設けられ、この
バイパス配管にエアオペレートバルブが設けられる。し
かし、真空引きに際して当該バルブを開くと、チャンバ
側の圧力（大気圧）とポンプ側の圧力の差が大きいこと
から、単位時間当たりの圧力変化が大きくなる場合があ
る。このことは、チャンバ内に塵埃の舞い上がりを引き
起こす原因となる。
整するために、主配管にバイパス配管が設けられ、この
バイパス配管にエアオペレートバルブが設けられる。し
かし、真空引きに際して当該バルブを開くと、チャンバ
側の圧力（大気圧）とポンプ側の圧力の差が大きいこと
から、単位時間当たりの圧力変化が大きくなる場合があ
る。このことは、チャンバ内に塵埃の舞い上がりを引き
起こす原因となる。
【０００３】そこで、チャンバ内の単位時間当たりの圧
力変化を小さく抑え、単位時間内に最も効率良く真空引
きし、塵埃の舞い上がりを極力阻止することができる装
置及び方法が望まれている。
力変化を小さく抑え、単位時間内に最も効率良く真空引
きし、塵埃の舞い上がりを極力阻止することができる装
置及び方法が望まれている。
【０００４】
【従来の技術】図５は、従来例に係る排気装置の構成図
を示している。例えば、ＣＶＤ装置のチャンバ（被真空
容器）１６内を真空引きする排気装置は、図５に示すよ
うに、排気調整系１，あら引きポンプ系２及び真空維持
ポンプ系３を備える。排気調整系１は１／４インチバル
ブ１Ａ，ニードルバルブ１Ｂ，３／８インチバルブ１Ｃ
及び１インチバルブ１Ｄを有する。一般にバルブ１Ａに
はエアオペレートバルブが用いられる。あら引きポンプ
系２はロータリポンプ２Ａ及び仕切りバルブ２Ｂを有
し、真空維持ポンプ系３は、主ポンプ３Ａ及び仕切りバ
ルブ３Ｂをそれぞれ有する。
を示している。例えば、ＣＶＤ装置のチャンバ（被真空
容器）１６内を真空引きする排気装置は、図５に示すよ
うに、排気調整系１，あら引きポンプ系２及び真空維持
ポンプ系３を備える。排気調整系１は１／４インチバル
ブ１Ａ，ニードルバルブ１Ｂ，３／８インチバルブ１Ｃ
及び１インチバルブ１Ｄを有する。一般にバルブ１Ａに
はエアオペレートバルブが用いられる。あら引きポンプ
系２はロータリポンプ２Ａ及び仕切りバルブ２Ｂを有
し、真空維持ポンプ系３は、主ポンプ３Ａ及び仕切りバ
ルブ３Ｂをそれぞれ有する。
【０００５】当該装置の機能は、例えば、大気状態にあ
るチャンバ１６内を真空状態にする場合、予め閉じられ
ている各バルブ１Ａ〜１Ｄ，２Ｂ，３Ｂを順次操作す
る。まず、バルブ１Ａ及び２Ａを開き、あら引きの準備
をする。ここで、あら引きとは、大気圧の状態から主ポ
ンプが作動し得る圧力まで排気することをいうものとす
る。
るチャンバ１６内を真空状態にする場合、予め閉じられ
ている各バルブ１Ａ〜１Ｄ，２Ｂ，３Ｂを順次操作す
る。まず、バルブ１Ａ及び２Ａを開き、あら引きの準備
をする。ここで、あら引きとは、大気圧の状態から主ポ
ンプが作動し得る圧力まで排気することをいうものとす
る。
【０００６】その後、バルブ１Ｂを開いてチャンバ１６
からの排気流量を調整する。また、バルブ１Ｃを開いて
チャンバ１６からの排気流量をさらに調整する。これに
より、チャンバ１６内の大気がロータリポンプ２Ａによ
り排気され、その内圧力が徐々に低下し、あら引きが完
了する。次に、バルブ１Ｄ及び３Ｂを開いて、バルブ１
Ａ〜１Ｃ及び２Ａを閉じ、ほぼ目的の内圧力に到達して
いるチャンバ１６内を主ポンプ３Ａにより真空引きをす
る。これにより、チャンバ１６内が所望の真空雰囲気に
維持される。
からの排気流量を調整する。また、バルブ１Ｃを開いて
チャンバ１６からの排気流量をさらに調整する。これに
より、チャンバ１６内の大気がロータリポンプ２Ａによ
り排気され、その内圧力が徐々に低下し、あら引きが完
了する。次に、バルブ１Ｄ及び３Ｂを開いて、バルブ１
Ａ〜１Ｃ及び２Ａを閉じ、ほぼ目的の内圧力に到達して
いるチャンバ１６内を主ポンプ３Ａにより真空引きをす
る。これにより、チャンバ１６内が所望の真空雰囲気に
維持される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来例によ
れば、図５に示すように排気調整系１は排気速度を調整
するために、１インチの主配管に１／４インチ及び３／
８インチのバイパス配管が設けられ、この１／４インチ
配管にエアオペレートバルブ１Ａが設けられる。しか
し、あら引きに際して当該バルブ１Ａを開くと、チャン
バ側の圧力（大気圧）とポンプ側の圧力の差が大きいこ
とから、単位時間当たりの圧力変化が大きくなる。この
圧力変化は、チャンバ１６内に塵埃の舞い上がりを引き
起こす。塵埃は、プラズマ処理の際の生成物の残渣等と
考えられる。
れば、図５に示すように排気調整系１は排気速度を調整
するために、１インチの主配管に１／４インチ及び３／
８インチのバイパス配管が設けられ、この１／４インチ
配管にエアオペレートバルブ１Ａが設けられる。しか
し、あら引きに際して当該バルブ１Ａを開くと、チャン
バ側の圧力（大気圧）とポンプ側の圧力の差が大きいこ
とから、単位時間当たりの圧力変化が大きくなる。この
圧力変化は、チャンバ１６内に塵埃の舞い上がりを引き
起こす。塵埃は、プラズマ処理の際の生成物の残渣等と
考えられる。
【０００８】また、ニードルバルブ１Ｂは、仕切りバル
ブ１Ｄに比べて口径が小さいことから、塵埃がつまり易
くなる。塵埃がつまった状態では、所定の排気流量を単
位時間内に通過させることが困難となる。反対に、塵埃
がないクリーンな状態では、図５の破線円内図に示した
チャンバ１６の排気特性図に見られるように急激な圧力
変化を示す。これは、エアオペレートバルブ１Ａを開い
たときに、ニードルバルブ１Ｂ内を急激に大気が通過す
るためである。これがチャンバ１６内に塵埃を舞い上げ
る原因となる。
