JP2008180722A - 光要素をマッピングするための装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光ビームを光要素に向けて伝送するように配置された光源6と、光ビームを対応する複数の光ビーム部分へ分離するように働く複数のビーム分離要素を含むビーム分離器2と、前記複数のビーム分離要素と対応する複数の光スポットを含む光スポット・マップを生成するように働く光検知装置10と、前記光スポット・マップから光要素の少なくとも1つの特性を取得するように働く・前記スポットの場所以外の情報に少なくとも部分的に基いて個々のスポットと対応するビーム分離要素を識別する装置を含む光要素特性計算装置12とを備える装置。
【選択図】図13
Description
眼の焦点漸進レンズ(progressive lens)を測定するための方法が、C.Castellini、F.FranciniおよびB.Tiribilli著「眼の焦点漸進レンズを測定するためのハートマン試験の修正(Hartmann test modification for measur ing ophthalmic progressive lenses)」(Applied Optics、1994年7月1日、第33巻、第19部、4120〜4124ページ)に記載されている。
本発明は、光要素、特に眼の諸要素の光学的パラメータの全表面にわたる透過および反射の両方の非接触試験のためのシステム、ならびにモールド(molds)、ミラーなどの試験方法に関する。
簡単にするために、本文において用いられる用語「光要素」とは、レンズの如き要素のみならず、このようなレンズの生産に用いられるモールドならびにミラーの如き他の要素をも包含するものとする。このような要素は、球面および非球面、2重焦点、多焦点および焦点漸進型(progressive)のレンズ、ならびにこれらのレンズ、更にはハードおよびソフト型コンタクト・レンズの一部を生産するためのモールドをも含む。
今日用いられる計器の大半は、試験されるべき構成要素の非常に小さな面積(直径で3ないし4mm)におかれる度(power)に関する情報を提供する。
更に、これらの計器は、施術者の決定を必要とする客観的な結果を提供するものではない。また、上記の非常に限定される測定面積のゆえに、これらは焦点漸進レンズ、即ち連続的に変化する度を持つレンズを取扱うことができない。
本発明の別の目的は、透過によるかあるいは反射により測定を可能にすることにある。
更にまた、本発明の望ましい実施例によれば、光源は少なくとも1つのコンデンサ・レンズが設けられる。
また本発明の別の望ましい実施例によれば、光要素の光学的パラメータの非接触試験のための方法も提供され、その構成は、予め定め得る配列の波面を持つビームを生じるための光源を提供し、試験される光要素を光源と既知の配列の微小レンズ列との間に少なくとも光学的に介挿し、前記レンズ群を介してスクリーン上に光の複数のイメージを受取り、前記スクリーンから離れた複数のイメージを記録し、記録される如き複数のイメージの配列を分析して、複数のイメージの配列を基準パターンと比較するステップを含む。
また、本発明の別の望ましい実施例によれば、光要素をマッピングするための装置も提供され、その装置は、光要素に向かって光ビームを伝送するよう配置された光源と、光ビームを対応する複数の光ビーム部分へ分けるように働く複数のビーム分離要素を含むビーム・スプリッタと、複数のビーム分離要素と対応する複数の光スポットを含む光スポット・マップと、前記光スポット・マップから光要素の少なくとも1つの特性を得るよう働く光要素特性計算装置(optical element characterictic computation
device)とを含み、かつスポットの場所以外の情報に少なくとも部分的に基く個々のスポットと対応するビーム分離要素を識別するための装置を含む。
む。
更に本発明の望ましい実施例によれば、デフレクタは微小レンズ列を含む。
更にまた本発明の望ましい実施例によれば、光検知装置はCCDカメラを含む。
更に本発明の望ましい実施例によれば、光検知装置はIRカメラを含む。
更にまた本発明の望ましい実施例によれば、光源は点光源を含む。
更に本発明の望ましい実施例によれば、光源は非コヒーレント光源を含む。
更に本発明の望ましい実施例によれば、光源は、光要素に向かって集束光を伝送するよう働く集束光源を含む。
更に本発明の望ましい実施例によれば、計算装置は光要素の少なくとも1つの局所特性を得るように働く。
更にまた本発明の望ましい実施例によれば、眼の要素は眼のレンズを含む。 更に本発明の望ましい実施例によれば、眼の要素は眼のモールド(ophth
almic mold)を含む。 更に本発明の望ましい実施例によれば、眼のレンズはコンタクト・レンズを含
む。
また、本発明の別の望ましい実施例によれば、眼のレンズに向かって光を伝送するよう配置された光源と、対応する複数の光ビーム部分へ光ビームを分けるよう働く複数のビーム分離要素を含むビーム分離器と、複数のビーム分離要素と対応する複数の光スポットを含むディジタル光スポット・マップを生成するよう働く光検知装置と、光スポット・マップに基く眼のレンズの眼の特性のマップを生成するよう働く眼の特性マップ生成装置とを含む眼のレンズをマッピングするための装置も提供される。
更にまた本発明の望ましい実施例によれば、眼の特性マップは軸マップを含む。
更に本発明の望ましい実施例によれば、眼の特性マップは傾斜マップ(tilt map)を含む。
また、本発明の別の望ましい実施例によれば、IR光要素を照射し、対応する複数の光ビーム部分に到達する光ビームを分けるよう働く複数のビーム分離要素を提供し、複数のビーム分離要素と対応する複数の光スポットを含むディジタル光スポット・マップを生成し、少なくとも1つのIR光要素の特性を取得することを含むIR光要素マッピングのための方法も提供される。
また、本発明の光要素マッピング装置の別の望ましい実施例によれば、この装置は、光ビームを光要素に向けて伝送するよう配置された光源と、光源から到達する光ビームを光要素に対して衝突する前に対応する複数の光ビーム部分へ分けるよう働く複数のビーム分離要素を含むビーム分離器と、複数のビーム分離要素と対応する複数の光スポットを含むディジタル光スポット・マップを生成するよう働く光検知装置と、光スポット・マップから光要素の少なくとも1つの特性を取得するよう働く光要素特性計算装置とを含む。
更にまた本発明の望ましい実施例によれば、少なくとも1つの眼の要素の特性は、光要素の1つの面のみの少なくとも1つの眼の特性を含む。
更に、本発明望ましい実施例によれば、収差多項式は光要素の1つの面のみを特徴付ける。
次に図面を参照して、図1に直径dのレンズを持つ微小レンズ列2が示される。図示のように、レンズ列2は、平坦波面により密着されて、集合焦点面(collective focal plane)f1、f2、、、fnで焦点し、この場合の焦点fのピッチpはp=dである。スクリーンが焦点面に取付けられるならば、波面を生じる光源(図示せず)の複数のイメージは両方向におけるピッチをpとして図2におけるように現れる。
反対に、図5におけるように負のレンズL−GA光源とレンズ列2間に介挿されると、イメージは図6におけるように現れ、p>dである。
図7ないし図12は、本発明によるシステムにおける種々の特殊レンズと、これらレンズにより生成される特定の多数のイメージとを示す。
図9は、上部における焦点距離f1と下部における焦点距離f2とを持つ2焦点レンズLBFを示す。レンズ列2により生成されるイメージ・パターンは、図10に示される。レンズの上部におけるイメージ点の密度が下部におけるそれより低いことが判る。
図13において、HeNeレーザ(0.6ミクロン)を使用できるが、白色で
あることが望ましくかつコヒーレントである必要はない光源6が示される。平坦波面を有するビームを生じるコリメータ・レンズ8が提供される。更に示されるのは、微小レンズ列2である。システムの実験バージョンで用いられるレンズ列は、下記の仕様を有し、これは例示としてのみ見なされるべきである。
