JP2008232862A - 半導体素子の検査用治具及び検査装置 - Google Patents

半導体素子の検査用治具及び検査装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2008232862A
JP2008232862A JP2007073690A JP2007073690A JP2008232862A JP 2008232862 A JP2008232862 A JP 2008232862A JP 2007073690 A JP2007073690 A JP 2007073690A JP 2007073690 A JP2007073690 A JP 2007073690A JP 2008232862 A JP2008232862 A JP 2008232862A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
flow path
inspection
air flow
hole
air
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2007073690A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4814132B2 (ja
Inventor
Koji Tanikake
耕治 谷掛
Minoru Onoe
実 尾上
Masatoshi Kitora
正利 木寅
Seishi Nakano
清史 仲野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daitron Technology Co Ltd
Original Assignee
Daitron Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Daitron Technology Co Ltd filed Critical Daitron Technology Co Ltd
Priority to JP2007073690A priority Critical patent/JP4814132B2/ja
Publication of JP2008232862A publication Critical patent/JP2008232862A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4814132B2 publication Critical patent/JP4814132B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)

Abstract

【課題】半導体素子の温度のばらつきを抑え検査の信頼性を向上させることができる半導体素子の検査装置を提供する。
【解決手段】半導体素子1を保持する検査用治具100が収容される恒温槽20と、恒温槽20内の温度を制御する温度制御手段60と、半導体素子1を駆動して得られる信号を検出する検出手段70とを備える半導体素子1の検査装置10において、検査用治具100は、貫通孔106を有するベース板102と、ベース板102上に配設され複数の半導体素子1を保持する保持手段104と、保持手段104に保持される半導体素子1から発生する熱を放熱する放熱体110と、を備え、恒温槽20は1の検査用治具100が収容される送風流路34を有し、送風流路34は、検査用治具100によって上流側送風流路36と下流側送風流路38とに区画され、上流側送風流路36に供給した温度制御手段60からの空気が貫通孔106を介して下流側送風流路38より排気されることを特徴とする。
【選択図】図1