ブ１Ｄに比べて口径が小さいことから、塵埃がつまり易
くなる。塵埃がつまった状態では、所定の排気流量を単
位時間内に通過させることが困難となる。反対に、塵埃
がないクリーンな状態では、図５の破線円内図に示した
チャンバ１６の排気特性図に見られるように急激な圧力
変化を示す。これは、エアオペレートバルブ１Ａを開い
たときに、ニードルバルブ１Ｂ内を急激に大気が通過す
るためである。これがチャンバ１６内に塵埃を舞い上げ
る原因となる。
【０００９】これにより、チャンバ（以下被真空容器と
もいう）１６内にセットされた半導体ウエハ上に塵埃が
付着し、その生産歩留りが低下するという問題がある。
また、排気装置の信頼性の低下につながる。本発明は、
かかる従来例の問題点に鑑み創作されたものであり、被
真空容器の単位時間当たりの圧力変化を小さく抑え、単
位時間内に最も効率良く真空引きし、塵埃の舞い上がり
を極力阻止することが可能となる排気装置及び排気方法
の提供を目的とする。
もいう）１６内にセットされた半導体ウエハ上に塵埃が
付着し、その生産歩留りが低下するという問題がある。
また、排気装置の信頼性の低下につながる。本発明は、
かかる従来例の問題点に鑑み創作されたものであり、被
真空容器の単位時間当たりの圧力変化を小さく抑え、単
位時間内に最も効率良く真空引きし、塵埃の舞い上がり
を極力阻止することが可能となる排気装置及び排気方法
の提供を目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】図１は本発明に係る排気
装置の原理図である。本発明の排気装置は、図１に示す
ように、被真空容器１６とポンプ手段１２との間に設け
られ、及び、該被真空容器１６からの排気流量を調整す
る第１の調整手段１１と、前記被真空容器１６を真空引
きをして所定真空度を維持するポンプ手段１２と、前記
ポンプ手段１２に圧力調整用のダミーガスＧを供給する
ガス供給手段１３と、前記ガス供給手段１３とポンプ手
段１２との間に設けられ、及び、前記ダミーガスＧの注
入流量を調整する第２の調整手段１４とを備えることを
特徴とする。
装置の原理図である。本発明の排気装置は、図１に示す
ように、被真空容器１６とポンプ手段１２との間に設け
られ、及び、該被真空容器１６からの排気流量を調整す
る第１の調整手段１１と、前記被真空容器１６を真空引
きをして所定真空度を維持するポンプ手段１２と、前記
ポンプ手段１２に圧力調整用のダミーガスＧを供給する
ガス供給手段１３と、前記ガス供給手段１３とポンプ手
段１２との間に設けられ、及び、前記ダミーガスＧの注
入流量を調整する第２の調整手段１４とを備えることを
特徴とする。
【００１１】本発明の排気装置において、第１の調整手
段１１は、前記被真空容器１６とポンプ手段１２とを接
続又は遮断する開閉バルブ11Ａ及び、前記被真空容器１
６からの排気流量を調整する流量バルブ11Ｂを有するこ
とを特徴とする。本発明の排気装置において、ポンプ手
段１２は、前記被真空容器１６を粗く真空引きをする第
１のポンプ系12Ａ及び、粗く真空引きされた前記被真空
容器１６を細緻に真空引きして所定真空度を維持する第
２のポンプ系12Ｂを有することを特徴とする。
段１１は、前記被真空容器１６とポンプ手段１２とを接
続又は遮断する開閉バルブ11Ａ及び、前記被真空容器１
６からの排気流量を調整する流量バルブ11Ｂを有するこ
とを特徴とする。本発明の排気装置において、ポンプ手
段１２は、前記被真空容器１６を粗く真空引きをする第
１のポンプ系12Ａ及び、粗く真空引きされた前記被真空
容器１６を細緻に真空引きして所定真空度を維持する第
２のポンプ系12Ｂを有することを特徴とする。
【００１２】本発明の排気装置において、被真空容器１
６の圧力変化を検出し、該圧力変化に基づいて前記被真
空容器１６からの排気流量及び、前記ガス供給手段１３
からのダミーガスＧの注入流量を調整する制御手段１５
が設けられることを特徴とする。本発明の排気装置にお
いて、ダミーガスＧには、窒素ガスを用いることを特徴
とする。
６の圧力変化を検出し、該圧力変化に基づいて前記被真
空容器１６からの排気流量及び、前記ガス供給手段１３
からのダミーガスＧの注入流量を調整する制御手段１５
が設けられることを特徴とする。本発明の排気装置にお
いて、ダミーガスＧには、窒素ガスを用いることを特徴
とする。
【００１３】本発明の排気方法は、真空引き系の圧力と
被真空容器１６内の圧力との差を調整するダミーガスＧ
の注入流量及び、前記被真空容器１６からの排気流量を
調整しながら該被真空容器１６を真空引きすることを特
徴とし、上記目的を達成する。
被真空容器１６内の圧力との差を調整するダミーガスＧ
の注入流量及び、前記被真空容器１６からの排気流量を
調整しながら該被真空容器１６を真空引きすることを特
徴とし、上記目的を達成する。
【００１４】
【作用】本発明の排気装置の動作を説明する。例えば、
大気状態にある被真空容器１６を目的の真空状態にする
場合、図１において、まず、圧力調整用のダミーガスＧ
がガス供給手段１３からポンプ手段１２に供給される。
この際に、ダミーガスＧの注入流量が制御手段１５を介
して第２の調整手段１４により調整される。
大気状態にある被真空容器１６を目的の真空状態にする
場合、図１において、まず、圧力調整用のダミーガスＧ
がガス供給手段１３からポンプ手段１２に供給される。
この際に、ダミーガスＧの注入流量が制御手段１５を介
して第２の調整手段１４により調整される。
【００１５】この状態で、被真空容器１６とポンプ手段
１２とが第１の調整手段１１の開閉バルブ11Ａの動作に
より接続されると、第１のポンプ系12Ａにより、被真空
容器１６が粗く真空引き（以下単にあら引きともいう）
される。このとき、被真空容器１６の圧力変化が検出さ
