DE2633965C3

DE2633965C3 - Device for parallel and centric adjustment of a laser beam that can be manipulated by means of a beam deflector

Info

Publication number: DE2633965C3
Application number: DE19762633965
Authority: DE
Inventors: Ernst Dipl.-Phys. Dr. 8000 Muenchen Remy
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 1976-07-28
Filing date: 1976-07-28
Publication date: 1982-07-15
Also published as: DE2633965B2; DE2633965A1

Description

Das Hauptpatent 25 59 925 schützt eine Einrichtung zur parallelen und zentrischen Justierung eines mittels Strahlablenker manipulierbaren Laserstrahls auf die optische Achse eines Mikroskopobjektivs, bei der ein Spiegel mit einer einen Mittelpunkt aufweisenden Figur aus das Laserlicht beugenden Strichen vorgesehen ist. der gegen das Mikroskopobjektiv derart auswechselbar ist, daß er senkrecht und seine Figur zentrisch zur Objektivachse liegt. Eine Justierhilfe bildet diese Einrichtung insofern, als der Laserstrahl, wenn er auf einen der Striche der Figur trifft, nicht nur reflektiert, sondern auch gebeugt wird und eine bezüglich dieses Striches symmetrische Beugungsfigur entsteht, die auf einem im Weg des reflektierenden Lichts angeordneten Schirm beobachtet werden kann. Trifft der Stfahl auf den Mittelpunkt der Figur, so entsteht ein entsprechendes zentralsymmetrisches Beugungsmuster, das die korrekte mittige Einstellung des Laserstrahls anzeigt.The main patent 25 59 925 protects a device for parallel and centric adjustment of a means Beam deflector manipulable laser beam onto the optical axis of a microscope objective, in which a Mirror with a figure having a center point from the lines diffracting the laser light is provided. which is interchangeable with the microscope lens in such a way that it is perpendicular and its figure is centered to the Lens axis lies. This device is an adjustment aid insofar as the laser beam when it is on hits one of the lines of the figure, is not only reflected, but also bent, and one in relation to this Stroke's symmetrical diffraction figure arises, which is arranged on one in the path of the reflecting light Screen can be observed. If the steel hits the center of the figure, a corresponding one is created centrally symmetrical diffraction pattern, which shows the correct central setting of the laser beam.

Diese besonders einfache und rasche Möglichkeit, den Laserstrahl zu justieren und die |ustierung jederzeit überprüfen zu können, ist mit besonderem Vorteil anwendbar bei !aseroptischen Einrichtungen für mikroskopische, insbesondere mikrobiologische Untersuchungen, bei denen der durch das Mikroskopobjektiv auf ein Präparat fokussierte Laserstrahl als Werkzeug zum Zerstören, Verdampfen, Ionisieren od. dgl. von eng lokalisierten, mikroskopischen Bereichen, z. B. innerhalb von Zellen, dient, wie aus DE-PS 2141 387 bekannt Eine äußerst exakte gegenseitige Justierung des Laserstrahls und der optischen Komponenten ist hierbei Voraussetzung für eine exakte Begrenzung und Lokalisierung der zu beeinflussenden Mikrobereiche. Das Justierungsproblem wird dabei zusätzlich dadurch erschwert, daß der Strahl des verwendeten Arbeitslasers selbst nicht für Justierzwecke beobachtet werden kann, insbesondere weil er in der Regel im UV-Bereich liegt und/oder im Impulsbetrieb arbeitet Man verwendet in solchem Fall einen zweiten, im sichtbaren Bereich kontinuierlich arbeitenden Hilfslaser, dessen Strahl dem des Leistungslasers kollinear überlagert wird und dessen Verlauf für Justierzwecke sichtbar macht (wie in der älteren Anmeldung P 25 58 053.4 beschrieben).This particularly simple and quick way of adjusting the laser beam and adjusting it at any time can be used with particular advantage in! aseroptical devices for microscopic, in particular microbiological examinations in which the microscope objective Laser beam focused on a specimen as a tool for destroying, vaporizing, ionizing or the like of closely localized microscopic areas, e.g. B. within cells, as known from DE-PS 2141 387 An extremely exact mutual adjustment of the laser beam and the optical components is here Precondition for an exact delimitation and localization of the micro-areas to be influenced. The adjustment problem is additionally made more difficult by the fact that the beam of the working laser used itself cannot be observed for adjustment purposes, in particular because it is usually in the UV range and / or working in pulsed mode. In such a case, a second area in the visible area is used continuously working auxiliary laser, the beam of which is collinearly superimposed on that of the power laser and whose Makes the course visible for adjustment purposes (as described in the earlier application P 25 58 053.4).