Description

本発明は、半導体レーザ等の半導体素子のエージング検査やバーイン検査等に用いられる検査用治具及び検査装置に関する。
従来、半導体レーザ等の半導体素子を所定温度下で駆動させて動作不良となる素子を検出するエージング検査やバーイン検査等の信頼性検査が行われているが、このような検査では、通電時の発熱によって半導体素子の特性が変化し易いため、多数の半導体素子を取り付けた検査用治具を恒温槽内に収納した状態で動作不良となる素子を検出するものが提案されている(例えば、下記特許文献1〜3参照)。
上記のような検査装置では、図6及び図7に示すように、板状のベース板202上に複数の半導体素子204を一列に並べて保持する保持手段206と複数の半導体素子204に接触する金属製のヒートシンク208とが配設された検査用治具200に半導体素子204を取り付け、検査用治具200の側方から所定温度に制御された恒温槽(不図示)内の空気が送風されるようになっており、複数の半導体素子204が所定温度になるように温度制御している。
しかしながら、このような検査装置であると、保持手段206やヒートシンク208が送風の障害となり、保持手段206やヒートシンク208の送風方向の下流側に恒温槽内の空気が回り込み渦を巻いて部分的に滞留しやすく、半導体素子204の温度を所定温度に制御することが困難となる。
特に、図6に示すように、検査用治具200上に半導体素子204を高密度に配置して検査効率を向上させるため所定間隔をあけて互いに平行に複数の保持手段206及ヒートシンク208を設ける場合において、保持手段206及ヒートシンク208の並列方向Fに恒温槽内の空気を送風すると、恒温槽内の空気の滞留が更に発生し易くなるとともに、送風方向の上流側に位置するヒートシンク208と熱交換した恒温槽内の空気が下流側に位置するヒートシンク208と熱交換することになるため、上流側に比べ下流側に位置する半導体素子204の温度が高くなり、検査用治具200内で半導体素子204の温度を均一にすることが更に困難となる。
一方、保持手段206及びヒートシンク208が延びる方向Gに沿って恒温槽内の空気を送風する場合、並列方向Fの場合に比べ保持手段206やヒートシンク208が送風の障害となりにくくなるものの、保持手段206を駆動して半導体素子204の保持及び解除を行う移動機構210等が送風の障害となり空気の滞留を充分に抑えることができず、さらにまた、送風方向に半導体素子204が並んでいるため、ヒートシンク208と熱交換して暖められた空気が、下流側の半導体素子204と接触するヒートシンク208と熱交換することととなり、送風の上流側と下流側で半導体素子の温度を均一にすることが極めて困難である問題がある。
特開2006−214918号公報 特開2006−145396号公報 特開2005−121625号公報
本発明は、上記の問題に鑑みてなされたものであり、半導体素子の温度のばらつきを抑えて検査精度を向上させることができる検査用治具及び検査装置を提供することを目的とする。
本発明に係る検査用治具は、ベース板と、前記ベース板上に配設され複数の半導体素子を保持する保持手段と、前記保持手段に保持される前記半導体素子から発生する熱を放熱する放熱体とを備え、恒温槽内に収容される半導体素子の検査用治具において、前記ベース板は前記恒温槽内の空気が流通する貫通孔を備えることを特徴とする。
本発明の検査用治具によれば、恒温槽内の空気が、ベース板に設けられた貫通孔を流通することでベース板の保持手段や放熱体が配設された面と対向する裏面側に排気されるため、保持手段や放熱体の近傍等に滞留しにくくなり半導体素子の温度ばらつきを抑えることができる。
また、本発明の検査用治具において、前記貫通孔は、前記放熱体に沿って延びる長孔であってもよく、放熱体と熱交換した恒温槽内の空気が放熱体の近傍に滞留しにくくなり半導体素子の温度ばらつきを抑えることができる。
また、本発明の検査用治具において、前記保持手段は所定間隔をあけて互いに平行に複数設けられ、前記放熱体及び前記貫通孔は前記各保持手段に対応して複数設けられてもよく、保持手段を複数設けて半導体素子を高密度に配置した場合であっても、各保持手段に対応する貫通孔を介してベース板の裏面側に排気することができ、恒温槽内の空気が滞留しにくくなり半導体素子の温度ばらつきを抑えることができる。
更にまた、上記発明において、前記放熱体の下方に前記貫通孔が設けられてもよく、係る発明において、前記放熱体に前記貫通孔と連通する連通孔が設けられてもよい。このように、放熱体の下方に前記貫通孔を設けることで放熱体と熱交換した恒温槽内の空気を効率的にベース板の裏面側に排気することができる。
本発明の他の1つは、半導体素子を保持する検査用治具が収容される恒温槽と、前記恒温槽内の雰囲気温度を制御する温度制御手段と、前記半導体素子を駆動して得られる信号を検出する検出手段とを備える半導体素子の検査装置において、前記検査用治具は、貫通孔を有するベース板と、前記ベース板上に配設され複数の半導体素子を保持する保持手段と、前記保持手段に保持される前記半導体素子から発生する熱を放熱する放熱体と、を備え、前記恒温槽は1の前記検査用治具が収容される送風流路を有し、前記送風流路は、前記検査用治具によって上流側送風流路と下流側送風流路とに区画され、前記上流側送風流路に供給した前記温度制御手段からの空気が前記貫通孔を介して前記下流側送風流路より排気されることを特徴とする。
本発明の検査装置によれば、上流側送風流路に供給された温度制御手段からの空気が下流側送風流路より排気されため検査用治具上に滞留しにくくなり半導体素子の温度ばらつきを抑えることができる。
