JP2008235269A - プラズマディスプレイ装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】統計遅延時間を短縮し、統計遅延時間の温度に対する依存性を低減して、放電安定性を向上させたプラズマディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】本発明に係るプラズマディスプレイ装置は、基板上に形成される、一対の第1表示電極及び第2表示電極と、第1表示電極及び第2表示電極を覆って、基板上に形成される、誘電体層と、誘電体層を覆って、基板上に形成される、MgO保護層と、を有するプラズマディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネルを駆動する駆動部、ならびに駆動部を制御し、維持期間の維持放電パルス幅を1.0〜3.5μsにする駆動制御信号を出力する制御部を有し、MgO保護層は、MgOに対して、Caを100〜300質量ppm、Alを100〜250質量ppm、Feを10〜50質量ppm、及びSiを70〜170質量ppm含む。
【選択図】図2
【解決手段】本発明に係るプラズマディスプレイ装置は、基板上に形成される、一対の第1表示電極及び第2表示電極と、第1表示電極及び第2表示電極を覆って、基板上に形成される、誘電体層と、誘電体層を覆って、基板上に形成される、MgO保護層と、を有するプラズマディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネルを駆動する駆動部、ならびに駆動部を制御し、維持期間の維持放電パルス幅を1.0〜3.5μsにする駆動制御信号を出力する制御部を有し、MgO保護層は、MgOに対して、Caを100〜300質量ppm、Alを100〜250質量ppm、Feを10〜50質量ppm、及びSiを70〜170質量ppm含む。
【選択図】図2
Description
本発明はプラズマディスプレイ装置に関する。より詳しくは、統計遅延時間を短縮し、統計遅延時間の温度に対する依存性を低減することによって、放電安定性を向上させることができるプラズマディスプレイ装置に関する。
一般に、プラズマディスプレイ装置は、プラズマディスプレイパネルの放電セル内での気体放電により発生する真空紫外線によって、蛍光体を励起させて、画像を表現する表示装置であって、高解像度の大画面構成が可能であり、次世代薄型表示装置として脚光を浴びている。
プラズマディスプレイパネルは、気体放電させるときに発生するプラズマの発光によって、文字及び/またはグラフィックを表示する装置である。つまり、プラズマディスプレイパネルの放電空間に設けられた二つの電極に所定の電圧を印加して、電極間でプラズマ放電が起こると、このプラズマ放電時に発生する紫外線によって、所定のパターンで形成された蛍光体層を励起させて画像を形成する。
一般に、プラズマディスプレイパネルは、誘電体層を保護するために、誘電体層の上部に保護層を有する。前記保護層の主な材料としては、可視光線がよく透過できるように、透明であるだけでなく、誘電体層の保護及び2次電子放出の性能に優れたMgOが汎用されている。
ここで、MgOを含む保護層(以下、MgO保護層ともいう)は、プラズマディスプレイパネル動作中の放電時における、放電ガスのイオン衝撃による影響を緩和させることができる耐スパッタリング特性を有し、イオン衝突から誘電体層を保護する。そして、2次電子の放出の際、放電電圧を下げる役割を果たす。通常、MgO保護層は、透明保護薄膜であって、500〜900nm(5000〜9000Å)の厚さで誘電体層を覆って形成される。
したがって、MgO保護層を構成する成分と膜特性は、放電特性に大きく影響を及ぼしうる。MgO保護層の特性は、その成分と蒸着時の成膜条件に大きく依存する。そのため、目的とする膜特性を向上させるために最適な材料を開発することが特に要求される。
また、応答速度の改善による、高精細プラズマディスプレイパネルの放電安定性の向上が重要な課題となっている。高精細プラズマディスプレイパネルにおいては、高速のスキャン速度に対応して、アドレシングが漏れなく進行され、安定した放電を実現するために、より速い応答速度が要求される。スキャン時間に反応する応答速度は、放電遅延時間に影響される。放電遅延時間は、放電の形成に要する時間である形成遅延時間(Tf)と、電極間における放電の進展(統計)に要する時間である統計遅延時間(Ts)とに区分することができる。