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die Einrichtung nach dein Hauptpatent zu einer besonders an die vorgenannten Anwendungsfälle und deren Genauigkeitsanforderungen angepaßten Justierhilfe weiterzubilden, die eine noch einfachere und exaktere Beobachtung und Justierung des Laserstrahls ermöglicht. The invention is based on the object, the device according to your main patent to a special Adjustment aid adapted to the aforementioned applications and their accuracy requirements further training, which enables an even simpler and more precise observation and adjustment of the laser beam.

Dies wird gemäß der Erfindung bei einer Einrichtung gemäß dem Hauptpatent dadurch erreicht, daß der Spiegel als lichtdurchlässige Platte ausgebildet ist auf deren dem Lasersii-ahl zugewendeten Seite ein lediglich die Striche des Strichmusters bildender, die übrigen Bereiche der Platte freilassender reflektierender Belag aufgebracht ist.This is achieved according to the invention in a device according to the main patent in that the The mirror in the form of a translucent plate is only one on the side facing the laser beam the lines of the line pattern forming, the remaining areas of the plate exposed reflective coating is upset.

Man erzielt damit den Vorteil, daß einerseits das Strichmuster äußerst exakt hergestellt werden kann, nämlich durch Aufdampfen der Reflexionsschicht mit Hilfe des in der Halbleitertechnik bekannten Fotoätzverfahrens, d. h. mit einer durch Belichten einer Fotolackschicht und Wegätzen der belichteten Bereiche gebildeten Maske. Andererseits kann der Laserstrahl, soweit er nicht vom Strichmuster reflektiert und gebeugt wird, durch die Platte hindurchtreten und auch jenseits der Platte noch für Justier- oder andere Zwecke beobachtet werden. Hierfür ist es besonders vorteilhaft, wenn die Rückseite der Platte mattiert ist, so daß der Auftreffpunkt des Laserstrahls beobachtet und eine Grobjustierur.g vorgenommen werden kann.This has the advantage that, on the one hand, the line pattern can be produced extremely precisely, namely by vapor deposition of the reflective layer with the help of the photo-etching process known in semiconductor technology, d. H. with one by exposing a photoresist layer and etching away the exposed areas educated mask. On the other hand, the laser beam can, as long as it is not reflected by the line pattern and is bent, pass through the plate and also beyond the plate for adjustment or other purposes to be observed. For this purpose, it is particularly advantageous if the back of the plate is matted so that the The point of impact of the laser beam can be observed and a rough adjustment can be made.

Die Platte ist vorzugsweise in einer Halterung befestigt, die ?.. B. mittels eines genormten Schraubgewindes oder andere Mittel an die zu justierende optische Komponente, also 1. B. die Objektivrevolverhalterung eines Mikroskops, angesetzt werden kann. In der Halterung kann die Platte drehbar und in beliebiger Drehstellung feststeilbar sein. Damit kann man die Strichfigtir parallel zu den Achsen ausrichten, in denen z. B. mittels optischer Ablenkeinrichtungen die Lage des Laserstrahls verändert werden kann.The plate is preferably mounted in a holder, the? .. example by means of the lens turret of a microscope holder can be applied a standard screw thread or other means to the optical component to be adjusted, ie 1. B.. In the holder, the plate can be rotatable and can be fixed in any rotational position. So you can align the Strichfigtir parallel to the axes in which z. B. the position of the laser beam can be changed by means of optical deflection devices.