本発明の検査装置において、前記貫通孔が前記放熱体に沿って設けられてもよく、これにより、上流側送風流路に供給された温度制御手段からの空気は、放熱体と熱交換した後、下流側送風流路に排気されるため、放熱体と熱交換した恒温槽内の空気が再び放熱体と熱交換することがなく、半導体レーザ素子1の温度のばらつきを抑えることができる。
また、本発明の検査装置において、前記検査用治具は、前記保持手段が所定間隔をあけて互いに平行に複数設けられ、前記放熱体及び前記貫通孔が前記各保持手段に対応して複数設けられ、前記放熱体の並列方向に前記温度制御手段からの空気を送風してもよく、これにより、保持手段を複数設けて半導体素子を高密度に配置した場合であっても、放熱体と熱交換した空気が下流側送風流路に排気されて再び放熱体と熱交換することがなくなり、半導体レーザ素子1の温度のばらつきを抑えることができる。
また、上記の検査装置において前記上流側送風流路は、前記温度制御手段からの空気を前記上流側送風流路内に供給する供給口から離れるほど狭く設けてもよく、供給口から離れた下流側の圧力損失を補償して各貫通孔を流通する空気量の均一化を図ることができる。
また、上記の検査装置において、前記上流側送風流路を形成し前記検査用治具と対向する壁面に前記貫通孔へ前記温度制御手段からの空気を案内するガイドフィンが設けられていてもよく、これにより、各貫通孔を流通する空気の流量を調整することができる。
更にまた、上記の検査装置において、前記送風流路は前記恒温槽内に複数設けられ、前記温度制御手段からの空気を各上流側送風流路に供給する供給流路を備え、前記供給流路は上流から下流に行くにしたがって狭く設けてもよく、これにより、下流側の圧力損失を補償して各送風流路に供給される空気量の均一化を図ることができる。
本発明によれば、検査用治具に保持された複数の半導体素子の温度を均一にすることができ、信頼性の高い検査を行うことができる。
以下、本発明の第1の実施形態について図面を参照して説明する。
図1は、本実施形態にかかる検査装置10の断面図であり、図2は図1の要部拡大図、図3は本実施形態に係る検査装置10に用いられる検査用治具100の平面図、図4は図3のA−A線断面図、図5は複数個の半導体レーザ素子1が一列に並んだリードフレームLの平面図である。
本実施形態における半導体素子の検査装置10は、被検査対象である複数個の半導体レーザ素子1のエージング検査やバーイン検査等の信頼性検査に用いる装置であって、矩形板状の検査用治具100が収容される恒温槽20と、恒温槽20内部の雰囲気温度を制御する温度制御手段60と、検査用治具100に保持された半導体レーザ素子1を駆動して得られる信号を検出する検出手段70とを備える。
恒温槽20は、外箱22の内部に配された内箱24とを備える前面が開口した筐体26と、この筐体26の前面開口を閉塞する不図示の扉を備え、内箱24の内部に検査用治具100が収容される収容空間28が形成されている。
また、外箱22及び内箱24との間には温度制御手段60によって所定温度に調温された空気を収容空間28に供給する供給流路30と、収容空間28内の空気を排気して温度制御手段60に供給する排気経路32と、が形成されており、恒温槽20は、温度制御手段60より調温された空気を供給流路30及び排気流路32を介して循環させて収容空間28内を所定温度に制御するようになっている。
温度制御手段60は、供給流路30と排気流路32とを接続する流路61内に配設されており、空気を冷却及び加熱する不図示の圧縮機、凝縮器などの冷凍サイクルに接続された蒸発器62と、ヒータなどの加熱ユニット64と、シロッコファン66と、を備え、収容空間28から排気経路32に排気され空気は、蒸発器62又は加熱ユニット64と熱交換して所定温度に調温された後、シロッコファン66によって供給流路30に送風されるようになっている。
収容空間28は、複数の空間に区画され各空間が1の検査用治具100を収容する送風流路34をなしている。
より詳細には、各送風流路34は、収容する検査用治具100によって内部が上流側送風流路36と下流側送風流路38とに区画されており、上流側送風流路36は内箱24の一方側面(本実施形態では左側面)に検査用治具100の一辺に沿って延びる長孔状に設けられた供給口40を介して供給流路30と連通し、下流側送風流路38は内箱24に設けられた排気口42を介して排気流路32と連通している。
上流側送風流路36を形成する壁面のうち検査用治具100と対向する壁面36aは、供給口40から離れるほど検査用治具100との距離が短くなるように傾斜しており、これにより、上流から下流に行くにしたがって上流側送風流路36が狭くなるように設けられている。また、壁面36aには後述する検査用治具100に設けられた複数の貫通孔106に対応して複数のガイドフィン46が配設されており、各ガイドフィン46の配設位置、角度及び大きさを調整することで、各貫通孔106を流通する空気の流量を調整して供給口40から供給された空気の一部を貫通孔106に案内するようになっている。
また、上流側送風流路36内には、図3に示すように検査用治具100が保持する半導体レーザ素子1の上方にPINフォトダイオードなどの受光素子からなる検出手段70が配設されており、駆動電流の入力を受けた半導体レーザ素子1から放射される光出力を検出する。
また、供給流路30は、供給口40と対向する壁面30aが上流から下流に行くにしたがって供給口40との距離が短くなるように傾斜しており、これにより、上流から下流に行くにしたがって供給流路30が狭くなるように設けられている。
壁面30aには各供給口40に対応して複数のガイドフィン44が配設されており、温度制御手段60からの空気の一部を各供給口40に案内するようになっている。このガイドフィン44の配設位置、角度及び大きさを調整することで、各供給口40に供給される空気の流量を調整することができる。