大韓民国特許出願公開第10−2005−0113685号
大韓民国特許出願公開第10−2004−0032668号
本発明の課題は、統計遅延時間を短縮し、統計遅延時間の温度に対する依存性を低減して、放電安定性を向上させたプラズマディスプレイ装置を提供することである。
上記課題を解決するために、本発明に係るプラズマディスプレイ装置は、基板上に形成される、一対の第1表示電極及び第2表示電極と、第1表示電極及び第2表示電極を覆って、基板上に形成される、誘電体層と、誘電体層を覆って、基板上に形成される、MgO保護層と、を有するプラズマディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネルを駆動する駆動部、ならびに駆動部を制御し、維持期間の維持放電パルス幅を1.0〜3.5μsにする駆動制御信号を出力する制御部を有し、MgO保護層は、MgOに対して、Caを100〜300質量ppm、Alを100〜250質量ppm、Feを10〜50質量ppm、及びSiを70〜170質量ppm含む。
MgO保護層は、MgOに対して、Caを160〜180質量ppm含むことが好ましい。
MgO保護層は、MgOに対して、Alを150〜220質量ppm含むことが好ましい。
MgO保護層は、MgOに対して、Feを20〜30質量ppm含むことが好ましい。
MgO保護層は、MgOに対して、Siを90〜160質量ppm含むことが好ましい。
維持放電パルス幅は、1.0〜3.0μsである含むことが好ましい。
維持期間は、9.0〜25μsである含むことが好ましく、10〜25μsである含むことがより好ましい。
維持期間における最初の維持放電パルス幅は2.0〜7.5μsである含むことが好ましく、2.0〜7.0μsであることがより好ましい。
放電ガスは、Neと、Ne100体積部に対して5〜30体積部のXeと、を含むことが好ましい。
放電ガスは、Ne100体積部に対して、He、Ar、Kr、O2、及びN2からなる群より選択される少なくとも1種を含むガスを、0を超えて70体積部以下さらに含むことが好ましい。
本発明によれば、高精細プラズマディスプレイ装置において、特定量のCa、Al、Fe、及びSiを含有するMgO保護層を含むことにより、ドーパント元素の相互作用による効果として統計遅延時間を短縮し、統計遅延時間の温度に対する依存性を低減して、放電安定性を向上させることができる。
以下、添付した図面を参照して、本発明の実施形態に係るプラズマディスプレイ装置について詳細に説明する。しかし、本発明は、以下で説明する実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的範囲内において多様な形態をとりうる。
図1は、本発明の一実施形態に係るプラズマディスプレイ装置を示す概略図である。
図1に示すように、本発明の一実施形態に係るプラズマディスプレイ装置はプラズマディスプレイパネル100、制御部200、アドレス電極駆動部300、維持電極駆動部400、及び走査電極駆動部500を有する。
プラズマディスプレイパネル100は後述の図2のプラズマディスプレイパネルと同様の構成を有する。
制御部200は外部から映像信号を受信して、アドレス電極(A)駆動制御信号、維持電極(X)駆動制御信号、及び走査電極(Y)駆動制御信号を出力する。そして、制御部200は1フレームを複数のサブフィールドに分割して駆動し、各サブフィールドは時間的な動作変化で表現すればリセット期間、アドレス期間、及び維持期間で構成される。
アドレス電極駆動部300は、制御部200からアドレス電極(A)駆動制御信号を受信して表示しようとする放電セルを選択するための表示データ信号を各アドレス電極(A1、A2、A3、A4・・・Am)に印加する。
維持電極駆動部400は、制御部200から維持電極(X)駆動制御信号を受信して、各維持電極(X1、X2、X3・・・Xn)に駆動電圧を印加する。
走査電極駆動部500は、制御部200から走査電極(Y)駆動制御信号を受信して、各走査電極(Y1、Y2、・・・Yn)に駆動電圧を印加する。