れ、その検出情報が制御手段１５に転送される。これに
より、制御手段１４を介して第１の調整手段１１の流量
バルブ11Ｂにより、被真空容器１６からの排気流量が調
整され、及び、ガス供給手段１３からのダミーガスＧの
注入流量が自動調整される。
１２とが第１の調整手段１１の開閉バルブ11Ａの動作に
より接続されると、第１のポンプ系12Ａにより、被真空
容器１６が粗く真空引き（以下単にあら引きともいう）
される。このとき、被真空容器１６の圧力変化が検出さ
れ、その検出情報が制御手段１５に転送される。これに
より、制御手段１４を介して第１の調整手段１１の流量
バルブ11Ｂにより、被真空容器１６からの排気流量が調
整され、及び、ガス供給手段１３からのダミーガスＧの
注入流量が自動調整される。
【００１６】その後、あら引き引きされた被真空容器１
６が第２のポンプ系12Ｂにより、細緻に真空引きされ、
該容器１６が所定真空度に維持される。このため、被真
空容器１６のあら引きの際に、開閉バルブ11Ａを全開し
ても、ダミーガスＧが注入され、ポンプ側の圧力が予め
低くされることから、当該容器１６側の圧力（大気圧）
とポンプ側の圧力の差が従来例に比べて小さくなる。こ
の際に、調整バルブ11Ａ内に被真空容器１６からの大気
を緩やかに通過させることができる。
６が第２のポンプ系12Ｂにより、細緻に真空引きされ、
該容器１６が所定真空度に維持される。このため、被真
空容器１６のあら引きの際に、開閉バルブ11Ａを全開し
ても、ダミーガスＧが注入され、ポンプ側の圧力が予め
低くされることから、当該容器１６側の圧力（大気圧）
とポンプ側の圧力の差が従来例に比べて小さくなる。こ
の際に、調整バルブ11Ａ内に被真空容器１６からの大気
を緩やかに通過させることができる。
【００１７】これにより、被真空容器１６の単位時間当
たりの圧力変化を小さく抑えることが可能となる。この
圧力変化が小さくなることで、被真空容器１６内に不本
意に生じた塵埃の舞い上がりを極力抑制することが可能
となる。本発明の排気方法によれば、ダミーガスＧの注
入流量及び、被真空容器１６からの排気流量を調整しな
がら、真空引き系の圧力と被真空容器１６内の圧力との
バランスを採りながら真空容器１６を真空引きすること
ができる。
たりの圧力変化を小さく抑えることが可能となる。この
圧力変化が小さくなることで、被真空容器１６内に不本
意に生じた塵埃の舞い上がりを極力抑制することが可能
となる。本発明の排気方法によれば、ダミーガスＧの注
入流量及び、被真空容器１６からの排気流量を調整しな
がら、真空引き系の圧力と被真空容器１６内の圧力との
バランスを採りながら真空容器１６を真空引きすること
ができる。
【００１８】このため、真空容器１６内を単位時間内に
最も効率良く真空引きすることができ、容器内にセット
された半導体ウエハ等の試料をクリーンな状態に維持す
ることができる。これにより、半導体ウエハ等の生産歩
留りの向上を図ることが可能となる。
最も効率良く真空引きすることができ、容器内にセット
された半導体ウエハ等の試料をクリーンな状態に維持す
ることができる。これにより、半導体ウエハ等の生産歩
留りの向上を図ることが可能となる。
【００１９】
【実施例】次に、図を参照しながら本発明の実施例につ
いて説明をする。図２〜４は、本発明の実施例に係る排
気装置及び排気方法の説明図である。図２は、その排気
装置の全体構成図をそれぞれ示している。例えば、ＣＶ
Ｄ装置に適用可能な排気装置は、図２に示すように、大
気／真空仕切り系２１，あら引きポンプ系22Ａ，真空維
持ポンプ系22Ｂ，窒素ガスボンベ２３，ダミーガス調整
系２４及び排気制御装置２５を備える。
いて説明をする。図２〜４は、本発明の実施例に係る排
気装置及び排気方法の説明図である。図２は、その排気
装置の全体構成図をそれぞれ示している。例えば、ＣＶ
Ｄ装置に適用可能な排気装置は、図２に示すように、大
気／真空仕切り系２１，あら引きポンプ系22Ａ，真空維
持ポンプ系22Ｂ，窒素ガスボンベ２３，ダミーガス調整
系２４及び排気制御装置２５を備える。
【００２０】すなわち、大気／真空仕切り系２１は原理
図１の第１の調整手段１１の一例であり、被真空容器
（以下単にチャンバという）１６とポンプ系22Ａや22Ｂ
との間に設けられる。例えば、当該仕切り系２１とポン
プ系22Ａや22Ｂとは口径１インチの耐酸性の配管により
接続される。大気／真空仕切り系２１は、エアオペレー
トバルブ21Ａ，ニードルバルブ21Ｂ，主仕切りバルブ21
Ｃ及び流量センサ21Ｄを有する。
図１の第１の調整手段１１の一例であり、被真空容器
（以下単にチャンバという）１６とポンプ系22Ａや22Ｂ
との間に設けられる。例えば、当該仕切り系２１とポン
プ系22Ａや22Ｂとは口径１インチの耐酸性の配管により
接続される。大気／真空仕切り系２１は、エアオペレー
トバルブ21Ａ，ニードルバルブ21Ｂ，主仕切りバルブ21
Ｃ及び流量センサ21Ｄを有する。
【００２１】バルブ21Ａは開閉バルブ11Ａの一例であ
り、チャンバ１６とポンプ系とを補助的に接続又は遮断
するものである。当該バルブ21Ａはバタフライバルブが
適用され、チャンバ側やポンプ側の配管に対して、口径
１／４インチの耐酸性の配管により接続される。接続は
違口径のＴ型ユニオンが適用される。ニードルバルブ21
Ｂは流量バルブ11Ｂの一例であり、例えば、制御信号Ｓ
Ｄ１に基づいてチャンバ１６からの排気流量を調整する
ものである。当該バルブ21Ｂは口径１／４インチの耐酸
性の配管により接続される。
り、チャンバ１６とポンプ系とを補助的に接続又は遮断
するものである。当該バルブ21Ａはバタフライバルブが
適用され、チャンバ側やポンプ側の配管に対して、口径
１／４インチの耐酸性の配管により接続される。接続は
違口径のＴ型ユニオンが適用される。ニードルバルブ21
