DE2633965C3 - Einrichtung zur Parallelen und zentrischen Justierung eines mittels Strahlablenker manipulierbaren Laserstrahls - Google Patents
Einrichtung zur Parallelen und zentrischen Justierung eines mittels Strahlablenker manipulierbaren LaserstrahlsInfo
- Publication number
- DE2633965C3 DE2633965C3 DE19762633965 DE2633965A DE2633965C3 DE 2633965 C3 DE2633965 C3 DE 2633965C3 DE 19762633965 DE19762633965 DE 19762633965 DE 2633965 A DE2633965 A DE 2633965A DE 2633965 C3 DE2633965 C3 DE 2633965C3
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- laser beam
- plate
- laser
- microscope
- lens
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/24—Base structure
- G02B21/26—Stages; Adjusting means therefor
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/26—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring angles or tapers; for testing the alignment of axes
- G01B11/27—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring angles or tapers; for testing the alignment of axes for testing the alignment of axes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
Description
Das Hauptpatent 25 59 925 schützt eine Einrichtung zur parallelen und zentrischen Justierung eines mittels
Strahlablenker manipulierbaren Laserstrahls auf die optische Achse eines Mikroskopobjektivs, bei der ein
Spiegel mit einer einen Mittelpunkt aufweisenden Figur aus das Laserlicht beugenden Strichen vorgesehen ist.
der gegen das Mikroskopobjektiv derart auswechselbar ist, daß er senkrecht und seine Figur zentrisch zur
Objektivachse liegt. Eine Justierhilfe bildet diese Einrichtung insofern, als der Laserstrahl, wenn er auf
einen der Striche der Figur trifft, nicht nur reflektiert, sondern auch gebeugt wird und eine bezüglich dieses
Striches symmetrische Beugungsfigur entsteht, die auf einem im Weg des reflektierenden Lichts angeordneten
Schirm beobachtet werden kann. Trifft der Stfahl auf den Mittelpunkt der Figur, so entsteht ein entsprechendes
zentralsymmetrisches Beugungsmuster, das die korrekte mittige Einstellung des Laserstrahls anzeigt.
Diese besonders einfache und rasche Möglichkeit, den Laserstrahl zu justieren und die |ustierung jederzeit
überprüfen zu können, ist mit besonderem Vorteil anwendbar bei !aseroptischen Einrichtungen für mikroskopische,
insbesondere mikrobiologische Untersuchungen, bei denen der durch das Mikroskopobjektiv
auf ein Präparat fokussierte Laserstrahl als Werkzeug zum Zerstören, Verdampfen, Ionisieren od. dgl. von eng
lokalisierten, mikroskopischen Bereichen, z. B. innerhalb von Zellen, dient, wie aus DE-PS 2141 387 bekannt
Eine äußerst exakte gegenseitige Justierung des Laserstrahls und der optischen Komponenten ist hierbei
Voraussetzung für eine exakte Begrenzung und Lokalisierung der zu beeinflussenden Mikrobereiche.
Das Justierungsproblem wird dabei zusätzlich dadurch erschwert, daß der Strahl des verwendeten Arbeitslasers
selbst nicht für Justierzwecke beobachtet werden kann, insbesondere weil er in der Regel im UV-Bereich
liegt und/oder im Impulsbetrieb arbeitet Man verwendet in solchem Fall einen zweiten, im sichtbaren Bereich
kontinuierlich arbeitenden Hilfslaser, dessen Strahl dem des Leistungslasers kollinear überlagert wird und dessen
Verlauf für Justierzwecke sichtbar macht (wie in der älteren Anmeldung P 25 58 053.4 beschrieben).
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die Einrichtung nach dein Hauptpatent zu einer besonders
an die vorgenannten Anwendungsfälle und deren Genauigkeitsanforderungen angepaßten Justierhilfe
weiterzubilden, die eine noch einfachere und exaktere Beobachtung und Justierung des Laserstrahls ermöglicht.
Dies wird gemäß der Erfindung bei einer Einrichtung gemäß dem Hauptpatent dadurch erreicht, daß der
Spiegel als lichtdurchlässige Platte ausgebildet ist auf deren dem Lasersii-ahl zugewendeten Seite ein lediglich
die Striche des Strichmusters bildender, die übrigen Bereiche der Platte freilassender reflektierender Belag
aufgebracht ist.