以下、上記プラズマディスプレイ100について説明する。
図2は、本発明の一実施形態に係るプラズマディスプレイ装置のプラズマディスプレイパネルの一部の構造を分解した状態を示す斜視図である。
図2に示すように、本発明の一実施形態に係るプラズマディスプレイ装置のプラズマディスプレイパネルは、第1基板3及び第2基板1が互いに対向して配置される。第1基板3の第2基板1と対向する面上には、アドレス電極13が、一方向(図面のy軸方向)に沿って配置される。さらに、第1誘電体層15が、アドレス電極13を覆うように、第1基板3の第2基板1と対向する面上に形成される。第1誘電体層15上には、各アドレス電極13の間に配置されるように隔壁5が形成される。それぞれの隔壁5の間には、複数の放電セル(7R、7G、7B)が形成される。放電セル(7R、7G、7B)内には、それぞれ赤色(R)、緑色(G)、及び青色(B)それぞれの蛍光体層(8R、8G、8B)が形成される。一方、第2基板1の第1基板3と対向する面上には、一対の第1表示電極9及び第2表示電極11が、アドレス電極13と直交する方向(図面のx軸方向)に沿って配置される。第1表示電極9及び第2表示電極11は、パス電極(9a、11a)及び透明電極(9b、11b)で構成される。そして、第2誘電体層17が、第1表示電極9及び第2表示電極11を覆うように、第2基板1の第1基板3と対向する面上に配置される。さらに、第2誘電体層17を覆うように、MgO保護層19が形成される。
隔壁5は、放電空間を区切るものであればいかなる形状をも有することが可能であり、多様なパターンの隔壁が形成されうる。例えば、隔壁5は帯状などの開放型の形状、またはワッフル状、マトリックス状、デルタ状などの閉鎖型の形状に形成されうる。また、閉鎖型の隔壁の場合は、放電空間の断面が四角形、三角形、及び五角形などの多角形、または円形、楕円形などの形状に形成される。
放電セル(7R、7G、7B)は、第1基板3及び第2基板1に挟まれた領域に形成される。第1基板3上のアドレス電極13と、第2基板1上の第1表示電極9及び第2表示電極11とは互いに直交する方向に形成されるが、このアドレス電極13と第1表示電極9及び第2表示電極11との間の部分が、放電セル(7R、7G、7B)を構成する部分になる。
放電セル(7R、7G、7B)には放電ガスが封入される。
放電ガスは、Neと、Ne100体積部に対して5〜30体積部のXeと、を含むことが好ましく、Neと、Ne100体積部に対して7〜25体積部のXeとを含むことがより好ましい。放電ガスとして、Neと、Ne100体積部に対して5〜30体積部のXeとを含む放電ガスを用いた場合、放電ガスのイオン化率が高まる。したがって、このような放電ガスを高精細プラズマディスプレイ装置に適用すると、放電開始電圧を下げることができるため、高精細プラズマディスプレイパネルの消費電力を低減させ、輝度を向上させることができる。
また、上記放電ガスは、Ne100体積部に対して、He、Ar、Kr、O2、及びN2からなる群より選択される少なくとも1種を含むガスを、0を超えて70体積部以下さらに含むことが好ましく、14〜65体積部含むことがより好ましい。放電ガスが、Ne100体積部に対してHe、Ar、Kr、O2、及びN2からなる群より選択されるガスを、0を超えて70体積部以下さらに含む場合、放電ガスのイオン化率が高まる。したがって、このような放電ガスを高精細プラズマディスプレイ装置に適用すると、放電開始電圧を下げることができるため、高精細プラズマディスプレイパネルの消費電力を低減させ、輝度を向上させることができる。
MgO保護層19は、プラズマディスプレイ装置において、誘電体層の表面を覆い、放電期間中に放電ガスのイオン衝撃から誘電体層を保護する役割を果たす。上述のように、MgO保護層19の基本材料としては、耐スパッタリング特性と大きい2次電子放出係数とを有するMgOを使用する。さらに、Ca、Al、Fe、及びSiのドーパント元素を所定量ドーピングする。これらのドーパント元素の相互作用によって、放電ガスへの放電安定性が改善される。これによって、駆動波形と放電ガスとを採用したプラズマディスプレイ装置の駆動安定性を確保することができる。すなわち、点灯されるべき各セルが点灯されないなどの特定セルの放電不能状態となることが抑制され、表示品質を改善することができる。