送風流路34内に収容される検査用治具100は、図2〜図4に示すように、ベース板102と、ベース板102上に所定間隔をあけて互いに平行に複数設けられ保持手段104とを備え、保持手段104に対応して複数の貫通孔106がベース板102に設けられている。
詳細には、保持手段104は、図5に示すような一列に並んだ複数個の半導体レーザ素子1の本体3から延びるリード5の先端をフレーム7によって結合したリードフレームLを保持するものであって、ベース板102に固定された固定部材108と、固定部材108に平行に対向配置された放熱体110と、放熱体110を固定部材108に対して離接させるシリンダ等の移動機構112とを備え、固定部材108と放熱体110によってリードフレームLを挟持するようになっている。
固定部材108の上部には、各半導体レーザ素子1の本体3を放熱体110に押圧するクランプ機構114が半導体レーザ素子1ごとに配設されており、各半導体レーザ素子1を放熱体110に圧接させ半導体レーザ素子1から発生する熱を効率的に放熱体110と熱交換するようになっている。
一方、固定部材108の下部には、放熱体110側に延出する段部116が形成され、段部116の上面116aから半導体レーザ素子1のリード5と接触するプローブ118が突出している。プローブ118はベース板102の一周端部に設けられたコネクタ120を介して不図示の駆動回路と接続されており、駆動回路からの駆動電流が半導体レーザ素子1に供給されるようになっている。
放熱体110は、本体3と面接触して半導体レーザ素子1と熱交換する基部122と、基部122の熱を放熱する放熱フィン124と、を備え、基部122には上下に貫通する連通孔126が設けられ、放熱体110の下方において放熱体110に沿う長孔状に形成された貫通孔106と連通している。
上記の検査用治具100は、内箱24の左右両側面に設けられた係合溝29にベース板102の左右両側縁部102a,102bを挿入することで、検査用治具100は供給口40と放熱フィン124が対向するように送風流路34内に収容され、放熱体110が並列する方向Fに温度制御手段60からの空気が送風されるようになっている。
このように検査用治具100を収容空間28に収容することで、図1及び図2に示すように、供給口40から上流側送風流路36に供給された空気は、放熱フィン124の隙間や基部122に設けた連通孔126を通って放熱体110と熱交換した後、各貫通孔106を流通して下流側送風流路38に流れ排気口42より排気され、温度制御手段60に戻り所定温度に調温されるようになっている。
これにより、隣接する保持手段104の間に回り込んだ恒温槽20内の空気が滞留することなく貫通孔106を通って下流側送風流路38へ流れるため、各保持手段104毎に半導体レーザ素子1の温度の均一化を図ることができる。
更に、放熱体110と熱交換した空気は、他の放熱体110と熱交換することなく温度制御手段60に戻るため、全ての放熱体110の温度の均一化を図りやすくなり、検査用治具100に保持された半導体レーザ素子1の温度のばらつきを抑えることができる。
また、上流側送風流路36は上流から下流に行くにしたがって狭くなるように設けられているため、下流側の圧力損失を補償して各貫通孔106を流通する空気量の均一化を図ることができ、半導体レーザ素子1の温度のばらつきを抑えることができる。しかも、検査用治具100と対向する壁面36aには貫通孔106に対応してガイドフィン46が配設されており、各ガイドフィン46の配設位置、角度及び大きさを調整することで、各貫通孔106を流通する空気量の均一化を図って半導体レーザ素子1の温度のばらつきを抑えることができる。
また、各送風流路34に温度制御手段60からの空気を供給する供給流路30は、上流から下流に行くにしたがって狭くなるように設けられているため、下流側の圧力損失を補償して各送風流路34に供給される空気量の均一化を図ることができ、半導体レーザ素子1の温度のばらつきを抑えることができる。しかも、供給口40と対向する壁面30aには各供給口40に対応して複数のガイドフィン44が配設されており、各ガイドフィン44の配設位置、角度及び大きさを調整することで、各送風流路34に供給される空気量の均一化を図って半導体レーザ素子1の温度のばらつきを抑えることができる。
なお、本実施形態では、検査用治具100の保持手段104及び放熱体110が上流側送風流路36に配置されているが、本発明はこれに限定されず、下流側送風流路38に配置されてもよい。
また、本実施形態では複数個の半導体レーザ素子1のリード5が連結されたリードフレームLの状態で半導体レーザ素子の検査を行ったが、本発明はこれに限定されず、例えば、キャンタイプの半導体レーザ素子など各種形状の半導体素子の検査に適用することができる。
本発明の一実施形態にかかる検査装置の断面図である。 図1の要部拡大断面図である。 本発明の一実施形態にかかる検査装置に用いられる検査用治具の平面図である。 図3のA−A断面図である。 複数個の半導体素子が一列に並んだリードフレームの平面図である。 従来の検査装置に用いられる検査用治具を示す平面図である。 図6のB−B断面図である。
符号の説明
1…半導体レーザ素子
10…検査装置
20…恒温槽
28…収容空間
30…供給流路
34…送風流路
36…上流側送風流路
38…下流側送風流路
40…供給口
42…排気口
60…温度制御手段
70…検出手段
100…検査用治具
102…ベース板
104…保持手段
106…貫通孔
110…放熱体

