JP2008217013A - 光ビーム経路におけるビーム調整のための装置および方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】少なくとも2つの相互に独立した光源(1、2)を有する光ビーム経路における、特に、好ましくは高解像度または超高解像度顕微鏡のビーム経路(8、9)におけるビーム調整のための装置であって、光源(1、2)のビームが、共通照明ビーム経路(10)において重畳される必要がある装置であって、ビームの瞳位置および/または焦点位置をチェックできるように支援する較正サンプル(22)を、照明ビーム経路(10)に組み入れ、かつそこから取り出すことができることを特徴とする装置。
【選択図】図1
Description
各試験偏差に対して、「応答ベクトル」
T=A−1・A・T=A−1・X
2 光源
3 照明光絞り
4 照明光絞り
5 レンズ系
6 レンズ系
7 ビーム結合器
8 ビーム、ビーム経路
9 ビーム、ビーム経路
10 照明ビーム経路
11 ビームスプリッタ/ビーム結合器
12 照明光
13 走査装置
14 走査ミラー
15 レンズ装置
16 対物レンズ
17 サンプル
18 検出光
19 レンズ系
20 検出光絞り
21 検出器
22 較正サンプル
23 表面構造
24 通路、回転軸
25 (較正サンプルにおける)停止装置
26 作動要素
Claims (21)
- 少なくとも2つの相互に独立した光源(1、2)を有する光ビーム経路における、特に、好ましくは高解像度または超高解像度顕微鏡のビーム経路(8、9)におけるビーム調整のための装置であって、前記光源(1、2)のビームが、共通照明ビーム経路(10)において重畳される必要がある装置であって、
前記ビーム(8、9)の瞳位置および/または焦点位置をチェックできるように支援する較正サンプル(22)を、前記照明ビーム経路(10)に組み入れ、かつそこから取り出すことができることを特徴とする装置。 - 前記較正サンプル(22)を照明ビーム経路(10)にピボットできることを特徴とする、請求項1に記載の装置。
- 前記較正サンプル(22)を、中間像の場所またはその近傍で、前記照明ビーム経路(10)に組み入れることができることを特徴とする、請求項1または2に記載の装置。
- 前記較正サンプル(22)が、表面構造(23)を有することを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の装置。
- 前記表面構造(23)が、規定された、好ましくは規則的または対称的な方法で設計されることを特徴とする、請求項4に記載の装置。
- 前記表面構造(23)が、任意の、不規則的または非対称的な方法で設計されることを特徴とする、請求項4に記載の装置。
- 前記較正サンプル(22)の表面が微細構造化されることを特徴とする、請求項4〜6のいずれか一項に記載の装置。
- 前記較正サンプル(22)の前記表面が、サンドブラストまたはガラスパールブラストされることを特徴とする、請求項4に記載の装置。
- 波長選択性の検出器(21)が、重畳される前記ビーム(8、9)の検出光(18)を検出するように設けられることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか一項に記載の装置。
- 重畳される前記ビーム(8、9)の前記検出光(18)を検出するために、前記光源(1、2)のスイッチを入れ、そして個々にまたは順次スイッチを切ることができることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか一項に記載の装置。
- 調整のために、少なくとも1つの作動要素(26)が、結合される前記ビーム(8、9)の少なくとも1つの瞳位置および/または焦点位置に作用するために、設けられることを特徴とする、請求項1〜10のいずれか一項に記載の装置。
- 前記作動要素(26)が、結合される前記ビームの前記ビーム経路(8、9)にそれぞれ配置されることを特徴とする、請求項11に記載の装置。
- 前記作動要素(26)が、前記ビーム経路(8、9)の瞳に配置されるかまたは瞳の近傍に配置されることを特徴とする、請求項11に記載の装置。
- 前記作動要素(26)が、中間像の近傍に配置されることを特徴とする、請求項11に記載の装置。
- 前記作動要素(26)が、前記ビーム経路(8、9)の瞳もしくはその近傍に配置されるか、または中間像の近傍に配置されることを特徴とする、請求項11に記載の装置。
- 2つの軸の周りを好ましくは傾斜できるミラーが、作動要素(26)として設けられることを特徴とする、請求項11〜15のいずれか一項に記載の装置。
- 前記ミラーを、電動式に移動させることができることを特徴とする、請求項16に記載の装置。
- 2D相互相関の最大位置を用いて、前記ビーム(8、9)に割り当てられる画像オフセットを決定できることを特徴とする、請求項1〜17のいずれか一項に記載の装置。
- 前記ビーム(8、9)の検出された強度が、前記オフセットのための測定変数として働くことを特徴とする、請求項1〜18のいずれか一項に記載の装置。
- 部分的反射ミラーおよび/または位置敏感型センサが、それぞれのビーム位置を決定するために設けられることを特徴とする、請求項1〜19のいずれか一項に記載の装置。
- 少なくとも2つの相互に独立した光源(1、2)を有する光ビーム経路における、特に、好ましくは高解像度または超高解像度顕微鏡のビーム経路におけるビーム調整のための方法であって、前記光源(1、2)のビームが、特に、請求項1〜20のいずれか一項に記載の装置を適用するために、共通照明ビーム経路(10)において重畳される方法であって、
前記ビームの瞳位置および/または焦点位置がチェックされるのを支援する較正サンプル(22)を、前記照明ビーム経路(10)に組み入れ、かつそこから取り出すことを特徴とする方法。
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EP3290983A1 (de) | 2016-09-05 | 2018-03-07 | Abberior Instruments GmbH | Verfahren zum justieren eines laserscanning-fluoreszenzmikroskops und laserscanning-fluoreszenzmikroskop mit einer automatischen justiervorrichtung |
DE102019110157B4 (de) * | 2019-04-17 | 2021-06-17 | Leica Microsystems Cms Gmbh | Fluoreszenz-Rastermikroskop und Verfahren zur Abbildung einer Probe |
DE102020006975A1 (de) | 2020-11-11 | 2022-05-12 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Laser-Scanning-Mikroskop und Verfahren zum Justieren eines Laser-Scanning-Mikroskops |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10232352A (ja) * | 1997-02-18 | 1998-09-02 | Nikon Corp | レーザ走査顕微鏡 |
JPH1195120A (ja) * | 1997-09-19 | 1999-04-09 | Olympus Optical Co Ltd | 顕微鏡の観察方法 |
JP2001522479A (ja) * | 1998-02-20 | 2001-11-13 | ライカ ミクロジュステムス ハイデルベルク ゲーエムベーハー | レーザ走査顕微鏡の校正装置 |
