JP2008231231A - 光半導体用反射材 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】下記の成分(a)及び(b)を含むバインダー成分100質量部と、波長350nmでの紫外線透過率が50%以上である材質からなる中空粒子25〜150質量部を含む、熱又は光重合性組成物を重合して得られる光半導体用反射材。
(a)炭素数7以上の脂環式炭化水素基を含有する(メタ)アクリル酸エステル:15〜70質量%。
(b)炭素数10以上の非環式有機鎖を含有する(メタ)アクリル酸エステル、及び/又は粘度が50mm2/s以上であるシリコーン(メタ)アクリル酸エステル:30〜85質量%(但し、成分(b)は多官能(メタ)アクリル酸エステルを、バインダー成分の全量に対し8質量%以上含有する)。
【選択図】なし
Description
一方、LED発光装置は封止工程及びはんだ付け工程等、製造時に高温に曝される。また、使用時の点灯消灯の繰り返しにより、環境温度が上下する。そのため、機械的特性が十分でない反射材料では、上記の熱履歴によって、ひび割れが生じることがある。また、密着性が十分でない反射材料では、熱履歴により周辺部材(リードフレームや封止材)との界面で剥離が起こることがある。その結果、発光装置の輝度が低下したり、水分が浸入して発光素子が故障することがある。従って、熱履歴に対して輝度変化が少なく、不良発生率が低いLED発光装置が求められている。
また、酸化チタンの代わりにチタン酸カリウム繊維を用いた材料が開示されている(例えば、特許文献2参照)。この材料では、紫外線に対する反射特性がある程度改良されるが、それでも不充分であった。
1.下記の成分(a)及び(b)を含むバインダー成分100質量部と、波長350nmでの紫外線透過率が50%以上である材質からなる中空粒子25〜150質量部を含む、熱又は光重合性組成物を重合して得られる光半導体用反射材。
(a)炭素数7以上の脂環式炭化水素基を含有する(メタ)アクリル酸エステル:15〜70質量%。
(b)炭素数10以上の非環式有機鎖を含有する(メタ)アクリル酸エステル、及び/又は粘度が50mm2/s以上であるシリコーン(メタ)アクリル酸エステル:30〜85質量%(但し、成分(b)は多官能(メタ)アクリル酸エステルを、バインダー成分の全量に対し8質量%以上含有する)。
2.前記成分(a)における炭素数7以上の脂環式炭化水素基が、アダマンチル基、ノルボニル基又はジシクロペンタニル基を含む基である1に記載の光半導体用反射材。
3.前記中空粒子が、架橋樹脂又は無機化合物からなる1又は2に記載の光半導体用反射材。
4.前記中空粒子が、架橋スチレン樹脂、架橋アクリル樹脂、無機ガラス又はシリカからなる1〜3のいずれかに記載の光半導体用反射材。
5.さらに、波長550nmでの可視光線反射率が80%以上の基体を含み、この基体上に1〜4のいずれかに記載の光半導体用反射材を積層している光半導体用反射材。
6.上記1〜5のいずれかに記載の光半導体用反射材を含む光電変換素子。
7.上記6に記載の光電変換素子を含む光電変換装置。
(a)炭素数7以上の脂環式炭化水素基を含有する(メタ)アクリル酸エステル:15〜70質量%
(b)炭素数10以上の非環式有機鎖を含有する(メタ)アクリル酸エステル、及び/又は粘度50mm2/s以上のシリコーン含有(メタ)アクリル酸エステル:30〜85質量%
成分(b)は、バインダー成分の全量に対し、8質量%以上の多官能(メタ)アクリル酸エステルを含んでいる。
尚、(メタ)アクリル酸エステルは、メタクリル酸エステル又はアクリル酸エステルを意味し、両者を纏めて記載したものである。
尚、粘度は回転粘度計(Anton Paar社製、DV2P)を用いて、室温(20℃)で測定した値である。
上述した成分(b)の要件を満たす多官能(メタ)アクリル酸エステルとしては、例えば、水添ポリブタジエンジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、シリコーンジメタクリレートがある。
中空粒子の外殻を通過した紫外線は、中空部で反射されるため、紫外線透過率の高い材質が必要となる。中空部での反射率を高めるためには、中空粒子を構成する部分と中空粒子内部に存在する気体との屈折率の差が大きいほうがよい。中空粒子内部に存在する気体は、通常、空気であるが、窒素やアルゴン等の不活性ガスでもよく、また、真空であってもよい。