MgO保護層19において、Caの含有量は、MgOに対して100〜300質量ppmであり、好ましくは160〜180ppmである。Caの含有量が100〜300質量ppmであると、放電遅延時間は非常に短い。一方、Caの含有量が100質量ppmより小さいか、300質量ppmを超える場合は、放電遅延時間が増加する虞がある。
MgO保護層19において、Alの含有量は、MgOに対して100〜250質量ppmであり、好ましくは150〜220質量ppmである。Alの含有量によって放電遅延時間を調節することができるので、Alの含有量が100ppmより小さいか、250質量ppmを超える場合は、好ましくない放電遅延時間が生じる虞がある。
MgO保護層19において、Feの含有量は、MgOに対して10〜50質量ppmであり、好ましくは20〜30ppmである。Feの含有量によって放電遅延時間を調節することができるので、Feの含有量が10ppmより小さいか、50質量ppmを超える場合は、好ましくない放電遅延時間が生じる虞がある。
MgO保護層19において、Siの含有量は、MgOに対して70〜170質量ppmであり、好ましくは90〜160質量ppmである。Siの含有量が70〜170質量ppmであると、放電遅延時間は非常に短い。一方、Siの含有量が70質量ppmより小さいか、170質量ppmを超える場合は、放電遅延時間が増加する虞がある。
なお、本発明の一実施形態に係るプラズマディスプレイ装置のプラズマディスプレイ100に用いられるその他の部材については、従来公知の技術が適宜採用されうる。
以下、本発明の一実施形態に係るプラズマディスプレイ装置における、維持期間及び維持放電パルスについて説明する。維持期間の維持放電パルスは、維持電極駆動部400及び走査電極駆動部500から、それぞれ維持電極(第2表示電極11)及び走査電極(第1表示電極9)に印加される。この維持期間の維持放電パルスは、上記制御部200が出力する駆動制御信号によって制御される。
図3は本発明の一実施形態に係るプラズマディスプレイ装置の維持期間の駆動波形を示す模式図である。
図3に示すように、維持期間T1では、走査電極Y(第1表示電極)と維持電極X(第2表示電極)とに、順次に、電圧Vsの最初の維持放電パルスが印加される。アドレス期間において、走査電極Yと維持電極Xとの間に壁電圧が発生していれば、壁電圧と電圧Vsとによって、走査電極Yと維持電極Xとでアドレス放電が起こる。以後、走査電極Yに電圧Vsの維持放電パルスを印加する工程と、維持電極Xに電圧Vsの維持放電パルスを印加する工程とを、当該サブフィールドが表示する加重値に対応する回数だけ繰り返す。
本発明において、走査電極Yの維持放電パルス幅T3または維持電極Xの維持放電パルス幅T5は1.0〜3.5μsであり、1.0〜3.0μsであることが好ましい。前記維持放電パルス幅が1.0〜3.5μsであると、高精細プラズマディスプレイ装置に適用したとき、放電安定性に乏しく、画面の均一性が悪化する虞がある。
また、前記維持期間における走査電極Yの最初の維持放電パルス幅T2または維持電極Xの最初の維持放電パルス幅T4は2.0〜7.5μsであることが好ましく、2.0〜7.0μsであることがより好ましい。維持期間における最初の維持放電パルス幅が2.0〜7.5μsであると、高精細プラズマディスプレイ装置に適用したとき、放電安定性がより向上して、画面均一度がより改善されうる。
さらに、維持期間T1は9.0〜25μsであることが好ましく、10〜25μsであることがより好ましい。維持期間が9.0〜25μsであると、高精細プラズマディスプレイ装置に適用した場合に、放電安定性が向上して、画面の均一性が改善されうる。
プラズマディスプレイ装置の製造方法は、その構造上、当該分野における当業者に広く知られており、当業者には十分に理解できる内容であるので、本明細書において、製造方法についての詳細な説明は省略する。ただし、本発明の一実施形態に係るプラズマディスプレイ装置におけるMgO保護層の形成工程については以下で説明する。