Ｂは流量バルブ11Ｂの一例であり、例えば、制御信号Ｓ
Ｄ１に基づいてチャンバ１６からの排気流量を調整する
ものである。当該バルブ21Ｂは口径１／４インチの耐酸
性の配管により接続される。
【００２２】主仕切りバルブ21Ｃは開閉バルブ11Ａの他
の一例であり、チャンバ１６とポンプ系とを直接的に接
続又は遮断するものである。当該バルブ21Ｃはバタフラ
イバルブが適用され、チャンバ１６やポンプ系22Ａや22
Ｂに対して口径１インチの耐酸性の配管により接続され
る。流量センサ21Ｄは、バルブ21Ｂを通過する排気流量
を検出し、流量検出信号ＳＡ２を排気制御装置２５に出
力するものである。
の一例であり、チャンバ１６とポンプ系とを直接的に接
続又は遮断するものである。当該バルブ21Ｃはバタフラ
イバルブが適用され、チャンバ１６やポンプ系22Ａや22
Ｂに対して口径１インチの耐酸性の配管により接続され
る。流量センサ21Ｄは、バルブ21Ｂを通過する排気流量
を検出し、流量検出信号ＳＡ２を排気制御装置２５に出
力するものである。
【００２３】あら引きポンプ系22Ａ及び真空維持ポンプ
系22Ｂはポンプ手段１２の一例である。あら引きポンプ
系22Ａは第１のポンプ系12Ａの一例であり、バタフライ
バルブ221 及びロータリポンプ222 を有する。当該ポン
プ222 はモータＭにより駆動され、チャンバ１６をあら
引きをするものである。当該モータＭの駆動は、例え
ば、制御信号ＳＭ１に基づいてインバータ制御方法が採
用される。この方法は、周波数を低く設定して回転数を
落とし、低出力を得るものである。
系22Ｂはポンプ手段１２の一例である。あら引きポンプ
系22Ａは第１のポンプ系12Ａの一例であり、バタフライ
バルブ221 及びロータリポンプ222 を有する。当該ポン
プ222 はモータＭにより駆動され、チャンバ１６をあら
引きをするものである。当該モータＭの駆動は、例え
ば、制御信号ＳＭ１に基づいてインバータ制御方法が採
用される。この方法は、周波数を低く設定して回転数を
落とし、低出力を得るものである。
【００２４】真空維持ポンプ系22Ｂは第２のポンプ系12
Ｂの一例であり、バタフライバルブ223 及び第１，第２
のメカニカルブースタポンプ224 ，225 及び水封ポンプ
226を有する。各ポンプ224 ，225 及び226 は、各制御
信号ＳＭ２〜ＳＭ４に基づいてインバータ制御方法が採
用される。当該ポンプ系22Ｂの機能は、あら引きされた
チャンバ１６内を細緻に真空引きして所定真空度を維持
する。
Ｂの一例であり、バタフライバルブ223 及び第１，第２
のメカニカルブースタポンプ224 ，225 及び水封ポンプ
226を有する。各ポンプ224 ，225 及び226 は、各制御
信号ＳＭ２〜ＳＭ４に基づいてインバータ制御方法が採
用される。当該ポンプ系22Ｂの機能は、あら引きされた
チャンバ１６内を細緻に真空引きして所定真空度を維持
する。
【００２５】窒素ガスボンベ２３はガス供給手段１３の
一例であり、ポンプ系に圧力調整用のダミーガスＧを供
給するものである。本実施例では、ダミーガスＧに窒素
ガスを用いる。ボンベ２３はダミーガス調整系２４に配
管される。ダミーガス調整系２４は第２の調整手段１４
の一例であり、窒素ガスボンベ２３とポンプ系との間に
設けられる。例えば、ガス調整系２４はバタフライバル
ブ24Ａ，ニードルバルブ24Ｂ及び流量センサ24Ｃを有す
る。バルブ24Ｂはチャンバ側の配管に対して、同口径の
Ｔ型ユニオンにより配管される。また、バルブ24Ｂは制
御信号ＳＤ２に基づいてポンプ系22Ａに注入するＮ2 ガ
スＧの注入流量を調整するものである。流量センサ24Ｃ
は、バルブ24Ｂを通過するＮ2 ガス流量を検出し、流量
検出信号ＳＧを排気制御装置２５に出力するものであ
る。
一例であり、ポンプ系に圧力調整用のダミーガスＧを供
給するものである。本実施例では、ダミーガスＧに窒素
ガスを用いる。ボンベ２３はダミーガス調整系２４に配
管される。ダミーガス調整系２４は第２の調整手段１４
の一例であり、窒素ガスボンベ２３とポンプ系との間に
設けられる。例えば、ガス調整系２４はバタフライバル
ブ24Ａ，ニードルバルブ24Ｂ及び流量センサ24Ｃを有す
る。バルブ24Ｂはチャンバ側の配管に対して、同口径の
Ｔ型ユニオンにより配管される。また、バルブ24Ｂは制
御信号ＳＤ２に基づいてポンプ系22Ａに注入するＮ2 ガ
スＧの注入流量を調整するものである。流量センサ24Ｃ
は、バルブ24Ｂを通過するＮ2 ガス流量を検出し、流量
検出信号ＳＧを排気制御装置２５に出力するものであ
る。
【００２６】排気制御装置２５は制御手段１５の一例で
あり、チャンバ１６の圧力変化を検出し、該圧力変化に
基づいてチャンバ１６からの排気流量及び、窒素ガスボ
ンベ２３からのＮ2 ガスＧの注入流量を調整するもので
ある。排気制御装置２５は中央処理装置（ＣＰＵ），メ
モリ，インタフェース及びその他の機能回路等から成
る。例えば、ＣＰＵは、メモリ，インタフェース及びそ
の他の機能回路の入出力の制御をし、メモリは制御目標
となる理想排気特性のデータを記憶する。インタフェー
スは各種検出信号ＳＡ１，ＳＡ２，制御信号ＳＤ１，Ｓ
Ｄ２及びＳＭ１〜ＳＭ４の入出力を補助するものであ
り、その他の機能回路はＣＰＵからのデータや各種検出
信号ＳＡ１，ＳＡ２に基づいて各種制御信号ＳＤ１，Ｓ
Ｄ２及びＳＭ１〜ＳＭ４を発生するものである。
あり、チャンバ１６の圧力変化を検出し、該圧力変化に
基づいてチャンバ１６からの排気流量及び、窒素ガスボ
ンベ２３からのＮ2 ガスＧの注入流量を調整するもので
ある。排気制御装置２５は中央処理装置（ＣＰＵ），メ
モリ，インタフェース及びその他の機能回路等から成
る。例えば、ＣＰＵは、メモリ，インタフェース及びそ