Man erzielt damit den Vorteil, daß einerseits das Strichmuster äußerst exakt hergestellt werden kann,
nämlich durch Aufdampfen der Reflexionsschicht mit Hilfe des in der Halbleitertechnik bekannten Fotoätzverfahrens,
d. h. mit einer durch Belichten einer Fotolackschicht und Wegätzen der belichteten Bereiche
gebildeten Maske. Andererseits kann der Laserstrahl, soweit er nicht vom Strichmuster reflektiert und
gebeugt wird, durch die Platte hindurchtreten und auch jenseits der Platte noch für Justier- oder andere Zwecke
beobachtet werden. Hierfür ist es besonders vorteilhaft, wenn die Rückseite der Platte mattiert ist, so daß der
Auftreffpunkt des Laserstrahls beobachtet und eine Grobjustierur.g vorgenommen werden kann.
Die Platte ist vorzugsweise in einer Halterung befestigt, die ?.. B. mittels eines genormten Schraubgewindes
oder andere Mittel an die zu justierende optische Komponente, also 1. B. die Objektivrevolverhalterung
eines Mikroskops, angesetzt werden kann. In der Halterung kann die Platte drehbar und in beliebiger
Drehstellung feststeilbar sein. Damit kann man die Strichfigtir parallel zu den Achsen ausrichten, in denen
z. B. mittels optischer Ablenkeinrichtungen die Lage des Laserstrahls verändert werden kann.
Man erhält auf diese Weise ein universell verwendbares Hilfsmittel zur Justierung von Laserstrahlen auf die
optische Achse beliebiger optischer Komponenten.
Eine Ausfiihruiigsform der Erfindung wird anhand der
Zeichnung erläutert.
Fig. I zeigt aiiseinandergezogen die verschiedenen,
miteinander vcrschraubbaren Bestandteile des Einsatzoder Vorsat/teils gemäß der Erfindung, und zwar in
vergrößertem Maßstab;
F i g. 2 zeigt eine Draufsicht auf die Justierplatte;
F i g. 3 zeigt beispielhaft die Art der im Beobachtungs-Feld
erscheinenden Beugungsfigur;
F i g. 4 zeigt schematisch eine komplette laseroptische Einrichtung, in der die erfindungsgemäße Justiereinrichtung
an mehreren Stellen angewendet werden kann.
Die in F i g. 1 dargestellte Halterung 1 ist mit ihrem Außengewinde 2 anstelle eines Objektivs in die (nicht
dargestellte) Objektivfassung, insbesondere die Revolverhalterung,
eines üblichen Forschungsmikroskops einschraubbar. Eine Drehfassung 3 ist z.B. mit ihrem
Außengewinde 4 in das Innengewinde 5 der Halterung 1 einschraubbar und kann in jeder beliebigen Drehstellung
mittels einer Madenschraube 6 festgelegt werden. Ein rundes, exakt plan geschliffenes Glasplättchen 7
wird in einen schulterförmigen Sitz 8 der Drehhalterung
3 eingesetzt (wobei der Umfang des Glasplättchens 7 und des Sitzes 8 einen konischen Paßsitz bilden können)
und durch einen Konterring 9 gesichert, dessen Außengewinde 10 in das Innengewinde 11 der
Drehhalterung 3 einschraubbar ist Auf diese Weise ist das Glasplättchen 7 exakt zur optischen Achse des
Mikroskops, genauer gesagt zur optischen Achse der Mikroskopobjektive, zentriert und steht zu ihr senkrecht
Das Glasplättchen 7 trägt an der Oberseite einen reflektierenden Belag 12 in Form von zwei dünnen, sich
in der optischen Achse rechtwinklig kreuzenden Strichen. Die Breite der Striche liegt in der Größenordnung
von 1- bis lOOmal der Wellenlänge des Laserlichts, so daß sie beim Reflektieren des Laserlidits eine
Beugung nach Art eines Beugungsspaltes hervorrufen. Vorzugsweise ist der reflektierende Belag 12 schmalbandig
nur für die Wellenlänge des verwendeten sichtbaren Laserlichts reflektierend. Im Diadurverfahren
oder z. B. auch durch Vakuumaufdampfung durch eine entsprechende, nach der Fotoätztechnik hergestellte
Maske können derartige, schmalbandig reflektierende Beläge auch in Form sehr schmaler Striche
aufgebracht werden unter entsprechendem Wegätzen bzw. Stehenlassen von mittels einer Schablone belichteten
Bereichen einer Fotolackschicht.