Claims (11)

  1. ベース板と、前記ベース板上に配設され複数の半導体素子を保持する保持手段と、前記保持手段に保持される前記半導体素子から発生する熱を放熱する放熱体とを備え、恒温槽内に収容される半導体素子の検査用治具において、前記ベース板は前記恒温槽内の空気が流通する貫通孔を備えることを特徴とする検査用治具。
  2. 前記貫通孔は、前記放熱体に沿って延びる長孔であることを特徴とする請求項1に記載の検査用治具。
  3. 前記保持手段は所定間隔をあけて互いに平行に複数設けられ、前記放熱体及び前記貫通孔は前記各保持手段に対応して複数設けられていることを特徴とする請求項1又は2に記載の検査用治具。
  4. 前記放熱体の下方に前記貫通孔が設けられていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の検査用治具。
  5. 前記放熱体には前記貫通孔と連通する連通孔が設けられていることを特徴とする請求項4に記載の検査用治具。
  6. 半導体素子を保持する検査用治具が収容される恒温槽と、前記恒温槽内の雰囲気温度を制御する温度制御手段と、前記半導体素子を駆動して得られる信号を検出する検出手段とを備える半導体素子の検査装置において、
    前記検査用治具は、貫通孔を有するベース板と、前記ベース板上に配設され複数の半導体素子を保持する保持手段と、前記保持手段に保持される前記半導体素子から発生する熱を放熱する放熱体と、を備え、
    前記恒温槽は1の前記検査用治具が収容される送風流路を有し、
    前記送風流路は、前記検査用治具によって上流側送風流路と下流側送風流路とに区画され、前記上流側送風流路に供給した前記温度制御手段からの空気が前記貫通孔を介して前記下流側送風流路より排気されることを特徴とする検査装置。
  7. 前記貫通孔が前記放熱体に沿って設けられていることを特徴とする請求項6に記載の検査装置。
  8. 前記検査用治具は、前記保持手段が所定間隔をあけて互いに平行に複数設けられ、前記放熱体及び前記貫通孔が前記各保持手段に対応して複数設けられ、
    前記放熱体の並列方向に前記温度制御手段からの空気を送風することを特徴とする請求項6及び7に記載の検査装置。
  9. 前記上流側送風流路は、前記温度制御手段からの空気を前記上流側送風流路内に供給する供給口から離れるほど狭くなることを特徴とする請求項8のいずれか1項に記載の検査装置。
  10. 前記上流側送風流路を形成し前記検査用治具と対向する壁面に前記貫通孔へ前記温度制御手段からの空気を案内するガイドフィンが設けられていることを特徴とする請求項8又は9に記載の検査装置。
  11. 前記送風流路は前記恒温槽内に複数設けられ、前記温度制御手段からの空気を各上流側送風流路に供給する供給流路を備え、
    前記供給流路は上流から下流に行くにしたがって狭くなることを特徴とする請求項6〜10のいずれか1項に記載の検査装置。
JP2007073690A 2007-03-20 2007-03-20 半導体素子の検査装置 Expired - Fee Related JP4814132B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007073690A JP4814132B2 (ja) 2007-03-20 2007-03-20 半導体素子の検査装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007073690A JP4814132B2 (ja) 2007-03-20 2007-03-20 半導体素子の検査装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008232862A true JP2008232862A (ja) 2008-10-02
JP4814132B2 JP4814132B2 (ja) 2011-11-16