図14には、光源6と、コンデンサ・レンズ14と、ビーム・スプリッタ16と、微小レンズ列2とそのスクリーン4と、CCDカメラ10と、コンピュータ12とが示される。光源6からのビームは、ビーム・スプリッタ16に、更にレンズ列2に当たって、既に述べたイメージ・パターンを生じることが判る。このパターンは、CCDカメラ10によって記録され、コンピュータ12において分析される。
図15において、ピンホール孔18を有する大きな強さの光源6が示される。焦点漸進レンズLprogはピンホールから距離rに取付けられ、ここでrは球状背面SSPHの曲率半径であり、従って屈折されずに背面SSPHを通過する。ピンホール18に対してある量のエネルギが反射されるが、光の主部は連続的な前面SCONTで屈折される。
1)ピクセル精度における全イメージ点の場所の評価
2)ガウス点のモデル化、これによりエネルギ中心を見出すことによる、サブ・ピクセル精度(1/10〜1/30ピクセル)における全ての点の図心(centroid)の決定
3)基準イメージとの比較による図心のずれの決定4)上記ずれをレンズの局所マップへの変換
より一層の分析、即ち共通収差の分析のため、Zernikeの多項式を用い、これにより多項式の各項の係数がある次数で得た多項式の次数における異なる光学的収差を決定することが可能であり、所与の収差の全てのレンズの欠陥に対する寄与を示す。
次に、図17Aおよび図17Bを参照して、図17Aは、光要素をマッピングするための装置の簡単な部分ブロック図であり、この装置は本発明の代替的な望ましい実施例に従って構成され動作するが、図17Bは図17Aの装置の簡単なブロック図である。図17Aの構成は、平行ビームを用いる光透過形態を含む。
例えば、典型的には等間隔におかれ、各々1.0mm径で焦点距離が50mmである、イスラエル国Jerusalem、Vaad Haleumi、21のVisionix社から商業的に入手可能な100×100の微小レンズ列の如き微小レンズ列、
例えば、イスラエル国Jerusalem、Vaad Haleumi、21のVisionix社から商業的に入手可能な40×40の穴列を含み、典型的には等間隔におかれ、それぞれ300ミクロン径の穴間距離が2.5mmの穴板の如き穴板、またはLCD(液晶装置)である。
いずれにしても、例えば、微小レンズの1つあるいは穴の1つとして、ビーム・スプリッタ92の複数の微小要素の1つは、光を透過しない材料と置換され、その結果置換された微小レンズあるいは穴により光ビームが生成されないようにする。望ましくは、置換される微小レンズあるいは穴は、微小レンズ列または穴の略々中心に置かれ、以下本文においては、「逸失要素(missing el ement)」と呼ばれる。
BurleモデルTC65 CCDカメラの如きCCDカメラ(イスラエル国Bnei Berak 51364、Hosheha St.11のMaagal Sagour社から商業的に入手可能)、
IRカメラ、IR光源が使用される時は望ましい、
写真フィルム、あるいは
UTDモデルPDH.4の如きPSD(位置センサ検出器)(米国カルフォルニ
ァ州90250、Hawthorne、Chadron Ave.12525
のUDT sensors社から入手可能)。
図17Aおよび図17Bの装置はまた、例えば、66MHzの80486プロセッサ、およびイスラエル国Jerusalem、Phasecom Bldg .Har HotsvimのCEFAR社から商業的に入手可能なアナログ/ディジタル成端を持つフレーム・グラバ・カード(fram grabber c ard)の如きイメージ処理カードを備えた適当にプログラムされるIBM互換パーソナル・コンピュータでよい光要素計算装置96を含む。
ステップ100すなわちパラメータ。ユーザは、図18Aの方法を支配する制御パラメータを任意に入力する。パラメータは、例えば、下記のものを含む。即ち、
光要素87のイメージを何回取得すべきかを示す照会番号、
光要素パラメータは、典型的には下記を含む、
直径、および
屈折率、および光要素87が液体中に浸漬される場合は、液体の屈折率、
典型的に、下記の装置の構造的パラメータを含む、
ビーム・スプリッタ92の軸に沿う微小レンズまたは穴の如き微小要素の最大数、
ビーム・スプリッタ92の軸に沿う微小レンズまたは穴の如き微小要素間の距離、
典型的には光検知装置94において見出される、ビーム・スプリッタ92とスクリーン88間の距離、および
光要素87とビーム・スプリッタ92間の距離、 図19に関して以下に詳細に述べる、両軸に沿うウインドウ・サイズおよび腐食閾値を含む腐食パラメータ、
典型的には下記を含む出力パラメータ、
球面、円柱、乱視、斜視、曲率半径、あるいは軸の如きマップの種類、
測定のステップ、
出力のスケーリング。
次に、図18Aのステップ105において生成される校正スポットを示す簡略模式図である図18Bを参照する。図18Bは、複数の校正スポット97を含む。例示目的のため、比較的少数の校正スポット97が図18Bに示される。一般に、試験スポット数は、ビーム・スプリッタ92における微小要素の数と等しい。例えば、ビーム・スプリッタ92が100×100の微小レンズ(microlens)を含む場合には、略々10,000個の校正スポット97がある。
ステップ110すなわち測定。試験光要素は、図17Aに示されたように挿入される。次に、図18Aのステップ110において生成される試験スポットを示す簡略化模式図である図18Cを参照する。図18Cは、複数の試験スポット98を含む。試験スポット98が図18Bの対応する校正スポット97とは異なる位置にあることが判る。この位置は、光ビームが異なる場所に衝突することにより試験スポット98を校正スポット97とは異なる位置にさせるように、光経路に挿入される光要素87が光ビームを屈折したかあるいは反射したゆえに異なる。
ステップ112すなわちイメージの処理すなわち試験スポット98の位置が取得されて、どの校正スポット97が試験スポット98の各々と関連させられるかを判定し、これによりビーム・スプリッタ92のどの微小要素が校正スポット97および試験スポット98の各々と関連させられるかを判定するため処理される。ステップ112は、図19に関して以下に更に詳細に述べる。
i,j:校正スポット97および試験スポット98の識別数、
x,y:校正スポット97の直交座標位置、
x′,y′:試験スポット98の直交座標位置、
X,Y:2つのスポット間の直交座標距離、
D:ビーム・スプリッタ92とスクリーン間の距離
以下に見出される式1および2は、XおよびYの計算を規定する。
以下に見出される式4aおよび4bは、スポット97と98の所与の関連対の変位と、関連するスポット97と98の別の対の変位との計算を規定し、これにより密度の測定を規定する。
以下に見出される式5ないし8は、以降の式において用いられる値を規定し、ここで下つきの「12」および「13」がそれぞれの変位の「i,jの値」を規定する。
以下に見出される式9bは、光要素の局所的な最小度(local minimum power)を規定する。
以下に見出される式9cは、光要素の局所的な円筒状面を規定する。
以下に見出される式10aないし10dは、式11において用いられる値を規定する。
以下に見出される式11は、光要素の局所軸を規定する。
式1ないし11に関して説明する上記計算は、レンズの度の局所値(numerical topography)の計算を含む。あるいはまた、当技術において周知であり光学研究者たちにより選好されるZernike多項式の如き収差多項式を用いることができる。あるいはまた、別の適切な収差多項式を用いることもできる。
第1の位置におけるスクリーン88上の試験スポット98の各々に対して、第2の位置におけるスクリーン88上の対応試験スポットが、対応する校正位置と関連付けることにより、ステップ112で先に述べた図18に関して以下に述べるように識別される。対応する2つの試験スポット98が、光要素87とその内面で交差する直線を規定し、ここでこの内面はスクリーン88に最も近い面として規定される。
以下に見出される式15aないし16bは、式17ないし18bにおいて用いられる値を規定する。
以下に見出される式17は、最小および最大の局所的度、k1 およびk2 をそれぞれ規定する。
以下に見出される式18bは、円柱度を規定する。
軸、傾斜およびコマ収差の如き他のレンズ特性もまた適切な式を用いて計算で
きることが判る。
ステップ120すなわち入入手(Acquisition)。イメージにおける各ピクセルのグレー・レベルが、光検知装置94により捕捉され、光要素計算装置96によってメモリに記憶される。望ましくは、グレー・レベル値の2次元アレイが記憶される。各ピクセルのサイズが、測定の精度を決定する。512×512ピクセルのアレイが望ましい。望ましくは、256グレー・レベルが用いられるが、他の数のレベルも使用できる。
ステップ140すなわち格子の計算。
失われた微小要素の場所が最初に決定される。計算のために、略々矩形状に配列された4つの校正スポット97または4つの試験スポット98の任意のグループが略々等間隔で隔てられることが仮定される。略々等しい距離より充分に大きな距離、例えば25%離れた2つの隣接する校正スポット97あるいは試験スポット98が存在する場所を見出すため、校正スポット97および試験スポット98が調べられる。図20Aおよび図20Bに置ける事例に示される如く、失われたスポットが著しく大きな距離にあるスポット間に置かれる。望ましくは、この失われたスポットは、4つの最も近いスポット97または98の場所間の線形補間によって位置決めされる。
失われた微小要素の場所で始めて、校正スポット97の失われたスポットの場所を試験スポット98の失われたスポットの場所と関連付け、
試験スポット98の最大輝度の各場所ごとに、試験スポット98の最大輝度の
最も近い8つの場所が識別され、
同様に、校正スポット97の最大輝度の各場所ごとに、校正スポット97の最大輝度の最も近い場所が識別され、
前の2つのステップにおいて見出された8つの校正スポット97と幾何学的に対応する8つの試験スポット98とが関連するスポットとして識別され、8つの試験スポット98の各々が関連する校正スポット97のラベルと対応するラベルに割当てられ、そして
図20Aおよび図20Bに示される如く校正および試験スポットの水平および垂直方向にその時の場所と8つの最も近い場所を結ぶ線を表わす表示が、計算装置96のメモリに記憶される。
既に識別された場所を除いて、次に近い場所が識別できるように、最も近い場所の1つが新たなその時の場所となる。最終的に全ての場所が網羅(traverse)されるように、新たなその時の場所を選択する際に場所を網羅するように適切な方法を用いることができる。望ましくは、探索時間を最適化する方法が用いられる。望ましい方法の一例は、下記のとおりである。
水平および垂直方向に試験スポット98の4つの最も近い近隣を識別し、
4つの最も近い近隣の1つを次のスポットとして選択して、この新たに選択されたスポットを処理し、
識別ステップおよび選択ステップを繰返する。
上記方法が試験スポット98の各々を対応する校正スポット97と関連付け、試験スポット98の全てを結ぶ格子を規定することが判るであろう。また、ビーム・スプリッタ92における失われた微小要素の場所が校正スポット97および試験スポット98の失われたスポットと対応するので、上記方法もまた、試験スポット98の各々と校正スポット97の各々とを前記スポットを生成するビーム・スプリッタ92における対応する微小要素と関連付ける。
ステップ150すなわち中心の計算。試験スポット98の各々に対する輝度の中心はサブピクセル精度で計算される。最大輝度が中心から外れて位置されると、輝度の中心は、典型的に量子化、ノイズまたは光検知装置94内部の他の効果により、ステップ130において先に計算された最大値と同じ場所にない。
図21は、球状光ビームを用いる光透過形態を示す。球状ビームは、集束あるいは発散のいずれでもよい。球状ビームの曲率半径は、光要素87の2つの面の1つの曲率半径と略々同じことが望ましい。これは、前記曲率半径を持つビームが対応する曲率半径を持つ光要素87の面を通過することによっては略々影響を受けない。このように、かかる曲率半径を持つビームは、光要素87の1つの面、即ち異なる曲率半径を持つ面のみを測定するためには望ましい。
図23は、図22の形態と類似する形態を示すが、球状ビームを用いる光透過形態を示す。
図25は、球状ビームを用いる光反射形態を示す。
図26は、平行ビームを用いる光反射形態を示す。図26の形態は、2つのスクリーン88を含んでいる。
図28は、小さな光ビームがレンズを移動する光反射形態を示す。図28の形態は、光源90と光要素87との間に配置された1つのビーム・スプリッタ160を含む。ビーム・スプリッタ160は、光ビームを分けるように働き、光要素87から反射された光ビームの一部をカメラ89に向けて指向させる。このことは、光要素87に関して出入りする光経路がこのように光要素87の光軸に近く保持され、その結果光が共通の光経路に従うので好ましい。
図17Aおよび図17Bの装置によって生成される如き焦点漸進レンズの円筒状マップの簡略模式図である図29を参照する。図29の円筒状マップは、眼の技術において周知のように、円筒状の度の等高線165を含む。図17Aおよび図17B、および図21ないし図28の装置が光要素87において行われる測定を示す広範囲の異なる出力を生じ得ることが理解される。図29は、単なる事例として示される。
本発明のソフトウエア要素が、必要に応じて、ROM(読出し専用メモリー)の形態で実現されることが理解される。ソフトウエア要素は、一般に、従来の技術を用いて必要に応じてハードウエアで実現される。
Claims (43)
- 光要素をマッピングする装置において、光ビームを光要素に向けて伝送するように配置された光源と、
前記光ビームを対応する複数の光ビーム部分へ分離するよう働く複数のビーム分離要素を含むビーム分離器と、
前記複数のビーム分離要素と対応する複数の光スポットを含む光スポット・マップを生成するよう働く光検知装置と、
前記光スポット・マップから前記光要素の少なくとも1つの特性を取得するよう働き、前記スポットの場所以外の情報に少なくとも部分的に基いて個々のスポットと対応するビーム分離要素を識別する装置を含む光要素特性計算装置と
を備える装置。 - 前記光スポット・マップが、ディジタル光スポット・マップを含む請求項1記載の装置。
- 前記光スポット・マップがアナログ光スポット・マップを含む請求項1記載の装置。
- 反射器がLCD(液晶装置)を含む請求項1ないし3のいずれか一つに記載の装置。
- 前記反射器が微小レンズ列を含む請求項1ないし4のいずれか一つに記載の装置。
- 前記反射器が穴板を含む請求項1ないし4のいずれか一つに記載の装置。
- 前記光検知装置がCCDカメラを含む請求項1ないし6のいずれか一つに記載の装置。
- 前記光検知装置がIRカメラを含む請求項1ないし6のいずれか一つに記載の装置。
- 前記光検知装置が写真フィルムを含む請求項1ないし6のいずれか一つに記載の装置。
- 前記光検知装置がPSD(位置センサ検出器)を含む請求項1ないし6のいずれか一つに記載の装置。
- 前記光源が点光源を含む請求項1ないし10のいずれか一つに記載の装置。
- 前記光源がコヒーレント光源を含む請求項1ないし11のいずれか一つに記載の装置。
- 前記コヒーレント光源がレーザ光源を含む請求項12記載の装置。
- 前記光源が非コヒーレント光源を含む請求項1ないし13のいずれか一つに記載の装置。
- 前記非コヒーレント光源が、
タングステン光源と、
ハロゲン光源
の1つを含む請求項14記載の装置。 - 前記識別装置がまた、前記スポットの場所に関する情報を用いて個々のスポットと対応するビーム分離要素を識別する請求項1ないし15のいずれか一つに記載の装置。
- 前記光源が、平行光を光要素に向けて伝送するよう働く平行光源を含む請求項1ないし16のいずれか一つに記載の装置。
- 前記光源が、収束光を前記光要素に向けて伝送するよう働く収束光源を含む請求項1ないし17のいずれか一つに記載の装置。
- 前記光源が、発散光を前記光要素に向けて伝送するよう働く発散光源を含む請求項1ないし18のいずれか一つに記載の装置。
- 前記計算装置が、前記光要素の少なくとも1つの特性を取得するよう働く請求項1ないし19のいずれか一つに記載の装置。
- 眼の要素をマッピングする方法において、
眼の要素を照射するステップと、
光ビームを対応する複数の光ビーム部分へ分離するよう働く複数のビーム分離要素を設けるステップと、
前記複数のビーム分離要素と対応する複数の光スポットを含むディジタル光スポット・マップを生成するステップと、
少なくとも1つの眼の要素の特性を引き出すステップと
を含む眼の要素をマッピングする方法。 - 前記引き出すステップが、少なくとも1つの局部的眼の要素の特性を引き出すことを含む請求項21記載の方法。
- 前記眼の要素が眼のレンズそ含む請求項21または22のいずれかに記載の方法。
- 前記眼の要素が眼のモールドを含む請求項21または22のいずれかに記載の方法。
- 前記眼のレンズがコンタクト・レンズを含む請求項23記載の方法。
- 前記コンタクト・レンズがハード・コンタクト・レンズを含む請求項25記載の方法。
- 前記コンタクト・レンズがソフト・コンタクト・レンズを含む請求項25記載の方法。
- 前記ソフト・コンタクト・レンズが溶液中に浸漬される請求項27記載の方法。
- 前記眼のレンズが眼内のレンズを含む請求項23記載の方法。
- 眼のレンズをマッピングする装置における、
光を眼のレンズに向けて伝送するよう配置された光源と、
光ビームを対応する複数の光ビーム部分へ分離するよう働く複数のビーム分離要素を含むビーム分離器と、
前記複数のビーム分離要素と対応する複数の光スポットを含むディジタル光スポット・マップを生成するよう働く光検知装置と、
前記光スポット・マップに基いて眼のレンズの眼の特性のマップを生成するよう働く眼の特性マップ生成装置とを備える眼のレンズをマッピングする装置。 - 前記眼の特性マップが乱視マップを含む請求項30記載の装置。
- 前記眼の特性マップが軸マップを含む請求項30記載の装置。
- 前記眼の特性マップが傾斜マップを含む請求項30記載の装置。
- 前記眼の特性マップが曲率半径マップを含む請求項30記載の装置。
- IR光要素をマッピングする方法において、
IR光要素を照射するステップと、
到達する光ビームを対応する複数の光ビーム部分へ分離するよう働く複数のビーム分離要素を設けるステップと、
前記複数のビーム分離要素と対応する複数の光スポットを含むディジタル光スポット・マップを生成するステップと、
少なくとも1つのIR光要素の特性を取得するステップと
を含むIR光要素をマッピングする方法。 - 光要素をマッピングする装置において、
光を光要素に向けて伝送するように配置された光源と、
光ビームを対応する複数の光ビーム部分へ分離するよう働く複数のビーム分離要素を含むビーム分離器と、
前記複数のビーム分離要素と対応する複数の光スポットを含むディジタル光スポット・マップを生成するよう働く光検知装置と、
前記光スポット・マップから光要素を特徴付ける収差多項式を取得するよう働く収差多項式計算装置と
を備える光要素をマッピングする装置。 - 前記光源と、前記光要素から光検知装置へ向けて戻る光ビームを分離するよう働く光要素との間に配置されたビーム・スプリッタをも含む請求項1記載の装置。
- 前記光検知装置が前記光要素の片面上にあり、前記光源が該光要素の他の面上にある請求項1記載の装置。
- 光要素をマッピングする装置において、
光ビームを前記光要素へ向けて伝送するよう配置された光源と、
前記光要素に対する光ビームの衝突前に、前記光源から到達する光ビームを対応する複数の光ビーム部分へ分離するよう働く複数のビーム分離要素を含むビーム・スプリッタと、
前記複数のビーム分離要素と対応する複数の光スポットを含むディジタル光スポット・マップを生成するよう働く光検知装置と、
前光スポット・マップから前記光要素の少なくとも1つの特性を取得するよう働く光要素特性計算装置と
を備える光要素マッピング装置。 - 前記光要素の少なくとも1つの特性が、該光要素の1つの面のみの少なくとも1つの特性を含む請求項1ないし20、または39のいずれか一つに記載の装置。
- 前記少なくとも1つの眼の要素特性が、前記光要素の1つの面のみの少なくとも1つの眼の特性を含む請求項21ないし29のいずれか一つに記載の方法。
- 前記少なくとも1つのIR光要素特性が、前記IR光要素の1つの面のみの少なくとも1つのIR光要素特性を含む請求項35記載の方法。
- 前記収差多項式が前記光要素の1つの面のみを特徴付ける請求項36記載の装置。
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---|---|---|---|
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---|---|---|---|
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---|---|---|---|
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---|---|
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ES (1) | ES2182907T3 (ja) |
WO (1) | WO1995034800A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2022064881A (ja) * | 2020-10-14 | 2022-04-26 | イーメージ ヴィジョン ピーティーイー. エルティーディー. | コンタクトレンズの欠陥分析及び追跡システム |
Families Citing this family (87)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5980513A (en) | 1994-04-25 | 1999-11-09 | Autonomous Technologies Corp. | Laser beam delivery and eye tracking system |
DE69726506T2 (de) * | 1996-01-10 | 2004-11-04 | Kabushiki Kaisha Topcon | Anordnungsbeurteilungsvorrichtung und system |
JP3685886B2 (ja) * | 1996-09-30 | 2005-08-24 | 株式会社トプコン | レンズメーター |
JP3647991B2 (ja) * | 1996-09-30 | 2005-05-18 | 株式会社トプコン | レンズメーター |
US6271914B1 (en) | 1996-11-25 | 2001-08-07 | Autonomous Technologies Corporation | Objective measurement and correction of optical systems using wavefront analysis |
JP3886191B2 (ja) * | 1996-12-20 | 2007-02-28 | 株式会社トプコン | レンズメーター |
US5855074A (en) * | 1997-12-07 | 1999-01-05 | Visionix Ltd. | Methods and apparatus for measuring and mapping opthalmic elements |
US6819414B1 (en) | 1998-05-19 | 2004-11-16 | Nikon Corporation | Aberration measuring apparatus, aberration measuring method, projection exposure apparatus having the same measuring apparatus, device manufacturing method using the same measuring method, and exposure method |
US6791696B1 (en) | 1998-06-18 | 2004-09-14 | Optikos Corporation | Automated optical measurement apparatus and method |
US6598975B2 (en) * | 1998-08-19 | 2003-07-29 | Alcon, Inc. | Apparatus and method for measuring vision defects of a human eye |
US6222621B1 (en) | 1998-10-12 | 2001-04-24 | Hoyo Corporation | Spectacle lens evaluation method and evaluation device |
US6750958B1 (en) | 1999-06-09 | 2004-06-15 | Optikos Corporation | Automated optical measurement apparatus and method |
IL130465A0 (en) | 1999-06-14 | 2000-06-01 | Prolaser Ltd | Method and apparatus for measuring power of an optical element for its mapping |
US7242464B2 (en) * | 1999-06-24 | 2007-07-10 | Asml Holdings N.V. | Method for characterizing optical systems using holographic reticles |
US7016025B1 (en) * | 1999-06-24 | 2006-03-21 | Asml Holding N.V. | Method and apparatus for characterization of optical systems |
US6396588B1 (en) * | 1999-10-06 | 2002-05-28 | Trw Inc. | Hybrid curvature-tilt wave front sensor |
JP4549468B2 (ja) * | 1999-12-28 | 2010-09-22 | 株式会社トプコン | レンズメータ |
US6381012B1 (en) * | 2000-01-20 | 2002-04-30 | Virgil Thomas Yancy | System, method and article of manufacture to determine and communicate optical lens sizing and prescription information |
US6222495B1 (en) | 2000-02-25 | 2001-04-24 | Channel Master Llc | Multi-beam antenna |
US6234631B1 (en) | 2000-03-09 | 2001-05-22 | Lasersight Technologies, Inc. | Combination advanced corneal topography/wave front aberration measurement |
US6394999B1 (en) | 2000-03-13 | 2002-05-28 | Memphis Eye & Cataract Associates Ambulatory Surgery Center | Laser eye surgery system using wavefront sensor analysis to control digital micromirror device (DMD) mirror patterns |
DE10014334C2 (de) | 2000-03-24 | 2002-03-21 | Zeiss Carl | Vorrichtung und Verfahren zur ortsaufgelösten Brechkraft-Bestimmung |
WO2001078585A2 (en) | 2000-04-19 | 2001-10-25 | Alcon Universal Ltd. | Wavefront sensor for objective measurement of an optical system and associated methods |
US6565209B2 (en) | 2000-04-25 | 2003-05-20 | Alcon Universal Ltd. | Range-extending system and spatial filter for enhancing Hartmann-Shack images and associated methods |
WO2001082228A2 (en) | 2000-04-25 | 2001-11-01 | Alcon Universal Ltd. | Spatial filter for enhancing hartmann-shack images and associated methods |
US6460997B1 (en) | 2000-05-08 | 2002-10-08 | Alcon Universal Ltd. | Apparatus and method for objective measurements of optical systems using wavefront analysis |
FR2813391B1 (fr) * | 2000-08-22 | 2002-11-29 | Essilor Int | Procede et appareil de mesure en transmission de la structure geometrique d'un composant optique |
US6577447B1 (en) | 2000-10-20 | 2003-06-10 | Nikon Corporation | Multi-lens array of a wavefront sensor for reducing optical interference and method thereof |
US6548797B1 (en) | 2000-10-20 | 2003-04-15 | Nikon Corporation | Apparatus and method for measuring a wavefront using a screen with apertures adjacent to a multi-lens array |
DE60204495T2 (de) * | 2001-02-09 | 2006-03-16 | Hoya Corp. | Linsenmesser zur Messung der Eigenschaft eines Brillenglases oder einer Kontaktlinse |
AUPR419301A0 (en) * | 2001-04-03 | 2001-05-03 | Solar Systems Pty Ltd | Solar mirror testing and alignment |
US6806965B2 (en) * | 2001-05-22 | 2004-10-19 | Zygo Corporation | Wavefront and intensity analyzer for collimated beams |
US6561648B2 (en) | 2001-05-23 | 2003-05-13 | David E. Thomas | System and method for reconstruction of aberrated wavefronts |
DE10146499B4 (de) * | 2001-09-21 | 2006-11-09 | Carl Zeiss Smt Ag | Verfahren zur Optimierung der Abbildungseigenschaften von mindestens zwei optischen Elementen sowie Verfahren zur Optimierung der Abbildungseigenschaften von mindestens drei optischen Elementen |
ATE408810T1 (de) | 2002-05-16 | 2008-10-15 | Hoya Corp | Verfahren und einrichtung zum bewerten einer brillenlinse oder form zum formen einer brillenlinse und verfahren und system zur herstellung einer brillenlinse |
WO2003102519A1 (en) * | 2002-05-31 | 2003-12-11 | Wavefront Sciences, Inc. | Methhod and system for sensing and analyzing a wavefront of an optically transmissive system |
US20040021826A1 (en) * | 2002-08-01 | 2004-02-05 | Sarver Edwin J. | Combination advanced corneal topography/wave front aberration measurement |
DE10245473A1 (de) * | 2002-09-28 | 2004-04-08 | Leica Microsystems Semiconductor Gmbh | Strukturbreiten-Messgerät |
JP2004125664A (ja) * | 2002-10-03 | 2004-04-22 | Hamamatsu Photonics Kk | 位相分布計測装置 |
GB2395289A (en) * | 2002-11-11 | 2004-05-19 | Qinetiq Ltd | Structured light generator |
GB2395261A (en) * | 2002-11-11 | 2004-05-19 | Qinetiq Ltd | Ranging apparatus |
GB2395262A (en) * | 2002-11-11 | 2004-05-19 | Qinetiq Ltd | Optical proximity sensor with array of spot lights and a mask |
US20050007601A1 (en) * | 2003-01-27 | 2005-01-13 | Rosakis Ares J. | Optical characterization of surfaces and plates |
CN100343622C (zh) * | 2003-05-29 | 2007-10-17 | 中国科学院光电技术研究所 | 微透镜结构参数及面形畸变的快速检测方法 |
DE10325841A1 (de) * | 2003-06-06 | 2004-12-30 | Acritec Gmbh | Intraokularlinse |
DE10327019A1 (de) * | 2003-06-12 | 2004-12-30 | Carl Zeiss Sms Gmbh | Verfahren zur Bestimmung der Abbildungsgüte eines optischen Abbildungssystems |
DE10348509A1 (de) * | 2003-10-18 | 2005-05-19 | Carl Zeiss Jena Gmbh | Wellenfrontsensor |
US7532749B2 (en) * | 2003-11-18 | 2009-05-12 | Panasonic Corporation | Light processing apparatus |
FR2878973B1 (fr) * | 2004-12-03 | 2007-04-20 | Essilor Int | Dispositif de mesure automatique de caracteristiques d'une lentille ophtalmique |
FR2879736B1 (fr) * | 2004-12-20 | 2007-02-02 | Essilor Int | Procede et dispositif de mesure sans contact de la courbure d'un objet ophtalmique |
FR2880118B1 (fr) * | 2004-12-23 | 2007-03-02 | Essilor Int | Procede et appareil de mesure locale des caracteristiques de refraction d'une lentille en un ou plusieurs points specifiques de cette lentille |
US20060186312A1 (en) * | 2005-02-23 | 2006-08-24 | Zino Altman | Apparatus and method for optical wavefront analysis using active light modulation |
DE202005004934U1 (de) * | 2005-03-23 | 2005-06-09 | Oculus Optikgeräte GmbH | Messeinrichtung zum Messen der Refraktionseigenschaften optischer Linsen |
DE202005009847U1 (de) * | 2005-03-23 | 2005-10-20 | Oculus Optikgeräte GmbH | Messeinrichtung zum Messen der Refraktionseigenschaften optischer Linsen |
JP4683270B2 (ja) * | 2005-03-30 | 2011-05-18 | 株式会社ニデック | レンズメータ |
EP1785714B1 (en) | 2005-11-15 | 2017-02-22 | Olympus Corporation | Lens evaluation device |
DE102007003681B4 (de) * | 2006-02-10 | 2017-11-30 | Hochschule Bremen | Verfahren und Vorrichtung zur Analyse einer optischen Einrichtung |
EP1999443B1 (en) | 2006-03-14 | 2017-12-27 | AMO Manufacturing USA, LLC | Spatial frequency wavefront sensor system and method |
DE102006033779B4 (de) * | 2006-07-21 | 2012-09-20 | Karlsruher Institut für Technologie | Verfahren zur Vermessung einer reflektierenden Oberfläche |
JP2008082874A (ja) * | 2006-09-27 | 2008-04-10 | Fujitsu Ltd | 測定装置および測定方法 |
US20080129984A1 (en) * | 2006-12-01 | 2008-06-05 | Sol Focus, Inc. | Inspection of optical elements |
US9192296B2 (en) | 2007-08-21 | 2015-11-24 | Visionix Ltd. | Multifunctional ophthalmic measurement system |
JP5107358B2 (ja) | 2007-08-31 | 2012-12-26 | Hoya株式会社 | レンズ評価方法、レンズ評価装置及びレンズ製造方法、並びにレンズ特性表示方法 |
EP2189777B1 (en) | 2007-08-31 | 2020-01-01 | Hoya Corporation | Method and device for evaluating graduated refraction power lens and method for manufacturing graduated refraction power lens |
WO2009068613A1 (en) | 2007-11-30 | 2009-06-04 | Essilor International (Compagnie Generale D'optique) | Process for controlling a lens manufacturing process |
US7802883B2 (en) | 2007-12-20 | 2010-09-28 | Johnson & Johnson Vision Care, Inc. | Cosmetic contact lenses having a sparkle effect |
KR101441309B1 (ko) * | 2008-01-28 | 2014-09-17 | 삼성디스플레이 주식회사 | 디스플레이 시스템 |
JP2010133980A (ja) * | 2010-03-04 | 2010-06-17 | Nikon Corp | 検査装置、該検査装置を備えた露光装置、およびマイクロデバイスの製造方法 |
JP5712454B2 (ja) * | 2010-04-28 | 2015-05-07 | 東海光学株式会社 | セミフィニッシュトブランクの測定方法及び加工方法 |
CN102338693A (zh) * | 2010-07-20 | 2012-02-01 | 上海雄博精密仪器股份有限公司 | 一种渐进多焦点镜片的检测方法和装置 |
EP2681507B1 (en) | 2011-03-03 | 2018-11-28 | Visionix Ltd. | Automatic lens mapping system |
CN102928196A (zh) * | 2011-08-10 | 2013-02-13 | 上海雄博精密仪器股份有限公司 | 自由曲面镜片的检测方法和装置 |
WO2014019806A1 (en) * | 2012-07-31 | 2014-02-06 | Essilor International (Compagnie Générale d'Optique) | Method and system for identification of a given geometrical feature of an optical component |
JP6080427B2 (ja) * | 2012-08-10 | 2017-02-15 | キヤノン株式会社 | シャック・ハルトマンセンサとそれを利用した波面計測方法 |
EP2901127B1 (en) | 2012-09-28 | 2019-10-23 | Novartis AG | Method for automated in-line determination of center thickness of an ophthalmic lens |
EP2901126A1 (en) * | 2012-09-28 | 2015-08-05 | Novartis AG | Method for automated inline determination of the refractive power of an ophthalmic lens |
US8941825B2 (en) | 2013-03-15 | 2015-01-27 | Owens-Brockway Glass Container Inc. | Container inspection |
FR3017963B1 (fr) | 2014-02-27 | 2016-03-25 | Essilor Int | Instrument optique pour identifier et localiser des microgravures presentes sur une lentille ophtalmique |
FR3017964B1 (fr) | 2014-02-27 | 2016-03-25 | Essilor Int | Instrument optique pour reperer au moins un point caracteristique d'une lentille ophtalmique |
CN103954434B (zh) * | 2014-04-16 | 2016-05-11 | 青岛歌尔声学科技有限公司 | 一种光轴校准治具、系统及方法 |
US9491863B2 (en) | 2014-06-26 | 2016-11-08 | Align Technology, Inc. | Mounting system that maintains stability of optics as temperature changes |
CN104198164B (zh) * | 2014-09-19 | 2017-02-15 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种基于哈特曼波前检测原理的检焦方法 |
DE102016209720A1 (de) * | 2016-06-02 | 2017-12-07 | Humanoptics Ag | Verfahren zur Prüfung individuell hergestellter Intraokularlinsen |
CN110198794B (zh) * | 2017-06-01 | 2022-02-18 | 大族激光科技产业集团股份有限公司 | 激光清洗镜头 |
US11934042B2 (en) | 2018-09-28 | 2024-03-19 | Hoya Lens Thailand Ltd. | Curved face shape evaluation method, eyeglass lens manufacturing method, and eyeglass lens |
GB2580946A (en) * | 2019-01-31 | 2020-08-05 | Eyoto Group Ltd | Methods and apparatus for determining prism in a lens |
US20240102865A1 (en) * | 2020-12-15 | 2024-03-28 | Quartus Engineering Incorporated | Wavefront sensors with irregular aperture masks, diffusers, and cameras, and methods of making and using the same |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58205834A (ja) * | 1982-05-25 | 1983-11-30 | Canon Inc | 収差測定方法 |
JPS6098035U (ja) * | 1983-12-13 | 1985-07-04 | キヤノン株式会社 | ソフトコンタクトレンズの光学特性測定用装置 |
JPH02238338A (ja) * | 1989-03-13 | 1990-09-20 | Hitachi Ltd | レンズ検査装置 |
JPH05119590A (ja) * | 1991-10-29 | 1993-05-18 | Ricoh Co Ltd | 画像書込装置 |
JPH0630900A (ja) * | 1992-07-13 | 1994-02-08 | Kimiya Shimizu | 角膜の光学特性の表示方法 |
JPH07124113A (ja) * | 1993-10-29 | 1995-05-16 | Nidek Co Ltd | 眼科装置 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE247617C (ja) * | ||||
DE213057C (ja) * | ||||
US3832066A (en) * | 1972-10-27 | 1974-08-27 | Acuity Syst Inc | Apparatus and method for analyzing sphero-cylindrical optical systems |
US3880525A (en) * | 1974-05-08 | 1975-04-29 | American Optical Corp | Method and apparatus for determining the refractive characteristics of a lens |
US4007990A (en) * | 1975-05-23 | 1977-02-15 | Acuity Systems, Incorporated | Apparatus and method for measuring refractive properties of a sphero-cylindrical optical system |
IL61405A (en) * | 1980-11-04 | 1985-01-31 | Israel Atomic Energy Comm | Method and equipment for mapping radiation deflection by phase objects |
SU1312511A1 (ru) * | 1985-01-24 | 1987-05-23 | Специальное Конструкторское Бюро Научного Приборостроения "Оптика" Со Ан Ссср | Датчик Гартмана |
US4725138A (en) * | 1985-05-22 | 1988-02-16 | Adaptive Optics Associates Incorporated | Optical wavefront sensing system |
SU1420428A1 (ru) * | 1986-12-16 | 1988-08-30 | Предприятие П/Я А-1705 | Устройство дл контрол качества изображени оптических систем |
US4824243A (en) * | 1987-05-26 | 1989-04-25 | Hughes Aircraft Company | Compact continuous wave wavefront sensor |
FR2654513B1 (fr) * | 1989-11-10 | 1993-07-16 | Essilor Int | Procede et dispositif pour la determiantion des caracteristiques d'un lentille, et, notamment, de sa puissance. |
US5062702A (en) * | 1990-03-16 | 1991-11-05 | Intelligent Surgical Lasers, Inc. | Device for mapping corneal topography |
US5083015A (en) * | 1990-11-16 | 1992-01-21 | United Technologies Corporation | Optical centroid processor wavefront sensor |
US5287165A (en) * | 1991-09-30 | 1994-02-15 | Kaman Aerospace Corporation | High sensitivity-wide dynamic range optical tilt sensor |
US5301004A (en) * | 1992-03-13 | 1994-04-05 | Leica Inc. | Method and apparatus for determining the optical properties of a lens |
DE4222395A1 (de) * | 1992-07-08 | 1994-01-13 | Amtech Ges Fuer Angewandte Mic | Vorrichtung und Verfahren zur Messung der Augenrefraktion |
US5488891A (en) * | 1995-06-13 | 1996-02-06 | Baker; Michael V. | Slide bar for stringed musical instruments |
-
1995
- 1995-06-13 EP EP95924219A patent/EP0765468B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-06-13 US US08/737,176 patent/US5825476A/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-06-13 WO PCT/EP1995/002283 patent/WO1995034800A1/en active IP Right Grant
- 1995-06-13 ES ES95924219T patent/ES2182907T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1995-06-13 DE DE69528647T patent/DE69528647T2/de not_active Expired - Lifetime
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-
2008
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58205834A (ja) * | 1982-05-25 | 1983-11-30 | Canon Inc | 収差測定方法 |
JPS6098035U (ja) * | 1983-12-13 | 1985-07-04 | キヤノン株式会社 | ソフトコンタクトレンズの光学特性測定用装置 |
JPH02238338A (ja) * | 1989-03-13 | 1990-09-20 | Hitachi Ltd | レンズ検査装置 |
JPH05119590A (ja) * | 1991-10-29 | 1993-05-18 | Ricoh Co Ltd | 画像書込装置 |
JPH0630900A (ja) * | 1992-07-13 | 1994-02-08 | Kimiya Shimizu | 角膜の光学特性の表示方法 |
JPH07124113A (ja) * | 1993-10-29 | 1995-05-16 | Nidek Co Ltd | 眼科装置 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2022064881A (ja) * | 2020-10-14 | 2022-04-26 | イーメージ ヴィジョン ピーティーイー. エルティーディー. | コンタクトレンズの欠陥分析及び追跡システム |
JP7309225B2 (ja) | 2020-10-14 | 2023-07-18 | イーメージ ヴィジョン ピーティーイー. エルティーディー. | コンタクトレンズの欠陥分析及び追跡システム |
JP7510215B2 (ja) | 2020-10-14 | 2024-07-03 | イーメージ ヴィジョン ピーティーイー. エルティーディー. | コンタクトレンズの欠陥分析及び追跡システム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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DE69528647T2 (de) | 2003-07-10 |
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US5825476A (en) | 1998-10-20 |
EP0765468A1 (en) | 1997-04-02 |
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