Die zusammengesetzten Teile gemäß Fig. 1 werden anstelle eines Objektivs in die Objektivfassung eines
Mikroskops eingeschraubt. In das Mikroskop wird der zu justierende kontinuierliche Hilfslaserstrahl eingekoppelt,
der auf jeden Fall im sichtbaren Wellenlängenbereich liegen muß, dem aber zusätzlich ein weiterer, z. B.
Impuls- oder unsichtbarer Laserstrahl als der eigentliche Arbeitslaserstrahl überlagert sein kann. Der
Laserstrahl bzw. die beiden überlagerten Laserstrahlen gemeinsam müssen durch geeignete Einstellmittel
verstellbar, d. h. verschiebbar und/oder verkippbar sein, um sie justieren zu können. Dies kann im einfachsten
Fall durch entsprechendes Verschieben und/oder Verkippen der Liser selbst erfolgen, für praktische
Anwendung wird man sich aber eines sogenannten Strahlausrichters bedienen, der gegeneinander verdrehbare
Spiegel oder Prismen enthält, die es gestatten, den Laserstrahl innerhalb eines kleinen Einstellbereichcs
sowohl in /.wei zur Strahlachse senkrechten Richtungen
(x- und /-Richtung) parallel zu verschieben als auch in
zwei zueinander senkrechten Ebenen (xz-Ebene und yz- Ebene) zu verkippen.
In Fig. 4 sind die drei Hauptieile oder Baugruppen
einer kompletten Einrichtung zum Laserbeschuß von mikroskopischen "räparaten mit strichpunktierten
Rechlecken umrandet, nämlich die Lasereinheit 20, eine ZwischenoDtik 40 und euie Mikroskopeinheit 30.
In der Lasereinheit 20 befinden sich ain UV-Leistungslaser
21 mit vorgeschalteter Irisblende 22 zum Verändern des Durchmessers des Laserstrahls 23 und
damit der Kaustik des Laserstrahl-Brennflecks im
Präparat, und weiter ein Hilfs-Laser 24, der ein kontinuierliches Lichtbündel 25 im sichtbaren Bereich
aussendet Beide aus den Lasern parallelgerichtet austretenden Lichtbündel laufen durch eine Filterwechselautomatik
26,26' mit z. B. Graufiltern zum Verändern der Helligkeit und werden durch einen leildurchlässigen
Spiegel 27 vereinigt, nachdem das Lichtbündel 25 einen Strahlausrichter 28 (beam aligner) durchlaufen hat, mit
dem es in zwei zueinander senkrechten Richtungen (x, y) parallelverschoben und in den entsprechenden Ebenen
auch verkippt (φ, ω) werden kann, um die Kollinearität,
d. h. Lage und Richtungsgleichheit mit dem Lichtbündel 23 herzustellen, was durch eine vorzugsweise fluoreszierende
Mattscheibe 29 mit Lupe 30 hinter dem Teilerspiegel 27 an einem ersten Punkt überprüft
werden kann. Strahlausrichter 28 sind im Prinzip bekannt und haben mittels der angedeuteten Einstellknöpfe
verdrehbare Spiegel. Vorzugsweise wird ein Strahlausrichter mit gleichzeitiger 90°-Umlenkung
verwendet wie in dem Hauptpatent beschrieben. Drehknöpfe sollen die Einstellmöglichkeiten der Strahlausrichter
28, 33 andeuten, wobei aber jeder Strahlausrichter insgesamt vier einstellbare Freiheitsgrade x, y, φ,
what
In dem einen und/oder anderen Lichtbündel 23,25 ist eine Einrichtung 31, 3Γ mit Wechse'ünsen oder einer
Optik mit veränderbarer Brennweite (Zoom) angeordnet, um dem jeweiligen Strahl eine vom anderen Strahl
verschiedene geringfügige Divergenz oder Konvergenz zu geben, zwecks Einstellung eines gewünschten
Abstandes zwischen den beiden Laserbrennpunkten, wie in der älteren Anmeldung P 25 58 053.4 beschrieben.
Der durch den Teilerspiegel 27 vereinigte Laserstrahl 32 kann durch einen weiteren Strahlausrichter 33 wiederum
in x, y, φ und ω verschoben bzw. gekippt werden. Ein Teil des Leistungs-Laserstrahls kann aus dem Strahlausrichter
33 in einen Monitor 34 gelangen, der die Ei2rgiekonstanz des Leistungslasers überwacht, so daß
deren Schwankungen kompensiert oder bei der Auswertung berücksichtigt werden können.