本発明の一実施形態に係るプラズマディスプレイ装置において、MgO保護層はペーストを用いた厚膜印刷法により形成することができる。ただし、厚膜印刷法はイオンの衝撃によるスパッタリングに比較的弱いため、2次電子放出による放電維持電圧と放電開始電圧との低減化を期待しにくい。したがって、MgO保護層の形成には、物理気相蒸着(PVD)法を使用することが好ましい。
物理気相蒸着法のうちでも、電子ビーム蒸着法、イオンプレーティング法、マグネトロンスパッタリング法などのプラズマ蒸着法を使用することがより好ましい。
MgO保護層を蒸着によって形成する場合において、蒸着材料はペレット形態に成型した後、焼結したものを使用する。ペレットの大きさ及び形態を最適化して、製造することが好ましい。したがって、本発明の一実施形態に係るプラズマディスプレイ装置においては、焼結体MgOの製造時または原料物質の製造時にドーパント元素であるCa、Al、Fe及びSiを所定量添加することが好ましい。
MgOに添加されるドーパント元素の含有量は、上述のように、MgO保護層においてMgOに対してCaの含有量が100〜300質量ppmになるように、好ましくは160〜180ppmになるように調節する。Alの含有量は、MgOに対して100〜250質量ppmになるように、好ましくは150〜220質量ppmになるように調節する。また、Feの含有量は、MgOに対して10〜50質量ppmになるように、好ましくは20〜30質量ppmになるように調節する。Siの含有量は、MgOに対して70〜170質量ppmになるように、好ましくは90〜160質量ppmになるように調節する。
本発明に係るプラズマディスプレイ装置の変形または変更は当業者によって容易に実施できるものであり、このような変形や変更は全て本発明の技術的範囲に含まれる。
以下、本発明の好ましい一実施形態についての実施例及び比較例を記載する。ただし、下記の実施例は本発明の好ましい一実施形態に過ぎず、本発明の技術的範囲が下記の実施例に限定されるものではない。
[プラズマディスプレイ装置の製造]
実施例1〜9及び比較例1〜6では、ドーパント元素としてのCa、Al、Fe及びSiの含有量が異なるMgO保護層を有するプラズマディスプレイ装置を作製し、統計遅延時間の評価を行った。
実施例1〜9及び比較例1〜6では、ドーパント元素としてのCa、Al、Fe及びSiの含有量が異なるMgO保護層を有するプラズマディスプレイ装置を作製し、統計遅延時間の評価を行った。
(実施例1)
ソーダ石灰ガラスで製造された基板上に、表示電極を通常の方法で帯状に形成した。次に、ガラスのペーストを表示電極が形成された基板にコーティングして焼成し、第2誘電体層を形成した。第2誘電体層上に、イオンプレーティング法を用いてMgO粉末及びドーピング材料としてCa、Al、Fe及びSiを含む、MgO保護層を形成して第2基板を製造した。 このとき、MgOに対して、Ca含有量は100質量ppm、Alの含有量は200質量ppm、Feの含有量は25質量ppm、Siの含有量は110質量ppmとした。この第2基板を用いて、プラズマディスプレイ装置を製造した。なお、放電セルに封入した放電ガスの組成は、Ne100体積部に対して、Xeを11体積部含み、Heを35体積部含んだ。
ソーダ石灰ガラスで製造された基板上に、表示電極を通常の方法で帯状に形成した。次に、ガラスのペーストを表示電極が形成された基板にコーティングして焼成し、第2誘電体層を形成した。第2誘電体層上に、イオンプレーティング法を用いてMgO粉末及びドーピング材料としてCa、Al、Fe及びSiを含む、MgO保護層を形成して第2基板を製造した。 このとき、MgOに対して、Ca含有量は100質量ppm、Alの含有量は200質量ppm、Feの含有量は25質量ppm、Siの含有量は110質量ppmとした。この第2基板を用いて、プラズマディスプレイ装置を製造した。なお、放電セルに封入した放電ガスの組成は、Ne100体積部に対して、Xeを11体積部含み、Heを35体積部含んだ。
(実施例2)
MgOに対して、Ca含有量は300質量ppm、Alの含有量は200質量ppm、Feの含有量は25質量ppm、Siの含有量は110質量ppmとしたことを除き、実施例1と同様の方法で、プラズマディスプレイ装置を製造した。
MgOに対して、Ca含有量は300質量ppm、Alの含有量は200質量ppm、Feの含有量は25質量ppm、Siの含有量は110質量ppmとしたことを除き、実施例1と同様の方法で、プラズマディスプレイ装置を製造した。