の他の機能回路の入出力の制御をし、メモリは制御目標
となる理想排気特性のデータを記憶する。インタフェー
スは各種検出信号ＳＡ１，ＳＡ２，制御信号ＳＤ１，Ｓ
Ｄ２及びＳＭ１〜ＳＭ４の入出力を補助するものであ
り、その他の機能回路はＣＰＵからのデータや各種検出
信号ＳＡ１，ＳＡ２に基づいて各種制御信号ＳＤ１，Ｓ
Ｄ２及びＳＭ１〜ＳＭ４を発生するものである。
【００２７】なお、チャンバ１６は半導体ウエハ等の試
料をＣＶＤ処理する反応室であり、本発明の実施例で
は、容量５０００ｃｃ程度のものである。また、圧力セ
ンサ16Ａはチャンバ１６の圧力を検出し、圧力検出信号
ＳＡ１を排気制御装置２５に出力するものである。次
に、本発明の実施例に係る排気方法について、当該装置
の動作を説明する。図３は、本発明の実施例に係る排気
装置の制御フローチャートであり、図４は、それを補足
する排気特性図をそれぞれ示している。
料をＣＶＤ処理する反応室であり、本発明の実施例で
は、容量５０００ｃｃ程度のものである。また、圧力セ
ンサ16Ａはチャンバ１６の圧力を検出し、圧力検出信号
ＳＡ１を排気制御装置２５に出力するものである。次
に、本発明の実施例に係る排気方法について、当該装置
の動作を説明する。図３は、本発明の実施例に係る排気
装置の制御フローチャートであり、図４は、それを補足
する排気特性図をそれぞれ示している。
【００２８】例えば、図２に示したようなチャンバ１６
を大気状態から所望の真空状態にする場合、図３の処理
フローチャートにおいて、まず、ステップＰ１であら引
きポンプ用の仕切りバルブ221 を「開」にしてあら引き
の準備をする。なお、当該排気装置の各バルブは予め
「閉」状態にされ、各ポンプ系22及び22Ａの真空度が保
たれているものとする。
を大気状態から所望の真空状態にする場合、図３の処理
フローチャートにおいて、まず、ステップＰ１であら引
きポンプ用の仕切りバルブ221 を「開」にしてあら引き
の準備をする。なお、当該排気装置の各バルブは予め
「閉」状態にされ、各ポンプ系22及び22Ａの真空度が保
たれているものとする。
【００２９】次いで、一方のステップP2Ａでロータリポ
ンプ222 の制御を開始する。例えば、制御信号ＳＭ１に
基づいてロータリポンプ222 がインバータ出力制御され
る。この制御は、周波数を低く設定して回転数を落と
し、低出力を得るものである。また、他方のステップP2
Ｂでダミーガス調整系２４のバタフライバルブ24Ａを
「開」にして、Ｎ2 ガスＧの注入し始める。この際に、
窒素ガスボンベ２３からポンプ系にＮ2 ガスＧが供給さ
れる。バルブ24Ｂを通過するＮ2 ガスＧの注入流量は流
量センサ24Ｃにより検出され、その流量検出信号ＳＧが
排気制御装置２５に出力される。さらに、制御信号ＳＤ
２に基づいてバルブ24Ｂにより、あら引きポンプ系22Ａ
に注入するＮ2 ガスＧの注入流量が自動調整される。例
えば、Ｎ2ガスＧが初期の流量から順次減らされる。
ンプ222 の制御を開始する。例えば、制御信号ＳＭ１に
基づいてロータリポンプ222 がインバータ出力制御され
る。この制御は、周波数を低く設定して回転数を落と
し、低出力を得るものである。また、他方のステップP2
Ｂでダミーガス調整系２４のバタフライバルブ24Ａを
「開」にして、Ｎ2 ガスＧの注入し始める。この際に、
窒素ガスボンベ２３からポンプ系にＮ2 ガスＧが供給さ
れる。バルブ24Ｂを通過するＮ2 ガスＧの注入流量は流
量センサ24Ｃにより検出され、その流量検出信号ＳＧが
排気制御装置２５に出力される。さらに、制御信号ＳＤ
２に基づいてバルブ24Ｂにより、あら引きポンプ系22Ａ
に注入するＮ2 ガスＧの注入流量が自動調整される。例
えば、Ｎ2ガスＧが初期の流量から順次減らされる。
【００３０】次いで、ステップP3Ａで大気／真空仕切り
系２１のエアオペレートバルブ21Ａを「開」にしてチャ
ンバ１６内を排気する。この際に、ロータリポンプ222
は、チャンバ１６をあら引きする。このとき、チャンバ
１６の圧力が圧力センサ16Ａにより検出され、その圧力
検出信号ＳＡ１が排気制御装置２５に出力される。ま
た、制御信号ＳＤ１に基づいてチャンバ１６からの排気
流量がニードルバルブ21Ｂにより調整される。バルブ21
Ｂを通過する排気流量は流量センサ21Ｄにより検出さ
れ、その流量検出信号ＳＡ２は排気制御装置２５に出力
される。
系２１のエアオペレートバルブ21Ａを「開」にしてチャ
ンバ１６内を排気する。この際に、ロータリポンプ222
は、チャンバ１６をあら引きする。このとき、チャンバ
１６の圧力が圧力センサ16Ａにより検出され、その圧力
検出信号ＳＡ１が排気制御装置２５に出力される。ま
た、制御信号ＳＤ１に基づいてチャンバ１６からの排気
流量がニードルバルブ21Ｂにより調整される。バルブ21
Ｂを通過する排気流量は流量センサ21Ｄにより検出さ
れ、その流量検出信号ＳＡ２は排気制御装置２５に出力
される。
【００３１】これにより、チャンバ１６の圧力変化が排
気制御装置２５により認識され、該圧力変化に基づいて
チャンバ１６からの排気流量及び、窒素ガスボンベ２３
からのＮ2 ガスＧの注入流量が調整される。他方、ステ
ップP3ＢでＮ2 ガスＧを注入流量を調整制御の終了判断
をする。この際に、調整制御が終了しない場合（ＮＯ）
には、ステップP2Ｂに戻ってその制御を継続する。その
調整制御が終了した場合（ＹES）には、仕切りバルブ24
Ａを「閉」にして、Ｎ2 ガスＧを停止してステップＰ４
に移行する。
気制御装置２５により認識され、該圧力変化に基づいて
チャンバ１６からの排気流量及び、窒素ガスボンベ２３
からのＮ2 ガスＧの注入流量が調整される。他方、ステ
ップP3ＢでＮ2 ガスＧを注入流量を調整制御の終了判断
をする。この際に、調整制御が終了しない場合（ＮＯ）