In der Zwischenoplik 40 befinden sich eine Zwischenlinse
41 und eine Blende 42. Letztere besteht aus einer für beide Laserwellenlängen durchlässigen Platte, die an
ihrer dem Laser zugewandten Seite einen selektiv nur für die Wellenlänge des Leistungslasers undurchlässigen
Blendenbelag 43 mit sehr kleiner Mittelöffnung trägt. Die andere Seite der Platte 42 ist mattiert, jedoch unter
Freilassung des zentralen Bereiches, damit der Leistungsiaserstrahl nicht in der Mattierung gestreut wird.
An 'iii5r gemeinsamen, z. B. rohrförmigen Halterung 44
ist einerseits die Linse 41 mittels eines Einsteckrohrs 45 in Achsrichtung (r· Richtung) verschiebba; und andererseits
die Blende 42 in der zur optischen Achrs senkrechten Ebene (x- und /-Richtung) verschiebbar
befestigt. Dami·. kann die Blende 42 in den von der Linse
41 erzeugten Zv, ischenfokus des Leistungslaserstrahls eingestellt werden. Die gemeinsame Halterung 44 ist
ihrerseits an einer Führung 46 in Achsrichtung ^-Richtung) hin und her verschiebbar, Lm den von der
Linse 41 erzeugten Zwischenfokus in die Zwischenbildebene des Mikroskopobjektivs zu bringen. Die Führung
46 ist wiederum justierbar, nämlich in zwei zur Achse rechtwinkligen Richtungen (x- und y-Richtung) parallelverschiebbar und ferner in zwei zueinander senkrech-
In der Mikroskopeinheit 50 wird der eintretende, überlagerte Laserstrahl 32 mittels eines selektiv
verspiegelten Teilerspiegels 51 in das Mikroskopobjektiv 52 eingekoppelt und durch dieses auf das Präparat 53
fokussiert, um dort an gewünschter Stelle die beabsichtigte Wirkung auszulösen. Das Präparat 53 befindet sich
auf einem in x-, y- und z-Richtung verschiebbaren Präparattisch und kann mittels Lampe 54, Köhlersche
Beleuchtungsoptik 55 bzw. Kondensor 56 in Durchlicht, Dunkelfeld oder Phasenkontrast beleuchtet werden.
Ferner ist eine Lampe 57, eine Köhlersche Beleuchtungsoptik 58 und ein Teilerspiegel 59 für Auflichtbeleuchtung
vorgesehen. Die Beobachtung des Präparats 53 und der in ihm ausgelösten Wirkung erfolgt über den
Teilerspiegel 60 im Mikroskop-Binokular 61. und ferner ist eine Kamera 62 für fotografische Aufnahmen
und/oder für Darstellung auf einem Fernsehschirm Laserstrahls verwendet werden. In der Mikroskopeinheit
50 kann die Platte T an der Revolverhalterung des Mikroskops angebracht und an die Stelle des Objektivs
52 geschwenkt werden und dann als Hilfe für die Einjustierung des Laserstrahls 32 mittels des Strahlausrichters
33 dienen. In der Zwischenoptik 40 kann die Platte 7" vor der Zwischenlinse 41 in die Halterung 44
eingesetzt werden, um die gesamte Zwischenoptik mittig zum Laserstrahl 35 auszurichten. In der
Lasereinheit 20 kann eine entsprechende Platte T" an die Wechsellinsen- oder Zoomeinrichtung 31, 3V oder
auch die Wechselfilter 26 angesetzt werden, um deren mittige justierung zum Laserstrahl 23, 25 vornehmen zu
können. Die von den Platten T, 7", T" erzeugten Beugungsmuster können auf einem jeweils im Strahlengang
vor der Platte angeordneten Lochblendenschirm aufgefangen und beobachtet werden, wobei dieser
Schirm vorzugsweise möglichst weit entfernt von der
τ; Tcilcrspicgc! 60 befindet sich ein jeweiliger; Bcugurigsp'.siie und selbstverständlich an
selektives Sperrfilter 63 für z. B. UV-Licht des Lasers 21 und eine Tubuslinse 64 zur Anpassung des Zwischenbildes
vom Objektiv 52 an die Bildebene des Binokulars 61 bzw. der Kamera 62. Die feilerspiegel 27 und 5! sind
vorzugsweise als Doppelprismenspiegel oder als dünne Folien (pellicle) ausgebildet, um seitliche Versetzungen
zu vermeiden und dabei gleichzeitig die optische Güte von dicken Spiegeln erreichen zu können. Die
Zwischenoptik 40 ist vorzugsweise als Ganzes aus dem Strahlengang schwenkbar, und der Teilerspiegel um 90°
schwenkbar, um den Laserstrahl auf eine entfernte Wand zu projizieren zur Überprüfung der Kollinearität
der Laserstrahlen an einem zweiten Punkt entfernt von der Mattscheibe 29.