(実施例3)
MgOに対して、Ca含有量は170質量ppm、Alの含有量は100質量ppm、Feの含有量は25質量ppm、Siの含有量は110質量ppmとしたことを除き、実施例1と同様の方法で、プラズマディスプレイ装置を製造した。
MgOに対して、Ca含有量は170質量ppm、Alの含有量は100質量ppm、Feの含有量は25質量ppm、Siの含有量は110質量ppmとしたことを除き、実施例1と同様の方法で、プラズマディスプレイ装置を製造した。
(実施例4)
MgOに対して、Ca含有量は170質量ppm、Alの含有量は250質量ppm、Feの含有量は25質量ppm、Siの含有量は110質量ppmとしたことを除き、実施例1と同様の方法で、プラズマディスプレイ装置を製造した。
MgOに対して、Ca含有量は170質量ppm、Alの含有量は250質量ppm、Feの含有量は25質量ppm、Siの含有量は110質量ppmとしたことを除き、実施例1と同様の方法で、プラズマディスプレイ装置を製造した。
(実施例5)
MgOに対して、Ca含有量は170質量ppm、Alの含有量は200質量ppm、Feの含有量は10質量ppm、Siの含有量は110質量ppmとしたことを除き、実施例1と同様の方法で、プラズマディスプレイ装置を製造した。
MgOに対して、Ca含有量は170質量ppm、Alの含有量は200質量ppm、Feの含有量は10質量ppm、Siの含有量は110質量ppmとしたことを除き、実施例1と同様の方法で、プラズマディスプレイ装置を製造した。
(実施例6)
MgOに対して、Ca含有量は170質量ppm、Alの含有量は200質量ppm、Feの含有量は50質量ppm、Siの含有量は110質量ppmとしたことを除き、実施例1と同様の方法で、プラズマディスプレイ装置を製造した。
MgOに対して、Ca含有量は170質量ppm、Alの含有量は200質量ppm、Feの含有量は50質量ppm、Siの含有量は110質量ppmとしたことを除き、実施例1と同様の方法で、プラズマディスプレイ装置を製造した。
(実施例7)
MgOに対して、Ca含有量は170質量ppm、Alの含有量は200質量ppm、Feの含有量は25質量ppm、Siの含有量は70質量ppmとしたことを除き、実施例1と同様の方法で、プラズマディスプレイ装置を製造した。
MgOに対して、Ca含有量は170質量ppm、Alの含有量は200質量ppm、Feの含有量は25質量ppm、Siの含有量は70質量ppmとしたことを除き、実施例1と同様の方法で、プラズマディスプレイ装置を製造した。
(実施例8)
MgOに対して、Ca含有量は170質量ppm、Alの含有量は200質量ppm、Feの含有量は25質量ppm、Siの含有量は170質量ppmとしたことを除き、実施例1と同様の方法で、プラズマディスプレイ装置を製造した。
MgOに対して、Ca含有量は170質量ppm、Alの含有量は200質量ppm、Feの含有量は25質量ppm、Siの含有量は170質量ppmとしたことを除き、実施例1と同様の方法で、プラズマディスプレイ装置を製造した。
(実施例9)
MgOに対して、Ca含有量は170質量ppm、Alの含有量は200質量ppm、Feの含有量は25質量ppm、Siの含有量は110質量ppmとしたことを除き、実施例1と同様の方法で、プラズマディスプレイ装置を製造した。
MgOに対して、Ca含有量は170質量ppm、Alの含有量は200質量ppm、Feの含有量は25質量ppm、Siの含有量は110質量ppmとしたことを除き、実施例1と同様の方法で、プラズマディスプレイ装置を製造した。
(比較例1)
MgOに対して、Ca含有量は15質量ppm、Alの含有量は10質量ppm、Feの含有量は10質量ppm、Siの含有量は50質量ppmとしたことを除き、実施例1と同様の方法で、プラズマディスプレイ装置を製造した。
MgOに対して、Ca含有量は15質量ppm、Alの含有量は10質量ppm、Feの含有量は10質量ppm、Siの含有量は50質量ppmとしたことを除き、実施例1と同様の方法で、プラズマディスプレイ装置を製造した。
(比較例2)