には、ステップP2Ｂに戻ってその制御を継続する。その
調整制御が終了した場合（ＹES）には、仕切りバルブ24
Ａを「閉」にして、Ｎ2 ガスＧを停止してステップＰ４
に移行する。
【００３２】ステップＰ４ではチャンバ１６からの排気
流量のあら引き制御の終了判断をする。この際に、あら
引き制御が終了しない場合（ＮＯ）には、ステップP2Ａ
に戻ってその制御を継続する。あら引き制御が終了した
場合（ＹES）には、ステップＰ５に移行する。ステップ
Ｐ５では、あら引きポンプ系22Ａから真空度維持ポンプ
系22Ｂに切り替える。ここで、仕切りバルブ221 を
「閉」にし、バルブ21Ｂを「開」にする。続いて、バル
ブ223 を「開」にする。チャンバ１６とポンプ系とが主
仕切りバルブ21Ｃを「開」することで直接的に接続され
る。
流量のあら引き制御の終了判断をする。この際に、あら
引き制御が終了しない場合（ＮＯ）には、ステップP2Ａ
に戻ってその制御を継続する。あら引き制御が終了した
場合（ＹES）には、ステップＰ５に移行する。ステップ
Ｐ５では、あら引きポンプ系22Ａから真空度維持ポンプ
系22Ｂに切り替える。ここで、仕切りバルブ221 を
「閉」にし、バルブ21Ｂを「開」にする。続いて、バル
ブ223 を「開」にする。チャンバ１６とポンプ系とが主
仕切りバルブ21Ｃを「開」することで直接的に接続され
る。
【００３３】その後、ステップＰ６でチャンバ１６を所
望の真空状態に維持する。ここで、あら引き引きされた
チャンバ１６が真空維持ポンプ系22Ｂの第１，第２のメ
カニカルブースタポンプ224 ，225 及び水封ポンプ226
により、各制御信号ＳＭ２〜ＳＭ４に基づいてインバー
タ出力制御される。これにより、チャンバ１６内が細緻
に真空引きされ、該容器１６が所定真空度に維持され、
それが大気状態から所望の真空状態にされる。
望の真空状態に維持する。ここで、あら引き引きされた
チャンバ１６が真空維持ポンプ系22Ｂの第１，第２のメ
カニカルブースタポンプ224 ，225 及び水封ポンプ226
により、各制御信号ＳＭ２〜ＳＭ４に基づいてインバー
タ出力制御される。これにより、チャンバ１６内が細緻
に真空引きされ、該容器１６が所定真空度に維持され、
それが大気状態から所望の真空状態にされる。
【００３４】このようにして、本発明の実施例に係る排
気装置によれば、ポンプ系に圧力調整用のＮ2 ガスＧを
供給する窒素ガスボンベ２３やチャンバ１６の圧力変化
を検出し、該圧力変化に基づいてチャンバ１６からの排
気流量及び、窒素ガスボンベ２３からのＮ2 ガスＧの注
入流量を調整する排気制御装置２５が設けられる。この
ため、チャンバ１６のあら引きの際に、エアオペレーシ
ョンバルブ21Ａを全開しても、Ｎ2 ガスＧが注入され、
ポンプ側の圧力が予め低くされることから、当該容器１
６側の圧力（大気圧）とポンプ側の圧力の差が従来例に
比べて小さくなる。この際に、ニードルバルブ21Ｂ内に
チャンバ１６からの大気を緩やかに通過させることがで
きる。このことで、塵埃の舞い上がりを極力阻止するこ
とが可能となる。
気装置によれば、ポンプ系に圧力調整用のＮ2 ガスＧを
供給する窒素ガスボンベ２３やチャンバ１６の圧力変化
を検出し、該圧力変化に基づいてチャンバ１６からの排
気流量及び、窒素ガスボンベ２３からのＮ2 ガスＧの注
入流量を調整する排気制御装置２５が設けられる。この
ため、チャンバ１６のあら引きの際に、エアオペレーシ
ョンバルブ21Ａを全開しても、Ｎ2 ガスＧが注入され、
ポンプ側の圧力が予め低くされることから、当該容器１
６側の圧力（大気圧）とポンプ側の圧力の差が従来例に
比べて小さくなる。この際に、ニードルバルブ21Ｂ内に
チャンバ１６からの大気を緩やかに通過させることがで
きる。このことで、塵埃の舞い上がりを極力阻止するこ
とが可能となる。
【００３５】これにより、図４の排気特性に示すように
チャンバ１６の単位時間当たりの圧力変化を小さく抑え
ることが可能となる。なお、図４において、縦軸はチャ
ンバ内の圧力Ｐ（等分目盛）であり、横軸は時間（等分
目盛）ｔである。θはグラフの傾きであり、４５°であ
る。この特性は圧力変化と時間変化との比が１：１にな
っている。
チャンバ１６の単位時間当たりの圧力変化を小さく抑え
ることが可能となる。なお、図４において、縦軸はチャ
ンバ内の圧力Ｐ（等分目盛）であり、横軸は時間（等分
目盛）ｔである。θはグラフの傾きであり、４５°であ
る。この特性は圧力変化と時間変化との比が１：１にな
っている。
【００３６】これによれば、ポンプ側にＮ2 ガスＧを流
すことにより、容器側とポンプ側との圧力差が小さくな
り、圧力変化が大幅に抑えられる。すなわち、従来例で
は、特性Ｂに示すように、圧力は急激に変化する。これ
は、エアオペレートバルブ21Ａを開けた際に、ポンプ側
と真空容器側での圧力差が大きいためである。ここで、
両特性Ａ，Ｂを比較すると、従来例の特性Ｂが、単位時
間当たりの排気量が多くなっている。それに比べて本発
明の特性Ａでは、滑らかになるので、塵埃の舞い上がり
等も少なくなる。このように圧力変化が小さくなること
で、チャンバ１６内に不本意に生じた塵埃の舞い上がり
を極力抑制することが可能となる。
すことにより、容器側とポンプ側との圧力差が小さくな
り、圧力変化が大幅に抑えられる。すなわち、従来例で
は、特性Ｂに示すように、圧力は急激に変化する。これ
は、エアオペレートバルブ21Ａを開けた際に、ポンプ側
と真空容器側での圧力差が大きいためである。ここで、
両特性Ａ，Ｂを比較すると、従来例の特性Ｂが、単位時
間当たりの排気量が多くなっている。それに比べて本発
明の特性Ａでは、滑らかになるので、塵埃の舞い上がり
等も少なくなる。このように圧力変化が小さくなること
で、チャンバ１６内に不本意に生じた塵埃の舞い上がり