Die erfindungsgemäße Justiereinrichtung mit der Platte 7 mit Beugungsfigur gemäß F i g. 1 bis 3 kann nun
an verschiedenen Stellen der Anordnung gemäß F i g. 4 zur Justierung der optischen Komponenten bzw. des
ten, durch die Achse verlaufenden Ebenen verkippbar einer der Beobachtung zugänglichen Stelle angeordnet
sein sollte. Vorzugsweise ist der Schirm bei 35, 35' unmittelbar vor dem Hilfslaser 24 oder dem Leistungslaser
21 angeordnet. Die von der Platte T am Objektivhalter erzeugte Beugungsfigur kann auch im
Okular 61 beobachtet werden, falls der Teilerspiegel 51 für die Wellenlänge des Hilfslaserstrahls teildurchlässig
ist.
Dz, Erscheinen der vollständigen Beugungsfigur auf dem Schirm 35, 35' zeigt, wie bereits erwähnt, das
mittige Auftreffen des Laserstrahls auf der jeweiligen Strichmusterplatie '/', 7", T" an. Liegt die Beugungsfigur
auf dem Schirm 35, 35' exzentrisch zur Mittelachse, so bedeutet dies, daß der L?serstrahl nicht senkrecht auf
die Platte auftrifft. Durch Nachjustieren am Strahlausrichter 33 in x, y, φ und ω kann außer dem mittigen auch
das senkrechte Auftreffen einjustiert werden, so daß der Laserstrahl dann kollinear zur optischen Achse des
Mikroskopobjektivs 52 verläuft.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen
Claims (7)
1. Einrichtung zur parallelen und zentrischen Justierung eines mittels Strahlablenker manipulierbaren
Laserstrahls auf die optische Achse eines Mikroskopobjektivs, bei der ein Spiegel mit einer
einen Mittelpunkt aufweisenden Figur aus das Laserlicht beugenden Strichen vorgesehen ist, der
gegen das Mikroskopobjektiv derart auswechselbar ist, daß er senkrecht und seine Figur zentrisch zur
Objektivachse liegt, nach Patent 25 59 925, dadurch
gekennzeichnet, daß der Spiegel (7) als lichtdurchlässige Platte ausgebildet ist, auf deren
dem Laserstrahl zugewendeten Seite ein lediglich die Striche des Strichmusters (12) bildender, die
übrigen Bereiche der Platte freilassender reflektierender Belag aufgebracht ist
2. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der das Strichmuster bildende
reflektiereucie Belag durch Aufdampfen unter
Anwendung des Fotoätzverfahrens hergestellt ist.
3. Einrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Figur ein Strichkreuz ist.
4. Einrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, y,
dadurch gekennzeichnet, daß die vom Laserstrahl abgewandte Seite der Platte mattiert ist.
5. Einrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß der reflektierende
Belag selektiv nur für ein schmales Wellenlängen- so band im sichtbaren Bereich reflektierend ist.
6. Einrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, d," die Platte exakt
zentriert in einer an d;e zu justierende optische
Komponente, insbesondere au die Objektivhalte- ιϊ
rung eines Mikroskops, anschraubbaren oder ansteckbaren Halterung befestigt ist.
7. Einrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Platte an der Halterung in ihrer
Ebene drehbar gelagert und in beliebiger Drehstel- m
lung feststellbar ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19762633965 DE2633965C3 (de) | 1976-07-28 | 1976-07-28 | Einrichtung zur Parallelen und zentrischen Justierung eines mittels Strahlablenker manipulierbaren Laserstrahls |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19762633965 DE2633965C3 (de) | 1976-07-28 | 1976-07-28 | Einrichtung zur Parallelen und zentrischen Justierung eines mittels Strahlablenker manipulierbaren Laserstrahls |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2633965A1 DE2633965A1 (de) | 1978-02-02 |
DE2633965B2 DE2633965B2 (de) | 1981-09-10 |
DE2633965C3 true DE2633965C3 (de) | 1982-07-15 |
Family
ID=5984147
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19762633965 Expired DE2633965C3 (de) | 1976-07-28 | 1976-07-28 | Einrichtung zur Parallelen und zentrischen Justierung eines mittels Strahlablenker manipulierbaren Laserstrahls |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE2633965C3 (de) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2810673C2 (de) * | 1978-03-11 | 1982-11-11 | Messerschmitt-Bölkow-Blohm GmbH, 8000 München | Zielmarkenprojektor |
DE2945290A1 (de) * | 1979-11-09 | 1981-06-11 | Rheinmetall GmbH, 4000 Düsseldorf | Durchzugkoerper zum messen der biegung der innenwand eines rohres |
DE10111825B4 (de) | 2001-03-13 | 2019-03-07 | Leica Microsystems Cms Gmbh | Anordnung zum Justieren von mindestens einem Lichtstrahl in einem optischen System |
DE102007011305A1 (de) | 2007-03-06 | 2008-09-11 | Leica Microsystems Cms Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Strahljustage in einem optischen Strahlengang |
DE102008064512A1 (de) * | 2008-12-22 | 2010-06-24 | Maiorova, Tatiana, Dmitrov | Optische Anordnung zum Ändern eines Abbildungsverhältnisses oder einer Brechkraft |
DE202009002387U1 (de) | 2008-12-22 | 2010-05-12 | Maiorova, Tatiana, Dmitrov | Optische Anordnung zum Ändern eines Abbildungsverhältnisses oder einer Brechkraft |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2505774C3 (de) * | 1975-02-12 | 1979-04-19 | Remy, Ernst, Dipl.-Phys. Dr., 8000 Muenchen | Justiervorrichtung für eine Laseranordnung aus einem Leistungslaser und einem Justierlaser |
-
1976
- 1976-07-28 DE DE19762633965 patent/DE2633965C3/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2633965B2 (de) | 1981-09-10 |
DE2633965A1 (de) | 1978-02-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE19721112B4 (de) | Autofokussierverfahren | |
DE2025509C3 (de) | Interferenzmikroskop | |
DE4212924C2 (de) | Stereomikroskop | |
DE10027167B4 (de) | Mikroskop mit einem Beleuchtungssystem | |
WO2001078937A1 (de) | Laser-mikro-dissektionsgerät | |
DE19629725A1 (de) | Doppelobjektiv-System für ein Mikroskop, insbesondere Rastermikroskop | |
DE2852203B2 (de) | Lichtleiteinrichtung für eine mit Auflicht betriebene Abbildungsvorrichtung | |
DE1598863A1 (de) | Vorrichtung zur AEnderung des Einfallwinkels eines Strahlungsbuendels auf eine Zelle mit Benutzung innerer Reflexion bei Ultraspektroskopie | |
DE19541420A1 (de) | Stereomikroskop-Anordnung | |
WO2003093892A1 (de) | Konfokales mikroskop mit zwei mikrolinsenarrays und einem lochblendenarray | |
CH615517A5 (de) | ||
DE2804527C2 (de) | Verfahren und Anordnung zum Abgleichen von Abbildungssystemen | |
DE3024027A1 (de) | Optisches mikrometermessgeraet | |
DE2633965C3 (de) | Einrichtung zur Parallelen und zentrischen Justierung eines mittels Strahlablenker manipulierbaren Laserstrahls | |
DE4012513C2 (de) | ||
DE4113279C2 (de) | Konfokales optisches Rastermikroskop | |
DE3317958C2 (de) | Auflichtmikroskop zur Augenuntersuchung | |
DE3006657C2 (de) | ||
CH469480A (de) | Spaltlampengerät für Augenuntersuchungen | |
DE102007046872B4 (de) | Optische Abbildungsvorrichtung | |
DE3122538A1 (de) | Vorrichtung zum wechseln der beleuchtungsoptik eines mikroskops | |
DE2635283C2 (de) | Fokussiereinrichtung für eine Kamera | |
DE2505774A1 (de) | Optisches laser-mikroskopgeraet zum laserbeschuss mikroskopischer probenbereiche | |
DE2325957B2 (de) | Winkelsucher mit einstellbarem VergröBerungssystem | |
DE2638276A1 (de) | Optische blende und damit ausgeruestete laseroptische einrichtung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OAP | Request for examination filed | ||
OD | Request for examination | ||
AF | Is addition to no. |
Ref country code: DE Ref document number: 2559925 Format of ref document f/p: P |
|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
8340 | Patent of addition ceased/non-payment of fee of main patent |