MgOに対して、Ca含有量は240質量ppm、Alの含有量は80質量ppm、Feの含有量は65質量ppm、Siの含有量は60質量ppmとしたことを除き、実施例1と同様の方法で、プラズマディスプレイ装置を製造した。
MgOに対して、Ca含有量は240質量ppm、Alの含有量は80質量ppm、Feの含有量は65質量ppm、Siの含有量は60質量ppmとしたことを除き、実施例1と同様の方法で、プラズマディスプレイ装置を製造した。
(比較例3)
MgOに対して、Ca含有量は420質量ppm、Alの含有量は260質量ppm、Feの含有量は77質量ppm、Siの含有量は300質量ppmとしたことを除き、実施例1と同様の方法で、プラズマディスプレイ装置を製造した。
MgOに対して、Ca含有量は420質量ppm、Alの含有量は260質量ppm、Feの含有量は77質量ppm、Siの含有量は300質量ppmとしたことを除き、実施例1と同様の方法で、プラズマディスプレイ装置を製造した。
(比較例4)
MgOに対して、Ca含有量は10質量ppm、Alの含有量は20質量ppm、Feの含有量は15質量ppm、Siの含有量は100質量ppmとしたことを除き、実施例1と同様の方法で、プラズマディスプレイ装置を製造した。
MgOに対して、Ca含有量は10質量ppm、Alの含有量は20質量ppm、Feの含有量は15質量ppm、Siの含有量は100質量ppmとしたことを除き、実施例1と同様の方法で、プラズマディスプレイ装置を製造した。
(比較例5)
MgOに対して、Ca含有量は320質量ppm、Alの含有量は250質量ppm、Feの含有量は30質量ppm、Siの含有量は300質量ppmとしたことを除き、実施例1と同様の方法で、プラズマディスプレイ装置を製造した。
MgOに対して、Ca含有量は320質量ppm、Alの含有量は250質量ppm、Feの含有量は30質量ppm、Siの含有量は300質量ppmとしたことを除き、実施例1と同様の方法で、プラズマディスプレイ装置を製造した。
(比較例6)
MgOに対して、Ca含有量は180質量ppm、Alの含有量は75質量ppm、Feの含有量は60質量ppm、Siの含有量は180質量ppmとしたことを除き、実施例1と同様の方法で、プラズマディスプレイ装置を製造した。
MgOに対して、Ca含有量は180質量ppm、Alの含有量は75質量ppm、Feの含有量は60質量ppm、Siの含有量は180質量ppmとしたことを除き、実施例1と同様の方法で、プラズマディスプレイ装置を製造した。
[製造されたプラズマディスプレイ装置の統計遅延時間の測定]
実施例1〜9及び比較例1〜6で製造したプラズマディスプレイ装置を用いて、温度を変化させた際の統計遅延時間(応答速度)を測定した。MgOは、温度変化に敏感な物質である。そこで、ドーパント元素としてのCa、Al、Fe及びSiの含有量の違いによって、MgO保護層への温度の影響がどれほど低減するかを調べるために、製造したプラズマディスプレイ装置を低温(−10℃)、常温(25℃)及び高温(60℃)で作動させて、それぞれの温度における統計遅延時間を測定した。なお、維持放電パルス幅は2.1μs、最初の維持放電パルス幅は2.1μs、維持時間は15μsとした。
実施例1〜9及び比較例1〜6で製造したプラズマディスプレイ装置を用いて、温度を変化させた際の統計遅延時間(応答速度)を測定した。MgOは、温度変化に敏感な物質である。そこで、ドーパント元素としてのCa、Al、Fe及びSiの含有量の違いによって、MgO保護層への温度の影響がどれほど低減するかを調べるために、製造したプラズマディスプレイ装置を低温(−10℃)、常温(25℃)及び高温(60℃)で作動させて、それぞれの温度における統計遅延時間を測定した。なお、維持放電パルス幅は2.1μs、最初の維持放電パルス幅は2.1μs、維持時間は15μsとした。
結果を図4に示す。なお、実施例1〜8の結果は、実施例9と類似していたために、記載を省略する。図4に示すように、本発明による実施例9の場合、Ca、Al、Fe及びSiを適当量含んでいるため、比較例1〜6より統計遅延時間が短く、温度依存性が低減された。
1 第2基板、
3 第1基板、
5 隔壁、
7R、7G、7B 放電セル、
8R、8G、8B 蛍光体層、
9 第1表示電極、
9a、11a 透明電極、
9b、11b バス電極、