を極力抑制することが可能となる。
【００３７】また、本発明の実施例に係る排気方法によ
れば、Ｎ2 ガスＧの注入流量及び、チャンバ１６からの
排気流量を調整しながら、真空引き系の圧力とチャンバ
１６内の圧力とのバランスを採りながらチャンバ１６を
真空引きすることができる。このため、チャンバ１６内
を単位時間内に最も効率良く真空引きすることができ、
また、チャンバ１６内の塵埃の舞い上がりが抑えられ
る。
れば、Ｎ2 ガスＧの注入流量及び、チャンバ１６からの
排気流量を調整しながら、真空引き系の圧力とチャンバ
１６内の圧力とのバランスを採りながらチャンバ１６を
真空引きすることができる。このため、チャンバ１６内
を単位時間内に最も効率良く真空引きすることができ、
また、チャンバ１６内の塵埃の舞い上がりが抑えられ
る。
【００３８】これにより、容器内にセットされた半導体
ウエハ等の試料をクリーンな状態に維持することがで
き、その生産歩留りの向上を図ることが可能となる。ま
た、当該排気装置を適用したＣＶＤ装置やエッチング装
置等の信頼性の向上に寄与する。さらに、大気／真空仕
切り系２１の主仕切りバルブ21Ｃが流量調整機能を有す
る場合には、バイパスラインを使用せずに真空引きをす
ることができ、部品点数の削減化が図れる。これによ
り、設備の種類によって多少変化はあるが、大気／真空
状態を繰り返すプラズマ装置や電子ビーム露光装置等の
排気効率を向上させることが可能となる。
ウエハ等の試料をクリーンな状態に維持することがで
き、その生産歩留りの向上を図ることが可能となる。ま
た、当該排気装置を適用したＣＶＤ装置やエッチング装
置等の信頼性の向上に寄与する。さらに、大気／真空仕
切り系２１の主仕切りバルブ21Ｃが流量調整機能を有す
る場合には、バイパスラインを使用せずに真空引きをす
ることができ、部品点数の削減化が図れる。これによ
り、設備の種類によって多少変化はあるが、大気／真空
状態を繰り返すプラズマ装置や電子ビーム露光装置等の
排気効率を向上させることが可能となる。
【００３９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の排気装置
によれば、圧力調整用のダミーガスをポンプ手段に供給
するガス供給手段や被真空容器の圧力変化を検出し、該
圧力変化に基づいて排気流量及び、ダミーガスの注入流
量を調整する制御手段が設けられる。
によれば、圧力調整用のダミーガスをポンプ手段に供給
するガス供給手段や被真空容器の圧力変化を検出し、該
圧力変化に基づいて排気流量及び、ダミーガスの注入流
量を調整する制御手段が設けられる。
【００４０】このため、被真空容器のあら引きの際に、
第１の調整手段の開閉バルブを全開しても、ポンプ側の
圧力がダミーガスを注入することによって、予め低くさ
れることから、当該容器側の圧力（大気圧）とポンプ側
の圧力の差が従来例に比べて小さくなる。また、制御手
段を介して第１の調整手段の調整バルブ内に被真空容器
からの大気を緩やかに通過させることができる。このこ
とで、塵埃の舞い上がりを極力阻止することが可能とな
る。
第１の調整手段の開閉バルブを全開しても、ポンプ側の
圧力がダミーガスを注入することによって、予め低くさ
れることから、当該容器側の圧力（大気圧）とポンプ側
の圧力の差が従来例に比べて小さくなる。また、制御手
段を介して第１の調整手段の調整バルブ内に被真空容器
からの大気を緩やかに通過させることができる。このこ
とで、塵埃の舞い上がりを極力阻止することが可能とな
る。
【００４１】また、本発明の排気方法によれば、ダミー
ガスの注入流量及び、被真空容器からの排気流量を調整
しながら、真空引き系の圧力と被真空容器内の圧力との
バランスを採りながら真空容器を真空引きすることがで
きる。このため、被真空容器の単位時間当たりの圧力変
化を小さく抑えることが可能となる。このことで、被真
空容器内に不本意に生じた塵埃の舞い上がりを極力抑制
することが可能となり、当該容器内にセットされた半導
体ウエハ等の試料をクリーンな状態に維持することがで
き、その生産歩留りの向上を図ることが可能となる。
ガスの注入流量及び、被真空容器からの排気流量を調整
しながら、真空引き系の圧力と被真空容器内の圧力との
バランスを採りながら真空容器を真空引きすることがで
きる。このため、被真空容器の単位時間当たりの圧力変
化を小さく抑えることが可能となる。このことで、被真
空容器内に不本意に生じた塵埃の舞い上がりを極力抑制
することが可能となり、当該容器内にセットされた半導
体ウエハ等の試料をクリーンな状態に維持することがで
き、その生産歩留りの向上を図ることが可能となる。
【００４２】これにより、当該排気装置を適用したＣＶ
Ｄ装置やエッチング装置等の信頼性の向上に寄与すると
ころが大きい。
Ｄ装置やエッチング装置等の信頼性の向上に寄与すると
ころが大きい。
【図１】本発明に係る排気装置の原理図である。
【図２】本発明の実施例に係る排気装置の全体構成図で
ある。
ある。
【図３】本発明の実施例に係る排気装置の制御フローチ
ャートである。
ャートである。
【図４】本発明の実施例に係るチャンバの排気特性図で
ある。
ある。
【図５】従来例に係る排気装置の構成図である。
１１…第１の調整手段、 11Ａ…開閉バルブ、 11Ｂ…調整バルブ、 １２…ポンプ手段、 12Ａ…第１のポンプ系、 12Ｂ…第２のポンプ系、 １３…ガス供給手段、 １４…第２の調整手段、 １５…制御手段、 Ｇ…ダミーガス。
Claims (6)
- 【請求項１】 被真空容器（１６）とポンプ手段（１
２）との間に設けられ、及び、該被真空容器（１６）か
らの排気流量を調整する第１の調整手段（１１）と、 前記被真空容器（１６）を真空引きをして所定真空度を