Man erhält auf diese Weise ein universell verwendbares Hilfsmittel zur Justierung von Laserstrahlen auf die optische Achse beliebiger optischer Komponenten.In this way, a universally applicable aid for adjusting laser beams to the optical axis of any optical components.

Eine Ausfiihruiigsform der Erfindung wird anhand der Zeichnung erläutert.An embodiment of the invention is based on Drawing explained.

Fig. I zeigt aiiseinandergezogen die verschiedenen, miteinander vcrschraubbaren Bestandteile des Einsatzoder Vorsat/teils gemäß der Erfindung, und zwar in vergrößertem Maßstab;Fig. I shows, drawn apart, the various components of the insert or attachment part according to the invention that can be screwed together, namely in enlarged scale;

F i g. 2 zeigt eine Draufsicht auf die Justierplatte;F i g. Figure 2 shows a plan view of the adjustment plate;

F i g. 3 zeigt beispielhaft die Art der im Beobachtungs-Feld erscheinenden Beugungsfigur;F i g. 3 shows an example of the type of in the observation field appearing diffraction figure;

F i g. 4 zeigt schematisch eine komplette laseroptische Einrichtung, in der die erfindungsgemäße Justiereinrichtung an mehreren Stellen angewendet werden kann.F i g. 4 shows schematically a complete laser-optical device in which the adjusting device according to the invention can be applied in several places.

Die in F i g. 1 dargestellte Halterung 1 ist mit ihrem Außengewinde 2 anstelle eines Objektivs in die (nicht dargestellte) Objektivfassung, insbesondere die Revolverhalterung, eines üblichen Forschungsmikroskops einschraubbar. Eine Drehfassung 3 ist z.B. mit ihrem Außengewinde 4 in das Innengewinde 5 der Halterung 1 einschraubbar und kann in jeder beliebigen Drehstellung mittels einer Madenschraube 6 festgelegt werden. Ein rundes, exakt plan geschliffenes Glasplättchen 7 wird in einen schulterförmigen Sitz 8 der Drehhalterung 3 eingesetzt (wobei der Umfang des Glasplättchens 7 und des Sitzes 8 einen konischen Paßsitz bilden können) und durch einen Konterring 9 gesichert, dessen Außengewinde 10 in das Innengewinde 11 der Drehhalterung 3 einschraubbar ist Auf diese Weise ist das Glasplättchen 7 exakt zur optischen Achse des Mikroskops, genauer gesagt zur optischen Achse der Mikroskopobjektive, zentriert und steht zu ihr senkrecht The in F i g. 1 is shown with its external thread 2 instead of a lens in the (not lens mount shown, especially the turret mount, of a conventional research microscope can be screwed in. A rotary mount 3 is, for example, with its The external thread 4 can be screwed into the internal thread 5 of the holder 1 and can be in any rotational position be set by means of a grub screw 6. A round, precisely ground glass plate 7 is in a shoulder-shaped seat 8 of the rotating bracket 3 inserted (whereby the circumference of the glass plate 7 and the seat 8 can form a conical snug fit) and secured by a lock ring 9, the external thread 10 in the internal thread 11 of the Rotary bracket 3 can be screwed in. In this way, the glass plate 7 is exactly to the optical axis of the The microscope, more precisely to the optical axis of the microscope objectives, is centered and perpendicular to it