11 第2表示電極、
13、A アドレス電極、
15 第1誘電体層、
17 第2誘電体層、
19 MgO保護層、
100 プラズマディスプレイパネル、
200 制御部、
300 アドレス電極駆動部、
400 維持電極駆動部、
500 走査電極駆動部、
T1 維持期間、
T2 最初の維持放電パルス幅、
T3 維持放電パルス幅、
T4 最初の維持放電パルス幅、
T5 維持放電パルス幅、
VS 電圧、
X 維持電極、
Y 走査電極。
3 第1基板、
5 隔壁、
7R、7G、7B 放電セル、
8R、8G、8B 蛍光体層、
9 第1表示電極、
9a、11a 透明電極、
9b、11b バス電極、
11 第2表示電極、
13、A アドレス電極、
15 第1誘電体層、
17 第2誘電体層、
19 MgO保護層、
100 プラズマディスプレイパネル、
200 制御部、
300 アドレス電極駆動部、
400 維持電極駆動部、
500 走査電極駆動部、
T1 維持期間、
T2 最初の維持放電パルス幅、
T3 維持放電パルス幅、
T4 最初の維持放電パルス幅、
T5 維持放電パルス幅、
VS 電圧、
X 維持電極、
Y 走査電極。
Claims (12)
- 基板上に形成される、一対の第1表示電極及び第2表示電極と、
前記第1表示電極及び前記第2表示電極を覆って、前記基板上に形成される、誘電体層と、
前記誘電体層を覆って、前記基板上に形成される、MgO保護層と、を有するプラズマディスプレイパネル、
前記プラズマディスプレイパネルを駆動する駆動部、ならびに
前記駆動部を制御し、維持期間の維持放電パルス幅を1.0〜3.5μsにする駆動制御信号を出力する制御部を有し、
前記MgO保護層は、MgOに対して、Caを100〜300質量ppm、Alを100〜250質量ppm、Feを10〜50質量ppm、及びSiを70〜170質量ppm含むことを特徴とする、プラズマディスプレイ装置。 - 前記MgO保護層は、MgOに対して、Caを160〜180質量ppm含むことを特徴とする、請求項1に記載のプラズマディスプレイ装置。
- 前記MgO保護層は、MgOに対して、Alを150〜220質量ppm含むことを特徴とする、請求項1または2に記載のプラズマディスプレイ装置。
- 前記MgO保護層は、FeをMgOに対して20〜30質量ppm含むことを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載のプラズマディスプレイ装置。
- 前記MgO保護層は、MgOに対して、Siを90〜160質量ppm含むことを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載のプラズマディスプレイ装置。
- 前記維持放電パルス幅は、1.0〜3.0μsであることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載のプラズマディスプレイ装置。
- 前記維持期間は、9.0〜25μsであることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか1項に記載のプラズマディスプレイ装置。
- 前記維持期間は、10〜25μsであることを特徴とする、請求項7に記載のプラズマディスプレイ装置。
- 前記維持期間における最初の維持放電パルス幅は、2.0〜7.5μsであることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか1項に記載のプラズマディスプレイ装置。
- 前記維持期間における最初の維持放電パルス幅は、2.0〜7.0μsであることを特徴とする、請求項9に記載のプラズマディスプレイ装置。
- 前記放電ガスは、Neと、Ne100体積部に対して5〜30体積部のXeと、を含むことを特徴とする、請求項1〜10のいずれか1項に記載のプラズマディスプレイ装置。
- 前記放電ガスは、Ne100体積部に対して、He、Ar、Kr、O2、及びN2からなる群より選択される少なくとも1種を含むガスを、0を超えて70体積部以下さらに含むことを特徴とする、請求項11に記載のプラズマディスプレイ装置。
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