保持するポンプ手段（１２）と、 前記ポンプ手段（１２）に圧力調整用のダミーガス
（Ｇ）を供給するガス供給手段（１３）と、 前記ガス供給手段（１３）とポンプ手段（１２）との間
に設けられ、及び、前記ダミーガス（Ｇ）の注入流量を
調整する第２の調整手段（１４）とを備えることを特徴
とする排気装置。 - 【請求項２】 第１の調整手段（１１）は、前記被真空
容器（１６）とポンプ手段（１２）とを接続又は遮断す
る開閉バルブ（11Ａ）及び、前記被真空容器（１６）か
らの排気流量を調整する流量バルブ（11Ｂ）を有するこ
とを特徴とする請求項１記載の排気装置。 - 【請求項３】 ポンプ手段（１２）は、前記被真空容器
（１６）を粗く真空引きをする第１のポンプ系（12Ａ）
及び、 粗く真空引きされた前記被真空容器（１６）を細緻に真
空引きして所定真空度を維持する第２のポンプ系（12
Ｂ）を有することを特徴とする請求項１記載の排気装
置。 - 【請求項４】 被真空容器（１６）の圧力変化を検出
し、該圧力変化の検出情報に基づいて前記被真空容器
（１６）からの排気流量及び、 前記ガス供給手段（１３）からのダミーガス（Ｇ）の注
入流量を調整する制御手段（１５）が設けられることを
特徴とする請求項１記載の排気装置。 - 【請求項５】 ダミーガス（Ｇ）には、窒素ガスを用い
ることを特徴とする請求項１記載の排気装置。 - 【請求項６】 真空引き系の圧力と被真空容器（１６）
内の圧力との差を調整するダミーガス（Ｇ）の注入流量
及び、 前記被真空容器（１６）からの排気流量を調整しながら
該被真空容器（１６）を真空引きすることを特徴とする
排気方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1057994A JPH07217537A (ja) | 1994-02-01 | 1994-02-01 | 排気装置及び排気方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1057994A JPH07217537A (ja) | 1994-02-01 | 1994-02-01 | 排気装置及び排気方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07217537A true JPH07217537A (ja) | 1995-08-15 |
Family
ID=11754162
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1057994A Withdrawn JPH07217537A (ja) | 1994-02-01 | 1994-02-01 | 排気装置及び排気方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07217537A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09317641A (ja) * | 1996-05-30 | 1997-12-09 | Daikin Ind Ltd | 真空排気装置 |
| JP2002541541A (ja) * | 1999-04-07 | 2002-12-03 | アルカテル | 真空チャンバ内の圧力を調整するためのシステム、このシステムを装備した真空ポンピングユニット |
| JP2006335444A (ja) * | 2005-06-03 | 2006-12-14 | Tosei Kk | 液体の充填方法及び充填装置、並びに該充填装置の洗浄方法及び洗浄装置 |
| EP1967610A1 (de) * | 2007-03-08 | 2008-09-10 | Schott AG | Fördereinrichtung für Precursor |
| CN111519167A (zh) * | 2019-02-04 | 2020-08-11 | 东京毅力科创株式会社 | 排气装置、处理系统和处理方法 |
-
1994
- 1994-02-01 JP JP1057994A patent/JPH07217537A/ja not_active Withdrawn
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09317641A (ja) * | 1996-05-30 | 1997-12-09 | Daikin Ind Ltd | 真空排気装置 |
| JP2002541541A (ja) * | 1999-04-07 | 2002-12-03 | アルカテル | 真空チャンバ内の圧力を調整するためのシステム、このシステムを装備した真空ポンピングユニット |
| JP2006335444A (ja) * | 2005-06-03 | 2006-12-14 | Tosei Kk | 液体の充填方法及び充填装置、並びに該充填装置の洗浄方法及び洗浄装置 |
| JP4542949B2 (ja) * | 2005-06-03 | 2010-09-15 | 東製株式会社 | 充填機 |
| EP1967610A1 (de) * | 2007-03-08 | 2008-09-10 | Schott AG | Fördereinrichtung für Precursor |
| JP2008240153A (ja) * | 2007-03-08 | 2008-10-09 | Schott Ag | 前駆体用の供給装置 |
| CN111519167A (zh) * | 2019-02-04 | 2020-08-11 | 东京毅力科创株式会社 | 排气装置、处理系统和处理方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20010403 |