Das Glasplättchen 7 trägt an der Oberseite einen reflektierenden Belag 12 in Form von zwei dünnen, sich in der optischen Achse rechtwinklig kreuzenden Strichen. Die Breite der Striche liegt in der Größenordnung von 1- bis lOOmal der Wellenlänge des Laserlichts, so daß sie beim Reflektieren des Laserlidits eine Beugung nach Art eines Beugungsspaltes hervorrufen. Vorzugsweise ist der reflektierende Belag 12 schmalbandig nur für die Wellenlänge des verwendeten sichtbaren Laserlichts reflektierend. Im Diadurverfahren oder z. B. auch durch Vakuumaufdampfung durch eine entsprechende, nach der Fotoätztechnik hergestellte Maske können derartige, schmalbandig reflektierende Beläge auch in Form sehr schmaler Striche aufgebracht werden unter entsprechendem Wegätzen bzw. Stehenlassen von mittels einer Schablone belichteten Bereichen einer Fotolackschicht.The glass plate 7 carries on the top a reflective coating 12 in the form of two thin ones Lines crossing at right angles in the optical axis. The width of the lines is on the order of magnitude from 1 to 100 times the wavelength of the laser light, so that when the laser lid is reflected, a Induce diffraction in the manner of a diffraction slit. The reflective covering 12 is preferably narrow-banded reflective only for the wavelength of the visible laser light used. In the Diadur method or z. B. also by vacuum evaporation by a corresponding, manufactured according to the photo etching technique Mask can also be such, narrow-band reflective coverings in the form of very narrow lines are applied with appropriate etching or leaving to stand exposed by means of a stencil Areas of a photoresist layer.

Die zusammengesetzten Teile gemäß Fig. 1 werden anstelle eines Objektivs in die Objektivfassung eines Mikroskops eingeschraubt. In das Mikroskop wird der zu justierende kontinuierliche Hilfslaserstrahl eingekoppelt, der auf jeden Fall im sichtbaren Wellenlängenbereich liegen muß, dem aber zusätzlich ein weiterer, z. B. Impuls- oder unsichtbarer Laserstrahl als der eigentliche Arbeitslaserstrahl überlagert sein kann. Der Laserstrahl bzw. die beiden überlagerten Laserstrahlen gemeinsam müssen durch geeignete Einstellmittel verstellbar, d. h. verschiebbar und/oder verkippbar sein, um sie justieren zu können. Dies kann im einfachsten Fall durch entsprechendes Verschieben und/oder Verkippen der Liser selbst erfolgen, für praktische Anwendung wird man sich aber eines sogenannten Strahlausrichters bedienen, der gegeneinander verdrehbare Spiegel oder Prismen enthält, die es gestatten, den Laserstrahl innerhalb eines kleinen Einstellbereichcs sowohl in /.wei zur Strahlachse senkrechten Richtungen (x- und /-Richtung) parallel zu verschieben als auch in zwei zueinander senkrechten Ebenen (xz-Ebene und yz- Ebene) zu verkippen.The assembled parts according to FIG. 1 are screwed into the lens mount of a microscope instead of an objective. The continuous auxiliary laser beam to be adjusted is coupled into the microscope, which must be in the visible wavelength range in any case. B. pulse or invisible laser beam can be superimposed as the actual working laser beam. The laser beam or the two superimposed laser beams together must be adjustable, ie displaceable and / or tiltable, by suitable setting means, in order to be able to adjust them. In the simplest case, this can be done by moving and / or tilting the lisers themselves, but for practical use one will use a so-called beam aligner that contains mutually rotatable mirrors or prisms that allow the laser beam within a small setting range both in / .to move two directions perpendicular to the beam axis (x and / direction) parallel and to tilt in two mutually perpendicular planes (xz plane and yz plane).

In Fig. 4 sind die drei Hauptieile oder Baugruppen einer kompletten Einrichtung zum Laserbeschuß von mikroskopischen "räparaten mit strichpunktierten Rechlecken umrandet, nämlich die Lasereinheit 20, eine ZwischenoDtik 40 und euie Mikroskopeinheit 30.In Fig. 4 are the three major parts or assemblies a complete device for the laser bombardment of microscopic "specimens with dash-dotted lines Rectangular rectangles are bordered, namely the laser unit 20, an intermediate lens 40 and a microscope unit 30.