有機化合物では、ポリスチレン系樹脂、ポリ(メタ)アクリレート系樹脂、及び、これらの架橋体等を好適に用いることができ、これらを1種又は2種以上含んでいても良い。中でも、無機ガラス、シリカ、架橋(メタ)アクリル系樹脂、架橋スチレン系樹脂が好ましい。
酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、ラクトン系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤等がある。これら添加剤の使用量は、重合性成分全量100質量部に対して、通常、0.005〜5質量部、好ましくは0.02〜2質量部である。これらの添加剤を2種以上組み合わせても良い。
また、上記(2)の方法のように、重合物を一度溶融させた後、賦形すれば、凹状に成形することは可能である。しかしながら、重合物を溶融させるには、かなりの高温に数分間さらす必要がある。この間に重合物が劣化し、着色するため、反射率低下を免れない。
本発明のように、重合性組成物を樹脂組成物基体10の凹部に塗布し、重合すると同時に反射材の形に成形することで、はじめて理想的な反射層を形成することが可能になる。
このような基体の材料として、充実粒子系白色顔料を含む樹脂組成物が挙げられる。酸化チタン等の充実粒子系白色顔料を含む樹脂組成物からなる基体は、紫外線反射能は低いが可視光の反射率は非常に高い。
この樹脂組成物からなる基体上に本発明の反射材を積層すると、積層体の上部から可視光を照射した場合、反射材層で反射せずに透過した光は基体で反射される。従って、上記のように積層することにより、紫外線だけでなく、可視光でも高い反射率を得ることが可能になる。
充実粒子系白色顔料を含む樹脂組成物は、その他、ガラス繊維等を含むことができる。
(A)バインダー成分
・成分(a)
(1)1−アダマンチルメタクリレート:出光興産(株)製 アダマンテートAM
(2)ジシクロペンタニルメタクリレート:日立化成工業(株)製 ファンクリルFM−513
(3)ノルボニルメタクリレート:和光純薬工業(株)製
[単官能メタクリレート]
(1)ステアリルメタクリレート:三菱レーヨン(株)製、アクリエステルS、非環式有機鎖の炭素数=18
(2)シリコーンモノメタクリレート250:信越化学工業(株)製、LSF250、粘度=180mm2/s、シリコーンユニット数=151
[多官能(メタ)アクリレート]
(3)水添ポリブタジエンジアクリレート:大阪有機化学工業(株)、SPBDA−S30、非環式有機鎖の炭素数=約200
(4)ポリエチレングリコール#400ジメタクリレート:新中村化学工業(株)製、NKエステル 9G、非脂環式有機鎖の炭素数=18
(5)シリコーンジメタクリレート210:信越化学工業(株)製、LSF210、粘度=94mm2/s、シリコーンユニット数=60
(1)フェノキシエチレングリコールアクリレート:新中村化学工業(株)製、NKエステル AMP−10G
(2)メトキシジエチレングリコールメタクリレート:新中村化学工業(株)製、NKエステル M−20G、非脂環式有機鎖の炭素数=5
(3)シリコーンモノメタクリレート230:信越化学工業(株)製、LSF230、粘度=25mm2/s、シリコーンユニット数=26
(4)シリコーンジメタクリレート200:信越化学工業(株)製、LSF200、粘度=27mm2/s、シリコーンユニット数=22
架橋アクリル系中空粒子:XX06BZ(積水化成品工業(株)、平均粒径5μm、平均孔径1−2μm、架橋アクリルの紫外線透過率84%(波長350nm、厚み250μm))
パーヘキサHC:日本油脂(株)製
表1に示す割合でバインダー材料及び中空粒子を配合し、さらに、パーヘキサHCを重合成分100質量部に対し0.1質量部加え、よく撹拌し、熱重合性組成物を得た。
この組成物を300μm厚みのアルミ板(波長550nmの光に対する反射率=13.6%、波長380nmの光に対する反射率=18.5%)の上に塗布後、110℃で3時間、160℃で1時間加熱し、厚み約500μmの硬化物(反射材)を得た。
(1)反射率
(株)島津製作所製・自記分光光度計UV−2400PCに(株)島津製作所製・マルチパーパス大形試料室ユニットMPC−2200形を取り付け、波長380nmにおける反射率(%)を測定した。尚、レファレンスとして硫酸バリウムを用いた。
(2)耐紫外線劣化性
耐候性試験機(ジャスコインターナショナル製、solarbox1500e)を用い、500W/m2の出力で100時間試料に紫外光を照射し、外観を目視観察した。
ポリフタルアミド/酸化チタン系樹脂組成物(アモデルA4122NLWH905)を射出成形し(バレル温度330℃、金型温度120℃)、図1aに示すリードフレーム12と一体成形して樹脂組成物基体10を製造した。尚、基体の外径及び高さは、ともに約5mmである。
基体10の凹部内壁に、各例で調製した熱重合性組成物を塗布、硬化させ(110℃で3時間、160℃で1時間)、反射層24を形成した(図1b)。さらに、この反射層24の上にシリコーン樹脂(信越化学工業(株)製、KER2500aとKER2500bの1:1混合物)を塗布、硬化させ(100℃で1時間、150℃で5時間)、封止層30を形成した(図1c)。こうして得た成形体に、以下の2条件で熱処理を施した。
はんだリフロー炉(TAMURAコーポレーション製、TAS20−15N)を使用して下記の熱処理を施した。
150℃で60秒→(昇温速度200℃/分)→260℃で5秒→(降温速度200℃/分)→150℃→(空冷)
温度サイクル試験装置(ETAC WINTECH社製、THERMAL SHOCK CHAMBER NT510)を使用して下記サイクルで実施した。
−40℃で30分→(昇温速度10℃/分)→120℃で30分→(降温速度10℃/分)→−40℃、を100サイクル実施した。
上記(1)〜(3)の評価結果を表1及び2に示す。
実施例2で調製した熱重合性組成物を300μm厚みのアルミ板上に塗布、硬化させ(110℃で3時間、160℃で1時間)、厚み約300μmの硬化物とし、アルミ板と硬化物(反射材)からなる積層体を得た。
この積層体の反射率を測定したところ、波長380nmで81.8%であった。また、上記(3)の評価で不良は発生しなかった。
実施例2で調製した熱重合性組成物を300μm厚みのアルミ板上に塗布、硬化させ(110℃で3時間、160℃で1時間)、厚み約150μmの硬化物とし、アルミ板と硬化物(反射材)からなる積層体を得た。
この積層体の反射率を測定したところ、波長380nmで77.2%であった。また、また、上記(3)の評価で不良は発生しなかった。
ポリフタルアミド板[(株)ユーコウ商会製、高可視光反射性基体:原料、アモデルA4122NLWH905、2mm×25mm×100mm:波長550nmの光に対する反射率=90.4%、波長380nmの光に対する反射率=12.5%]上に、実施例2で調製した熱重合性組成物を塗布、硬化させ(110℃で3時間、160℃で1時間)、500nmの反射層を形成し、積層体とした。
この積層体の反射率は550nmでは93.6%、380nmでは80.1%であった。
一方、同じ熱重合性組成物をアルミ板上に塗布・硬化させた場合の反射率は、550nmでは86.4%、380nmでは84.5%であった。
12 リードフレーム
20 発光素子
22 ワイヤーボンディング
24 反射層(反射材)
30 封止材
Claims (7)
- 下記の成分(a)及び(b)を含むバインダー成分100質量部と、
波長350nmでの紫外線透過率が50%以上である材質からなる中空粒子25〜150質量部を含む、熱又は光重合性組成物を重合して得られる光半導体用反射材。
(a)炭素数7以上の脂環式炭化水素基を含有する(メタ)アクリル酸エステル:15〜70質量%。
(b)炭素数10以上の非環式有機鎖を含有する(メタ)アクリル酸エステル、及び/又は粘度が50mm2/s以上であるシリコーン(メタ)アクリル酸エステル:30〜85質量%(但し、成分(b)は多官能(メタ)アクリル酸エステルを、バインダー成分の全量に対し8質量%以上含有する)。 - 前記成分(a)における炭素数7以上の脂環式炭化水素基が、アダマンチル基、ノルボニル基又はジシクロペンタニル基を含む基である請求項1に記載の光半導体用反射材。
- 前記中空粒子が、架橋樹脂又は無機化合物からなる請求項1又は2に記載の光半導体用反射材。
- 前記中空粒子が、架橋スチレン樹脂、架橋アクリル樹脂、無機ガラス又はシリカからなる請求項1〜3のいずれか一項に記載の光半導体用反射材。
- さらに、波長550nmでの可視光線反射率が80%以上の基体を含み、この基体上に請求項1〜4のいずれか一項に記載の光半導体用反射材を積層している光半導体用反射材。
- 請求項1〜5のいずれか一項に記載の光半導体用反射材を含む光電変換素子。
- 請求項6に記載の光電変換素子を含む光電変換装置。
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