JP2008185338A - 微小試料台、その作成方法、微小試料台集合体、および試料ホルダ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】微小試料台10は、全てシリコン製であり、基部11、固定部12及びガード部13を有する。微小試料片Sは、固定部12の頂部に立てて固定される。微小試料台10は、基部11の上面11Aに2本の固定部12と3本のガード部13が交互に突設された一体化構造である。ガード部13の厚さは固定部12よりも厚く、ガード部13の高さ(Z方向の長さ)は固定部12よりも高く作製する。
【選択図】図2
Description
(2)請求項2の発明は、請求項1に記載の微小試料台において、ガード部は固定部よりも高い強度を有するように形成されることを特徴とする。
(3)請求項3の発明は、請求項1または2に記載の微小試料台において、ガード部は固定部よりも高く形成されることを特徴とする。
(4)請求項4の発明は、請求項1乃至3のいずれか1項に記載の微小試料台において、固定部が複数個並設されることを特徴とする。
(5)請求項5の発明は、請求項1乃至4の何れか1項に記載の微小試料台において、基部と固定部の積層方向をシリコンウエハの厚さ方向とし、そのシリコンウエハからマイクロマシニング技術により一体で作製されることを特徴とする。
(6)請求項6の発明は、請求項1乃至5の何れか1項に記載の微小試料台において、加工処理は荷電粒子ビームによる薄片化処理であることを特徴とする。
(7)請求項7の発明による微小試料台の作成方法は、請求項5に記載の微小試料台の製造方法において、シリコンウエハの表面から、エッチングおよびダイシングのいずれかにより溝を形成して基部、固定部、およびガード部を形成することを特徴とする。
(8)請求項8の発明による微小試料台集合体は、ウエハ上で請求項6に記載の微小試料台を複数同時に作製し、それら複数の微小試料台は、それらの底面でウエハと一体化されていることを特徴とする。
(9)請求項9の発明による試料ホルダは、荷電粒子ビームで薄片化処理される微小試料を固定する微小試料台と、荷電粒子ビームが照射されないように微小試料台を固定した台座とを備えることを特徴とする。
(10)請求項10の発明は、請求項9に記載の試料ホルダにおいて、台座は薄板の形状を呈し、薄板の端面に微小試料台を固定する固定面を設け、微小試料台の底面を固定面に固定し、微小試料の立設方向が薄板の面方向と一致していることを特徴とする。
(11)請求項11の発明は、請求項10に記載の試料ホルダにおいて、微小試料台は、基部と、基部に立設され、微小試料を立設して固定する固定部とを有し、基部は固定部よりも厚く形成され、薄板の厚みは基部の厚みよりも薄く形成されていることを特徴とする。
本発明の微小試料台によれば、ガード部を設けたので、微小試料の破損を防止することができる。
本発明の微小試料台の作成方法によれば、大量の微小試料台を一括して作成することができる。
本発明の微小試料台集合体によれば、一括して作成した大量の微小試料台を個片化した後の取扱いが容易となる。
図1は、本発明の実施の形態による試料ホルダを模式的に示す図であり、図1(a)は正面図、図1(b)はI−I線断面図、図1(c)は図1(b)の部分拡大図である。図2(a)は、実施の形態による微小試料台の構造を模式的に示す斜視図である。図2(b)、(c)は従来例と実施の形態による作用効果を説明する図である。図1、図2(a)では、XYZ直交座標で方向を表す。
本実施の形態の微小試料台10は、単結晶シリコンウエハを材料としてマイクロマシニングにより多数が作製され、微小試料台10の上下方向(Z方向)が単結晶シリコンウエハの厚さ方向となるように形成される。
工程Cでは、SiO2膜103の表面にスピンコータによりレジスト104を塗布し、ホットプレートを用いてプリベークを行う。
工程Fでは、リムーバによりマスクとして使用されたレジスト104を除去する。
工程Hでは、Al膜105の表面にスピンコータによりレジスト106を塗布し、ホットプレートを用いてプリベークを行う。
工程Lでは、パターンが形成された表面にスピンコータによりレジスト107を塗布し、ホットプレートを用いてプリベークを行う。
11:基部 12:固定部
13:ガード部 100:台座メッシュ
100A:切り欠き端面(固定面) 101:シリコンウエハ
102:ベース基板 103:SiO2膜
105:Al膜 S:微小試料片
Claims (11)
- 加工処理が施される微小試料を固定するための微小試料台であって、
基部と、
前記基部に立設され、前記微小試料が固定される固定部と、
前記固定部を挟んで前記基部に設けられるガード部とを設けることを特徴とする微小試料台。 - 請求項1に記載の微小試料台において、
前記ガード部は前記固定部よりも高い強度を有するように形成されることを特徴とする微小試料台。 - 請求項1または2に記載の微小試料台において、
前記ガード部は前記固定部よりも高く形成されることを特徴とする微小試料台。 - 請求項1乃至3のいずれか1項に記載の微小試料台において、
前記固定部が複数個並設されることを特徴とする微小試料台。 - 請求項1乃至4の何れか1項に記載の微小試料台において、
前記基部と固定部の積層方向をシリコンウエハの厚さ方向とし、そのシリコンウエハからマイクロマシニング技術により一体で作製されることを特徴とする微小試料台。 - 請求項1乃至5の何れか1項に記載の微小試料台において、
前記加工処理は荷電粒子ビームによる薄片化処理であることを特徴とする微小試料台。 - 請求項5に記載の微小試料台の製造方法において、
前記シリコンウエハの表面から、エッチングおよびダイシングのいずれかにより溝を形成して前記基部、固定部、およびガード部を形成することを特徴とする微小試料台の製造方法。 - ウエハ上で請求項6に記載の微小試料台を複数同時に作製し、それら複数の微小試料台は、それらの底面で前記ウエハと一体化されていることを特徴とする微小試料台集合体。
- 荷電粒子ビームで薄片化処理される微小試料を固定する微小試料台と、
前記荷電粒子ビームが照射されないように前記微小試料台を固定した台座とを備えることを特徴とする試料ホルダ。 - 請求項9に記載の試料ホルダにおいて、
前記台座は薄板の形状を呈し、前記薄板の端面に前記微小試料台を固定する固定面を設け、
前記微小試料台の底面を前記固定面に固定し、前記微小試料の立設方向が前記薄板の面方向と一致していることを特徴とする試料ホルダ。 - 請求項10に記載の試料ホルダにおいて、
前記微小試料台は、基部と、前記基部に立設され、前記微小試料を立設して固定する固定部とを有し、前記基部は前記固定部よりも厚く形成され、
前記薄板の厚みは前記基部の厚みよりも薄く形成されていることを特徴とする試料ホルダ。
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