In der Lasereinheit 20 befinden sich ain UV-Leistungslaser 21 mit vorgeschalteter Irisblende 22 zum Verändern des Durchmessers des Laserstrahls 23 und damit der Kaustik des Laserstrahl-Brennflecks im Präparat, und weiter ein Hilfs-Laser 24, der ein kontinuierliches Lichtbündel 25 im sichtbaren Bereich aussendet Beide aus den Lasern parallelgerichtet austretenden Lichtbündel laufen durch eine Filterwechselautomatik 26,26' mit z. B. Graufiltern zum Verändern der Helligkeit und werden durch einen leildurchlässigen Spiegel 27 vereinigt, nachdem das Lichtbündel 25 einen Strahlausrichter 28 (beam aligner) durchlaufen hat, mit dem es in zwei zueinander senkrechten Richtungen (x, y) parallelverschoben und in den entsprechenden Ebenen auch verkippt (φ, ω) werden kann, um die Kollinearität, d. h. Lage und Richtungsgleichheit mit dem Lichtbündel 23 herzustellen, was durch eine vorzugsweise fluoreszierende Mattscheibe 29 mit Lupe 30 hinter dem Teilerspiegel 27 an einem ersten Punkt überprüft werden kann. Strahlausrichter 28 sind im Prinzip bekannt und haben mittels der angedeuteten Einstellknöpfe verdrehbare Spiegel. Vorzugsweise wird ein Strahlausrichter mit gleichzeitiger 90°-Umlenkung verwendet wie in dem Hauptpatent beschrieben. Drehknöpfe sollen die Einstellmöglichkeiten der Strahlausrichter 28, 33 andeuten, wobei aber jeder Strahlausrichter insgesamt vier einstellbare Freiheitsgrade x, y, φ, whatThe laser unit 20 contains a UV power laser 21 with an upstream iris diaphragm 22 for changing the diameter of the laser beam 23 and thus the caustic of the laser beam focal point in the preparation, and also an auxiliary laser 24 which emits a continuous light beam 25 in the visible range Both bundles of light emerging from the lasers in parallel run through an automatic filter change system 26,26 'with z. B. gray filters to change the brightness and are combined by a translucent mirror 27 after the light bundle 25 has passed through a beam aligner 28, with which it is parallel displaced in two mutually perpendicular directions (x, y) and also in the corresponding planes can be tilted (φ, ω) to produce the collinearity, ie position and directional equality with the light beam 23, which can be checked by a preferably fluorescent ground glass 29 with a magnifying glass 30 behind the splitter mirror 27 at a first point. Beam aligners 28 are known in principle and have mirrors that can be rotated by means of the adjustment knobs indicated. A beam aligner with simultaneous 90 ° deflection is preferably used, as described in the main patent. Rotary knobs are intended to indicate the setting options of the beam aligners 28, 33, but each beam aligner has a total of four adjustable degrees of freedom x, y, φ, what

In dem einen und/oder anderen Lichtbündel 23,25 ist eine Einrichtung 31, 3Γ mit Wechse'ünsen oder einer Optik mit veränderbarer Brennweite (Zoom) angeordnet, um dem jeweiligen Strahl eine vom anderen Strahl verschiedene geringfügige Divergenz oder Konvergenz zu geben, zwecks Einstellung eines gewünschten Abstandes zwischen den beiden Laserbrennpunkten, wie in der älteren Anmeldung P 25 58 053.4 beschrieben. Der durch den Teilerspiegel 27 vereinigte Laserstrahl 32 kann durch einen weiteren Strahlausrichter 33 wiederum in x, y, φ und ω verschoben bzw. gekippt werden. Ein Teil des Leistungs-Laserstrahls kann aus dem Strahlausrichter 33 in einen Monitor 34 gelangen, der die Eⁱ2rgiekonstanz des Leistungslasers überwacht, so daß deren Schwankungen kompensiert oder bei der Auswertung berücksichtigt werden können.In one and / or the other light bundle 23, 25 a device 31, 3Γ with alternating lenses or optics with variable focal length (zoom) is arranged in order to give the respective beam a slight divergence or convergence different from the other beam for the purpose of adjustment a desired distance between the two laser focal points, as described in the earlier application P 25 58 053.4. The laser beam 32 combined by the splitter mirror 27 can in turn be shifted or tilted in x, y, φ and ω by a further beam aligner 33. A portion of the power laser beam can pass from the beam director 33 to a monitor 34 which monitors the E ⁱ 2rgiekonstanz of the laser power, so that their fluctuations may be compensated for, or taken into account in the evaluation.

In der Zwischenoplik 40 befinden sich eine Zwischenlinse 41 und eine Blende 42. Letztere besteht aus einer für beide Laserwellenlängen durchlässigen Platte, die an ihrer dem Laser zugewandten Seite einen selektiv nur für die Wellenlänge des Leistungslasers undurchlässigen Blendenbelag 43 mit sehr kleiner Mittelöffnung trägt. Die andere Seite der Platte 42 ist mattiert, jedoch unter Freilassung des zentralen Bereiches, damit der Leistungsiaserstrahl nicht in der Mattierung gestreut wird. An 'iii5r gemeinsamen, z. B. rohrförmigen Halterung 44 ist einerseits die Linse 41 mittels eines Einsteckrohrs 45 in Achsrichtung (r· Richtung) verschiebba; und andererseits die Blende 42 in der zur optischen Achrs senkrechten Ebene (x- und /-Richtung) verschiebbar befestigt. Dami·. kann die Blende 42 in den von der Linse 41 erzeugten Zv, ischenfokus des Leistungslaserstrahls eingestellt werden. Die gemeinsame Halterung 44 ist ihrerseits an einer Führung 46 in Achsrichtung ^-Richtung) hin und her verschiebbar, Lm den von der Linse 41 erzeugten Zwischenfokus in die Zwischenbildebene des Mikroskopobjektivs zu bringen. Die Führung 46 ist wiederum justierbar, nämlich in zwei zur Achse rechtwinkligen Richtungen (x- und y-Richtung) parallelverschiebbar und ferner in zwei zueinander senkrech- In the intermediate lens 40 there is an intermediate lens 41 and a diaphragm 42. The latter consists of a plate which is transparent to both laser wavelengths and which, on its side facing the laser, carries a diaphragm covering 43 with a very small central opening that is selectively impermeable only to the wavelength of the power laser. The other side of the plate 42 is matted, but leaving the central area free so that the power laser beam is not scattered in the matting. At 'iii5r common, e.g. B. tubular holder 44 is on the one hand the lens 41 by means of an insertion tube 45 in the axial direction (r · direction) displaceable; and on the other hand, the diaphragm 42 is mounted displaceably in the plane perpendicular to the optical axis (x and / direction). Dami ·. the diaphragm 42 can be set in the Zv, ischenfocus of the power laser beam generated by the lens 41. The common holder 44 can in turn be displaced back and forth on a guide 46 in the axial direction (direction) in order to bring the intermediate focus generated by the lens 41 into the intermediate image plane of the microscope objective. The guide 46 is in turn adjustable, namely in two directions at right angles to the axis (x and y direction) and also displaceable in two mutually perpendicular

In der Mikroskopeinheit 50 wird der eintretende, überlagerte Laserstrahl 32 mittels eines selektiv verspiegelten Teilerspiegels 51 in das Mikroskopobjektiv 52 eingekoppelt und durch dieses auf das Präparat 53 fokussiert, um dort an gewünschter Stelle die beabsichtigte Wirkung auszulösen. Das Präparat 53 befindet sich auf einem in x-, y- und z-Richtung verschiebbaren Präparattisch und kann mittels Lampe 54, Köhlersche Beleuchtungsoptik 55 bzw. Kondensor 56 in Durchlicht, Dunkelfeld oder Phasenkontrast beleuchtet werden. Ferner ist eine Lampe 57, eine Köhlersche Beleuchtungsoptik 58 und ein Teilerspiegel 59 für Auflichtbeleuchtung vorgesehen. Die Beobachtung des Präparats 53 und der in ihm ausgelösten Wirkung erfolgt über den Teilerspiegel 60 im Mikroskop-Binokular 61. und ferner ist eine Kamera 62 für fotografische Aufnahmen und/oder für Darstellung auf einem Fernsehschirm Laserstrahls verwendet werden. In der Mikroskopeinheit 50 kann die Platte T an der Revolverhalterung des Mikroskops angebracht und an die Stelle des Objektivs 52 geschwenkt werden und dann als Hilfe für die Einjustierung des Laserstrahls 32 mittels des Strahlausrichters 33 dienen. In der Zwischenoptik 40 kann die Platte 7" vor der Zwischenlinse 41 in die Halterung 44 eingesetzt werden, um die gesamte Zwischenoptik mittig zum Laserstrahl 35 auszurichten. In der Lasereinheit 20 kann eine entsprechende Platte T" an die Wechsellinsen- oder Zoomeinrichtung 31, 3V oder auch die Wechselfilter 26 angesetzt werden, um deren mittige justierung zum Laserstrahl 23, 25 vornehmen zu können. Die von den Platten T, 7", T" erzeugten Beugungsmuster können auf einem jeweils im Strahlengang vor der Platte angeordneten Lochblendenschirm aufgefangen und beobachtet werden, wobei dieser Schirm vorzugsweise möglichst weit entfernt von derIn the microscope unit 50, the superimposed laser beam 32 entering is coupled into the microscope objective 52 by means of a selectively mirrored splitter mirror 51 and focused on the specimen 53 by this in order to trigger the intended effect at the desired location. The preparation 53 is located on a preparation table that can be moved in the x, y and z directions and can be illuminated in transmitted light, dark field or phase contrast by means of a lamp 54, Koehler illumination optics 55 or condenser 56. Furthermore, a lamp 57, a Koehler illumination optics 58 and a splitter mirror 59 for incident light illumination are provided. The preparation 53 and the effect triggered in it are observed via the splitter mirror 60 in the microscope binocular 61. Furthermore, a camera 62 can be used for photographic recordings and / or for displaying a laser beam on a television screen. In the microscope unit 50, the plate T can be attached to the turret holder of the microscope and swiveled to the place of the objective 52 and then serve as an aid for adjusting the laser beam 32 by means of the beam aligner 33. In the intermediate optical system 40 the plate can "be inserted in front of the intermediate lens 41 in the bracket 44 to the entire intermediate optics to align centrally with respect to laser beam 35th in the laser unit 20, a corresponding plate T can" 7 to the Wechsellinsen- or zooming device 31, 3V or The replaceable filters 26 are also attached in order to be able to adjust them centrally to the laser beam 23, 25. The diffraction patterns generated by the plates T, 7 ", T" can be captured and observed on a perforated screen arranged in the beam path in front of the plate, this screen preferably being as far away from the plate as possible

τ; Tcilcrspicgc! 60 befindet sich ein jeweiliger; Bcugurigsp'.siie und selbstverständlich anτ; Partcrspicgc! 60 is a respective; Bcugurigsp'.siie and of course

VUIgCSCMCIl. IKJ VUIgCSCMCIl. IKJ

selektives Sperrfilter 63 für z. B. UV-Licht des Lasers 21 und eine Tubuslinse 64 zur Anpassung des Zwischenbildes vom Objektiv 52 an die Bildebene des Binokulars 61 bzw. der Kamera 62. Die feilerspiegel 27 und 5! sind vorzugsweise als Doppelprismenspiegel oder als dünne Folien (pellicle) ausgebildet, um seitliche Versetzungen zu vermeiden und dabei gleichzeitig die optische Güte von dicken Spiegeln erreichen zu können. Die Zwischenoptik 40 ist vorzugsweise als Ganzes aus dem Strahlengang schwenkbar, und der Teilerspiegel um 90° schwenkbar, um den Laserstrahl auf eine entfernte Wand zu projizieren zur Überprüfung der Kollinearität der Laserstrahlen an einem zweiten Punkt entfernt von der Mattscheibe 29.selective blocking filter 63 for z. B. UV light from the laser 21 and a tube lens 64 for adapting the intermediate image from the objective 52 to the image plane of the binocular 61 or the camera 62. The filing mirrors 27 and 5! are preferably designed as a double prism mirror or as a thin film (pellicle) to avoid lateral displacements to avoid and at the same time to be able to achieve the optical quality of thick mirrors. the Intermediate optics 40 can preferably be pivoted as a whole out of the beam path, and the splitter mirror by 90 ° pivotable to project the laser beam onto a distant wall to check collinearity of the laser beams at a second point away from the focusing screen 29.

Die erfindungsgemäße Justiereinrichtung mit der Platte 7 mit Beugungsfigur gemäß F i g. 1 bis 3 kann nun an verschiedenen Stellen der Anordnung gemäß F i g. 4 zur Justierung der optischen Komponenten bzw. des ten, durch die Achse verlaufenden Ebenen verkippbar einer der Beobachtung zugänglichen Stelle angeordnet sein sollte. Vorzugsweise ist der Schirm bei 35, 35' unmittelbar vor dem Hilfslaser 24 oder dem Leistungslaser 21 angeordnet. Die von der Platte T am Objektivhalter erzeugte Beugungsfigur kann auch im Okular 61 beobachtet werden, falls der Teilerspiegel 51 für die Wellenlänge des Hilfslaserstrahls teildurchlässig ist.The adjusting device according to the invention with the plate 7 with the diffraction figure according to FIG. 1 to 3 can now at different points in the arrangement according to FIG. 4 for adjusting the optical components or the th, planes running through the axis should be arranged tiltable at a point accessible for observation. The screen is preferably arranged at 35, 35 ′ directly in front of the auxiliary laser 24 or the power laser 21. The diffraction figure generated by the plate T on the lens holder can also be observed in the eyepiece 61 if the splitter mirror 51 is partially transparent to the wavelength of the auxiliary laser beam.

Dz, Erscheinen der vollständigen Beugungsfigur auf dem Schirm 35, 35' zeigt, wie bereits erwähnt, das mittige Auftreffen des Laserstrahls auf der jeweiligen Strichmusterplatie '/', 7", T" an. Liegt die Beugungsfigur auf dem Schirm 35, 35' exzentrisch zur Mittelachse, so bedeutet dies, daß der L?serstrahl nicht senkrecht auf die Platte auftrifft. Durch Nachjustieren am Strahlausrichter 33 in x, y, φ und ω kann außer dem mittigen auch das senkrechte Auftreffen einjustiert werden, so daß der Laserstrahl dann kollinear zur optischen Achse des Mikroskopobjektivs 52 verläuft.Dz, appearance of the complete diffraction figure on the screen 35, 35 'indicates, as already mentioned, the central impingement of the laser beam on the respective line pattern plate' / ', 7 ", T" . If the diffraction figure on the screen 35, 35 'is eccentric to the central axis, this means that the laser beam does not strike the plate perpendicularly. By readjusting the beam aligner 33 in x, y, φ and ω, the vertical impingement can also be adjusted in addition to the central impingement, so that the laser beam then runs collinear to the optical axis of the microscope objective 52.

Hierzu 2 Blatt ZeichnungenFor this purpose 2 sheets of drawings

Claims

Patent claims:

1. Device for parallel and centric adjustment of a device that can be manipulated by means of a beam deflector Laser beam on the optical axis of a microscope lens, in which a mirror with a a figure having a center point of the lines diffracting the laser light is provided, the is exchangeable against the microscope lens in such a way that it is perpendicular and its figure is centered to the Objective axis lies, according to patent 25 59 925, thereby characterized in that the mirror (7) is designed as a translucent plate on which the side facing the laser beam only forms the lines of the line pattern (12), which Remaining areas of the plate exposed reflective coating is applied

2. Device according to claim 1, characterized in that the forming the line pattern reflecting cover by vapor deposition underneath Application of the photo-etching process is established.

3. Device according to claim 1 or 2, characterized in that the figure is a line cross.

4. Device according to one of claims 1 to 3, y, characterized in that the side of the plate facing away from the laser beam is matted.

5. Device according to one of claims 1 to 4, characterized in that the reflective Covering is selective only for a narrow wavelength band in the visible range is reflective.

6. Device according to one of claims 1 to 4, characterized in that d, "the plate is exactly centered in an ^{optical component to be adjusted on d;} e, in particular attached to the lens holder of a microscope, screw-on or attachable holder.

7. Device according to claim 6, characterized in that the plate on the holder in its Rotatable on the level and in any turntable development can be determined.