JP2002286641A (ja) * | 2001-03-23 | 2002-10-03 | Olympus Optical Co Ltd | 顕微鏡 |
JP2003241102A (ja) * | 2001-12-07 | 2003-08-27 | Carl Zeiss Jena Gmbh | レーザ走査顕微鏡 |
JP2004317741A (ja) * | 2003-04-15 | 2004-11-11 | Olympus Corp | 顕微鏡およびその光学調整方法 |
JP2005157146A (ja) * | 2003-11-27 | 2005-06-16 | Olympus Corp | 光学顕微鏡 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2633965C3 (de) * | 1976-07-28 | 1982-07-15 | Remy, Ernst, Dipl.-Phys. Dr., 8000 München | Einrichtung zur Parallelen und zentrischen Justierung eines mittels Strahlablenker manipulierbaren Laserstrahls |
US4662745A (en) * | 1986-02-05 | 1987-05-05 | Atlantic Richfield Company | Reflectance and luminescence calibration plate having a near-Lambertian surface and method for making the same |
US4945220A (en) * | 1988-11-16 | 1990-07-31 | Prometrix Corporation | Autofocusing system for microscope having contrast detection means |
DE4040441A1 (de) | 1990-12-18 | 1992-07-02 | Hell Stefan | Doppelkonfokales rastermikroskop |
ATE204086T1 (de) | 1994-02-01 | 2001-08-15 | Hell Stefan | Vorrichtung und verfahren zum optischen messen eines probenpunktes einer probe mit hoher ortsauflösung |
DE19732668C2 (de) * | 1997-07-29 | 1999-10-28 | Scaps Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Kalibrierung von Strahlabtastvorrichtungen |
JP4576664B2 (ja) * | 2000-03-08 | 2010-11-10 | 株式会社ニコン | 光路ズレ検知装置、および共焦点顕微鏡 |
DE10039520A1 (de) * | 2000-08-08 | 2002-02-21 | Leica Microsystems | Vorrichtung zur Untersuchung und Manipulation von mikroskopischen Objekten |
DE10063276C2 (de) * | 2000-12-19 | 2002-11-07 | Leica Microsystems | Scanmikroskop |
US6859313B2 (en) | 2001-03-23 | 2005-02-22 | Japan Science & Technology Corporation | Super resolution microscope |
DE10204367B4 (de) * | 2002-02-02 | 2006-05-11 | Leica Microsystems Cms Gmbh | Autofokusmodul für mikroskopbasierte Systeme und Autofokusverfahren für ein mikroskopbasiertes System |
DE10233074B4 (de) | 2002-07-19 | 2005-05-19 | Leica Microsystems Heidelberg Gmbh | Optische Vorrichtung zum Vereinigen von Lichtstrahlen und Scanmikroskop |
EP1616216B1 (de) | 2003-04-13 | 2018-11-07 | Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. | Räumlich hochauflösendes abbilden |
US7064824B2 (en) | 2003-04-13 | 2006-06-20 | Max-Planck-Gesellschaft Zur Forderung Der Wissenschaften E.V. | High spatial resoulution imaging and modification of structures |
DE10319182B4 (de) * | 2003-04-29 | 2008-06-12 | Carl Zeiss Jena Gmbh | Verfahren und Anordnung zur Bestimmung der Fokusposition bei der Abbildung einer Probe |
DE10331501B4 (de) * | 2003-07-11 | 2005-06-30 | MAX-PLANCK-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. | Justierung eines Mikroskops |
EP3203235A1 (en) | 2005-05-23 | 2017-08-09 | Harald F. Hess | Optical microscopy with phototransformable optical labels |
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10232352A (ja) * | 1997-02-18 | 1998-09-02 | Nikon Corp | レーザ走査顕微鏡 |
JPH1195120A (ja) * | 1997-09-19 | 1999-04-09 | Olympus Optical Co Ltd | 顕微鏡の観察方法 |
JP2001522479A (ja) * | 1998-02-20 | 2001-11-13 | ライカ ミクロジュステムス ハイデルベルク ゲーエムベーハー | レーザ走査顕微鏡の校正装置 |
JP2002286641A (ja) * | 2001-03-23 | 2002-10-03 | Olympus Optical Co Ltd | 顕微鏡 |
JP2003241102A (ja) * | 2001-12-07 | 2003-08-27 | Carl Zeiss Jena Gmbh | レーザ走査顕微鏡 |
JP2004317741A (ja) * | 2003-04-15 | 2004-11-11 | Olympus Corp | 顕微鏡およびその光学調整方法 |
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