Family

ID=39905829

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007073690A Expired - Fee Related JP4814132B2 (ja) 2007-03-20 2007-03-20 半導体素子の検査装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4814132B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014187229A (ja) * 2013-03-25 2014-10-02 Nec Corp ラック
TWI764808B (zh) * 2021-08-13 2022-05-11 美商第一檢測有限公司 溫度調節裝置

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63100895U (ja) * 1986-12-19 1988-06-30
JPH02127093U (ja) * 1989-03-30 1990-10-19
JPH04233300A (ja) * 1990-06-25 1992-08-21 American Teleph & Telegr Co <Att> 流体冷却式回路パッケージ組立構造
JPH1019663A (ja) * 1996-07-03 1998-01-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体レーザー素子の試験装置
JP2000223873A (ja) * 1999-02-03 2000-08-11 Mitsubishi Electric Corp ファンレス盤
JP2004055883A (ja) * 2002-07-22 2004-02-19 Nihon Form Service Co Ltd 空調ダクト付ラック及びラック冷却システム
JP2005148070A (ja) * 2003-11-14 2005-06-09 Micro Control Co バーンインシステム用の冷却空気流量制御
JP2006153584A (ja) * 2004-11-26 2006-06-15 Chichibu Fuji Co Ltd 半導体パッケージ用エージングボード

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63100895U (ja) * 1986-12-19 1988-06-30
JPH02127093U (ja) * 1989-03-30 1990-10-19
JPH04233300A (ja) * 1990-06-25 1992-08-21 American Teleph & Telegr Co <Att> 流体冷却式回路パッケージ組立構造
JPH1019663A (ja) * 1996-07-03 1998-01-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体レーザー素子の試験装置
JP2000223873A (ja) * 1999-02-03 2000-08-11 Mitsubishi Electric Corp ファンレス盤
JP2004055883A (ja) * 2002-07-22 2004-02-19 Nihon Form Service Co Ltd 空調ダクト付ラック及びラック冷却システム
JP2005148070A (ja) * 2003-11-14 2005-06-09 Micro Control Co バーンインシステム用の冷却空気流量制御
JP2006153584A (ja) * 2004-11-26 2006-06-15 Chichibu Fuji Co Ltd 半導体パッケージ用エージングボード

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014187229A (ja) * 2013-03-25 2014-10-02 Nec Corp ラック
TWI764808B (zh) * 2021-08-13 2022-05-11 美商第一檢測有限公司 溫度調節裝置

Also Published As

Publication number Publication date
JP4814132B2 (ja) 2011-11-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11740139B2 (en) Flow guiding and heat dissipating type dry block temperature calibrator
CN105932538A (zh) 具备具有散热翅片的l字状热传导部件的空冷式激光装置
JP4871852B2 (ja) バーンイン装置
WO2014112107A1 (ja) スクリーン印刷機
KR101023734B1 (ko) 메모리 모듈 온도 테스트 장치
TW201910784A (zh) 電子元件壓接機構之壓接器及其應用之測試分類設備
JP4814132B2 (ja) 半導体素子の検査装置
KR20110089916A (ko) 메모리 모듈 온도 검사장치
JP2009300122A (ja) エージング装置
JP2006308368A (ja) 電子機器用テスト・チャンバ及び方法
JP3611174B2 (ja) 半導体ウェーハの温度試験装置
JP4578190B2 (ja) バーンイン装置
US11808938B2 (en) Apparatus for measuring optical characteristics of a test optical element under low-temperature environment
KR102558776B1 (ko) 메모리 모듈의 온도 평가 장치
JP2017026332A (ja) バーンイン装置
JP2016062677A (ja) 光照射装置
JP2021043182A (ja) バーンイン装置
KR102504946B1 (ko) 메모리 모듈의 온도 평가 장치
JP5105445B2 (ja) 放熱器の使用方法
JP2002267714A (ja) 半導体素子のエージング試験用治具
WO2013145812A1 (ja) Led照明装置
JP2017129507A (ja) 温調器及び温度試験装置
JP2007085712A (ja) 空調装置
TW202036012A (zh) 電子元件測試裝置
CN216285019U (zh) 非接触式薄型均温板热性能量测装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20091029

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110428

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110510

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110707

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110726

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110825

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140902

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees