JP3886191B2 - レンズメーター - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、被検レンズのレンズ特性をマッピング表示することが可能なレンズメータに関する。
【0002】
【従来の技術】
近時、レンズメーターには、図17に示すように、被検レンズのレンズ特性測定用パターン50aとしての円形孔を有するパターン板50を光源部により発生された測定光束の投光光路に設け、被検レンズとしての例えば累進焦点レンズをその投光光路にセットし、その投光光路にセットされた累進焦点レンズに測定光束を投光することによりレンズ特性測定用の多数のパターン像をCCDに受像し、かつ、その受像パターンを解析することにより、球面度S(図18(a)参照)、円柱度C(図18(b)参照)、軸角度A(図18(c)参照)、プリズム度Prs(図18(d)参照)を画面3aに画像表示(マッピング表示)するものが現われてきている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、この種のレンズメーターでは、被検レンズの光軸が投光光路の光軸に対して偏心してセットされた場合でも、パターン板50の中心位置O0に対応するパターン像の中心位置が決定できるように、パターン板50の中央部に例えば4個のスリット50b〜50eからなりかつ全体として正方形状の中心位置決定用パターン(位置特定用パターン)51が形成されている。
そして、この種のレンズメーターでは、そのパターン板50の中心位置O0に対応するパターン像の中心位置を決定する決定手段を備えている。その決定手段は、CCDに受像された多数のパターン像を画像処理することにより、レンズ特性測定用パターン50aの像と中心位置決定用パターン51の像との形状の相違を識別して、中心位置決定用パターン51の像を抽出し、この抽出した中心位置決定用パターン51の像に基づいて、パターン板50の中心位置O0に対応するパターン像の中心位置を決定している。
しかしながら、パターン板50にはレンズ特性測定用パターン50aが1000個程度設けられており、パターン板50の中心位置O0に対応するパターン像の中心位置を決定するためには、1000個程度のレンズ特性測定用パターン50aの像と中心位置決定用パターン51の像とを画像処理しなければならない。このため、画像処理に時間がかかり、迅速にパターン板50の中心位置O0に対応するパターン像の中心位置を決定できないという不都合がある。
特に、投光光路にセットされた被検レンズをその投光光路を横切る方向にその被検レンズを移動させた場合、画面3aに表示されている画像情報をその移動に追従して迅速に移動させ難い。
また、この種のレンズメーターには、パターン板50に多数のレンズ特性測定用パターン50aを設け、パターン板50の中心位置O0に対応するレンズ特性測定用パターン50aを欠落させることにより、そのパターン板50の中心位置O0に対応するレンズ特性測定用パターン50aの像の欠落情報に基づいて、パターン板50の中心位置O0に対応するパターン像の中心位置を決定するようにしたものもある。
しかし、このパターン板50の中心位置O0に位置すべきレンズ特性測定用パターン50aを欠落させる構成のレンズメーターの場合、パターン板50が汚れて本来あるべきレンズ特性測定用パターン50aが1個でも欠落すると、レンズ特性測定用パターン50aの像の欠落箇所が2個以上となるため、パターン板50の中心位置O0に対応するパターン像の中心位置を決定できないという不具合がある。
また、未加工レンズには、ペイントマークが施されているが、ペイントマークが施されている箇所では、測定光束が遮られることになるため、この場合もレンズ特性測定用パターン50aの像の欠落箇所が2個以上となり、パターン板50の中心位置O0に対応するパターン像の中心位置を決定できない。
【0004】
本発明は、上記の事情に鑑みて為されたもので、その目的は、パターン板の中心位置に対応するパターン像の中心位置の決定(パターン像の位置の特定)を迅速にかつ正確に行うことができるレンズメーターを提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項1に記載のレンズメーターは、光源部により発生された測定光束の投光光路に設けられかつ被検レンズのレンズ特性測定用の多数の同一形状の円形孔が規則的に配列されたパターンを有するパターン板と、前記光源部と前記パターン板との間の投光光路にセットされた前記被検レンズに投光の測定光束によりレンズ特性測定用パターン像を受像する受像手段と、前記被検レンズの二次元的なレンズ特性分布をマッピング表示するために前記受像手段により得られたレンズ特性測定用パターン像を解析する解析処理手段とを有するレンズメーターであって、
前記光源部は前記測定光束の発生用の光源と、該測定光束の発生用の光源とは別個に設けられかつ前記パターン板の中心位置に対応するパターン像の中心位置特定用光束を発生する光源とからなり、前記解析処理手段は前記中心位置特定用光束が前記多数の円形孔のうちの複数個の円形孔を通過することにより得られた複数個のパターン像に基づき前記パターン像の中心位置が決定され、前記中心位置特定用光束の波長と前記測定光束の波長とが異なる波長とされ、前記中心位置特定用光束が前記被検レンズのレンズ特性の測定に用いられていることを特徴とする。
本発明の請求項2に記載のレンズメーターは、前記パターン板の裏面に前記円形孔を透過した中心位置特定用光束を収束するレンズ部が形成されていることを特徴とする。
【0014】
【発明の実施の形態】
【0015】
【発明の実施の形態1】
図1は本発明に係わるレンズメーターの外観図である。この図1において、1はレンズメーター、2はレンズメーター1の本体、3は本体2の上部に設けられたCRT又は液晶ディスプレイ等のモニター、3aはそのモニター3の表示画面、4は本体2の前側に設けられた上光学部品収納部、5は上光学部品収納部の下方に位置させて設けられた下光学部品収納部、6は下光学部品収納部5の上端に設けられたレンズ受けテーブル、7は両収納部5、6間に位置して本体2の正面に前後移動調整可能に保持されたレンズ当て、8は本体2の横側に前後回動可能に保持されたレンズ当て操作用のレバーで、このレバー8の前後回動によりレンズ当て7が前後移動調整されるようになっている。
【0016】
そのレンズ当て7の上縁部にはスライダ9aが左右動自在に保持され、このスライダ9aには鼻当て支持部材9が上下回動可能に保持されている。この鼻当て支持部材9は、図示を略すスプリングで上方にバネ付勢されていると共に水平位置で上方への回動が規制されるようになっている。尚、10は切換えスイッチ、11は測定開始スイッチである。
【0017】
このレンズ受けテーブル6には、図2に示す段付き取り付け孔12が形成されている。この取り付け孔12にはレンズ受け13が設けられる。このレンズ受け13には円形の未加工レンズ(生地レンズ)、加工済みレンズ、あるいは眼鏡フレームに枠入りされたままの眼鏡レンズがセットされる。
【0018】
本体2内には図2に示す測定光学系が設けられている。その図2において、20は光源部である。光源部20は測定光束発生用の光源21、ピンホール板22、中心位置決定用光束(位置特定用光束)を発生させるための光源23、ピンホール板24、穴空きミラー25、コリメートレンズ26を有する。なお、22a、24aはピンホールを示し、27は集光用凹面鏡を示す。
光源21はハロゲンランプから構成され、光源23はLEDから構成されている。穴空きミラー25には開口25aが形成されている。ピンホール板22、24はコリメートレンズ26の焦点位置に配置され、コリメートレンズ26は光源21、23から出射された光束を平行光束に変換する役割を果たし、ここでは、光源21により発生された光束が符号P2で示され、光源23により発生された光束が符号P1で示されている。
【0019】
レンズ受けテーブル6にはレンズ受け13がセットされる。このレンズ受け13は、パターン板28とレンズ受けピン29とから構成されている。パターン板28は図3に示すように直方形状であり、レンズ受けテーブル6の段付き取り付け孔12に係止される。
パターン板28には、レンズ受けピン装着用の円形溝28aがそのパターン板28の中心位置O1を囲むようにして4箇所形成されている。その円形溝28aにはレンズ受けピン29が着脱可能に装着される。そのパターン板28の中心位置O1の周囲でかつ円形溝28aの内側には4個の円形孔28bが形成されている。そのパターン板28の円形溝28aの外側には、多数の円形孔28cが形成されている。その円形孔28bはパターン板28の中心位置O1に対応するパターン像の中心位置O4(図4〜図6及び図8、図9参照)を決定するために用いられる。円形孔28cは被検レンズ30のレンズ特性を決定するために用いられる。その円形孔28bのサイズ(開口面積)と円形孔28cのサイズ(開口面積)とはその大きさが同一である。LED23には指向性の大きいものが用いられ、光源23により出射された光束P1は開口25aを通って、円形溝28aにより囲まれた領域内に存在する円形孔28bに投光され、光源21により出射された光束P2は穴空きミラー25により反射されて、パターン板28のほぼ全領域に投光される。
その円形孔28cは規則的に等間隔を開けて形成され、円形孔の全個数は約1000個であり、パターン板28の残余の部分は遮光部28dとなっている。
【0020】
ここでは、レンズ受け13には、被検レンズ30として負のパワーを有する未加工レンズがセットされているものとする。測定光束P2の投光光路31には被検レンズ30から所定距離の箇所にスクリーン32が設けられている。このスクリーン32は、例えば拡散板からなっている。
【0021】
その投光光路31に被検レンズ30がセットされていないときには、光束P1、P2が平行光束のままパターン板28に導かれ、このパターン板28の各円形孔を透過するので、その透過光束に基づきパターン板28に対応するパターン像が図4に示すようにスクリーン32上に投影される。
その図4において、28b´は円形孔28bに対応するスクリーン32上の像、28c´は円形孔28b´に対応するスクリーン32上の像、O4は中心位置O1に対応する中心位置を示している。
【0022】
被検レンズ30が投光光路31にセットされると、その被検レンズ30に光束P1、P2が投光される。その光束P1、P2は被検レンズ30の負のパワーにより変形を受けて拡散され、図5に示すようにスクリーン32上の像のパターン間隔は被検レンズ30がないとしたときの像のパターン間隔よりも広がる。正のパワーを有する被検レンズ(図示を略す)が投光光路31にセットされると、その光束P1、P2がその被検レンズの正のパワーにより変形を受けて収束され、図6に示すようにスクリーン32上の像のパターン間隔は被検レンズ30がないとしたときの像のパターン間隔よりも狭まる。この像のパターン間隔をスクリーン3上の各箇所で求めることにより、被検レンズ30のレンズ特性(度数分布等)を求めることができる。
なお、図5、図6では、パターン像は被検レンズ30の光軸O3が投光光路31の光軸O2と一致しているものとして示されている。
【0023】
投光光路31にはスクリーン32の背後に反射ミラー33が設けられている。その反射ミラー33の反射光路には結像レンズ34とCCD35とからなるCCDカメラ36が設けられている。そのCCD35は結像レンズ34に関してスクリーン32と共役位置に設けられ、スクリーン32に投影されたパターン像が撮像される。
【0024】
CCD35は処理回路41に接続されている。この処理回路41は、少なくとも光束P1に基づきパターン板28の中心位置O1に対応する中心位置O4を決定するための処理と、光束P2に基づき被検レンズ30のレンズ特性を解析するための処理とを行う。その処理回路41には切換スイッチ10が接続され、ここでは、この切換スイッチ10によりパターン板28の像の中心位置O4を決定するための処理とレンズ特性の解析処理とが切り換えられる。
【0025】
例えば、測定スイッチ11がオフの状態で切換スイッチ10をオンすると、光源23のみが点灯される。光源21は消灯されたままである。被検レンズ30の光軸O3が投光光路31の光軸O2からずれているときには、被検レンズ30によって光束P1が図7に示すように偏向され、スクリーン32の中心位置O5から偏った領域に4個の像28b´が投影される。図8に示すように、この4個の像28b´に基づき中心位置O4を求めれば、被検レンズ30が偏心している場合のパターン像の中心位置O4を決定できる。次に、測定スイッチ11をオンして、光源21と共に光源23を点灯すると、図9に示すようにパターン像28c´がパターン像28b´と共にスクリーン32上に得られる。パターン像28b´の中心位置O4は既に求められているので、このパターン像28b´の中心位置O4に基づき度数分布の解析を処理回路41により行えば、被検レンズ30のレンズ特性が得られる。処理回路41は位置特定用パターン像の位置を特定する位置特定手段として機能する。
この発明の実施の形態1によれば、4個の像28b´に基づきパターン板28の像の中心位置O4を決定できるので、その中心位置O4の特定を迅速に行うことができる。
【0026】
【変形例1】
以上、発明の実施の形態1においては、穴空きミラー25を用いて光束P1をパターン板28に投光することにしたが、光束P1の波長と光束P2の波長とを異ならせ、かつ、穴空きミラー25の開口25aに相当する箇所を光束P1のみを透過させ、光束P2を反射する特性とすることもできる。
【変形例2】
また、発明の実施の形態1においては、光源21を消灯し、光源23のみを点灯させて、パターン像の中心位置O4を求めることにしたが、光源23を点灯させた状態で、パターン像の中心位置O4を求めることができる。
この場合、例えば、スクリーン32上での像28b´の輝度が像28c´の輝度よりも大きくなるように光源21の光量と光源23の光量とを予め設定する。
このように、光源21の光量と光源23の光量とを設定すれば、図10に示すように像28b´に基づき得られる光量Q1を像28c´に基づき得られる光量Q1よりも大きくできる。そこで、処理回路41によりスライスレベルSr1、Sr2を設定すれば、像28b´と像28c´とを区別でき、スライスレベルSr1により中心位置O4を特定し、スライスレベルSr2により像28c´の位置を求めれば、同様にパターン像の中心位置O4を迅速に特定できる。
この変形例2によれば、光源21を常時点灯状態としておくことができる。光源21として、ハロゲンランプを用いる場合、ハロゲンランプの点灯と消灯とを繰り返すと、ハロゲンランプのフィラメントの劣化が早くなり、ハロゲンランプの寿命が短くなるが、この変形例2によれば、ハロゲンランプの短寿命化を抑制できる。
なお、ハロゲンサイクルを維持できる範囲で点灯電圧を下げて、ハロゲンランプの輝度を低下させても良い。また、ハロゲンランプを常時点灯状態として、機械的シャッターにより疑似的にハロゲンランプの消灯状態を作り出すこともできるが、この場合には、変形例2に較べて構造が複雑化する。
【0027】
【変形例3】
光源23の光束の光量が充分に大きい場合には、光源21と光源23とを別光源としなくとも、パターン板28の円形孔28bの透過率を円形孔28cの透過率よりも大きくすれば、同様に図10に示す像の光量分布を得ることができ、この場合にも、像28bの中心位置O4を特定できる。
【変形例4】
この発明の実施の形態によれば、眼鏡フレームに枠入れされた被検レンズを測定することもでき、図11はその一例を示す。その画像パターンはパターン板28の形状に対応して長方形状であり、その図11において、(a)は球面度S、(b)は円柱度C、(c)は軸角度A、(d)はプリズム度Prを示す。
【0028】
図11(e)に示すように、例えば、円柱度Cのマッピング表示と並行して球面度S、円柱度C、軸角度A、プリズム量Prの測定数値も同時に表示することも可能である。更に図11(f)に示すように、左目(L)用の被検レンズの画像と右目(R)用の被検レンズの画像とを同時に表示することも可能である。加えて、いずれか一方の画像を他方の画像に対応させて、反転表示することも可能であり、このように構成すると、眼鏡フレームに枠入れされた状態での被検レンズのレイアウトを知るのが容易になる。
【0029】
【発明の実施の形態2】
この発明の実施の形態2は、光源部20の穴空きミラー25の代わりに反射ミラー37を用いると共に、光源21、23の双方にLEDを用いることにし、更に、コリメートレンズ26を反射ミラー37と光源21、23との間に設け、コリメートレンズ26と光源21、光源23との間にバンドパスミラー38を設けることにしたものである。光源21からの光束P1の波長と光源23からの光束P2の波長とは互いに異なるものとされ、このバンドパスミラー38はその中央に光束P1のみを透過する透過部38aを有する。光束P2はそのバンドパスミラー38の全領域で反射される。
被検レンズ30の種類によっては、スクリーン上でパターン像の所定の光量比を得ることができない場合があるが、このような場合には、光源21の光束P1の光量α(図10参照)と光源23の光束P2の光量βとを調整すれば、像28b´と像28c´との光量比を適宜変更できる。
【0030】
【変形例5】
図13に示すように、パターン板28の円形孔28bの透過面積(サイズ)を円形孔28cの透過面積(サイズ)よりも大きくすることにより、図14に示すように透過面積のサイズと光量差とにより像28b´と像28c´とを区別するようにしても良い。
【0031】
また、図15に示すように、図3に示すパターン板28の中央部の裏面でかつ円形孔28bに対応する箇所に収束レンズ部28d´を設けて光束P1をスクリーン32上に収束させる構成とすれば、光源21の発光量と光源23の発光量とを同じにした場合でも、図16に示すように像28b´の輝度を像28c´の輝度よりも増大させることができる。この場合、変形例3と同様に、光源部の光源は1個でも良い。
【0032】
以上の実施の形態では、測定スイッチ11をオンすることにより光源21を点灯させることにしたが、パターン像の中心位置O4の値が一定時間以上変化しなかった時、処理回路41は被検レンズ30の移動が停止されたと判断して、自動的に光源21を点灯させ、追従状態からマッピング表示状態に表示を切り換えるようにしても良い。
また、中心位置決定用光束を用いて、被検レンズ30の中心部分のみのレンズ特性を測定すること、被検レンズ30の周辺部分の測定を行うこともできる。
【0033】
【発明の効果】
本発明の請求項1に係わるレンズメーターは、以上説明したように構成したので、パターン板の中心位置に対応するパターン像の中心位置の特定を迅速にかつ正確に行うことができ、従って、被検レンズの移動に追従した画像の表示が可能となるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係わるレンズメーターの外観図である。
【図2】 本発明に係わるレンズメーターの発明の実施の形態1を示す光学図である。
【図3】 図2に示すパターン板の平面図である。
【図4】 眼鏡レンズが投光光路にセットされていないときにスクリーンに投影されたパターン像を示す図である。
【図5】 負のパワーを有する眼鏡レンズが投光光路にセットされたときにスクリーンに投影されるパターン像の一例を示す図である。
【図6】 正のパワーを有する眼鏡レンズが投光光路にセットされたときにスクリーンに投影されるパターン像の一例を示す図である。
【図7】 本発明に係わるレンズメータの発明の実施の形態1を示す光学図であって、被検レンズを投光光路に偏心させてセットした状態を示している。
【図8】 中心位置決定用パターンに基づく像のみが図2に示すスクリーンに投影された状態を示している。
【図9】 中心位置決定用パターンに基づく像とレンズ特性測定用パターンに基づく像とがスクリーンに投影された状態を示している。
【図10】 図9に示すパターン像に基づく光量分布を示している。
【図11】 眼鏡レンズの各レンズ特性値のマッピング図の一例を示し、(a)は球面度分布、(b)は円柱度分布、(c)は軸角度分布、(d)はプリズム度分布を示し、(e)は円柱度分布と共に測定値を表示した状態を示し、(f)は左目用の眼鏡レンズの円柱度分布と右目用の眼鏡レンズとの両方を表示すると共に一方の画像を反転させて表示した状態を示す。
【図12】 本発明に係わるレンズメーターの発明の実施の形態2の光学図である。
【図13】 発明の実施の形態2の変形例5のパターン板の平面図ある。
【図14】 図13に示すパターン板の像に基づく光量分布を示している。
【図15】 図10に示すパターン板の変形例を示す要部断面図である。
【図16】 図15に示すパターン板の像に基づく光量分布を示している。
【図17】 従来のパターン板の一例を示す平面図である。
【図18】 眼鏡レンズの各レンズ特性値のマッピング図の一例を示し、(a)は球面度分布を示し、(b)は円柱度分布を示し、(c)は軸角度分布を示し、(d)はプリズム度分布を示す。
【符号の説明】
20…光源部
21、23…光源
28…パターン板
30…被検レンズ
31…投光光路
28b…中心位置決定用パターン(位置特定用パターン)
28c…レンズ特性測定用パターン
28b´、28c´…パターン像
41…処理回路
P1、P2…光束
Claims (2)
- 光源部により発生された測定光束の投光光路に設けられかつ被検レンズのレンズ特性測定用の多数の同一形状の円形孔が規則的に配列されたパターンを有するパターン板と、前記光源部と前記パターン板との間の投光光路にセットされた前記被検レンズに投光の測定光束によりレンズ特性測定用パターン像を受像する受像手段と、前記被検レンズの二次元的なレンズ特性分布をマッピング表示するために前記受像手段により得られたレンズ特性測定用パターン像を解析する解析処理手段とを有するレンズメーターであって、
前記光源部は前記測定光束の発生用の光源と、該測定光束の発生用の光源とは別個に設けられかつ前記パターン板の中心位置に対応するパターン像の中心位置特定用光束を発生する光源とからなり、前記解析処理手段は前記中心位置特定用光束が前記多数の円形孔のうちの複数個の円形孔を通過することにより得られた複数個のパターン像に基づき前記パターン像の中心位置が決定され、前記中心位置特定用光束の波長と前記測定光束の波長とが異なる波長とされ、前記中心位置特定用光束が前記被検レンズのレンズ特性の測定に用いられていることを特徴とするレンズメーター。 - 前記パターン板の裏面に前記円形孔を透過した中心位置特定用光束を収束するレンズ部が形成されている請求項1に記載のレンズメーター。
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