KR100849921B1 - 목적물의 스펙트럼 방사의 공간 분포를 측정하는 장치 - Google Patents

목적물의 스펙트럼 방사의 공간 분포를 측정하는 장치 Download PDF

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Abstract

목적물의 스펙트럼 조사의 공간 분포를 측정하는 공간 분포 측정 장치가 개시된다.
이러한 공간 분포 측정 장치는 푸리에 평면(P1)에서 목적물(2)의 영역(4)의 광학적 푸리에 변형을 구성하는 이메이지를 형성하는 제 1 렌즈(6), 제 2 렌즈(8), 렌즈에 의해 상기 영역과 광학적으로 결합되는 제 1 다이아프램(10), 이메이지의 직선 부분을 선택하는 이메이지 선택 수단, 이러한 부분에 대응하여 광을 분산시키는 광 분산 수단(18) 및, 분산된 광을 수광하는 이메이지 센서(14)를 구비한다. 각 부분의 지점에 대하여 상기 영역의 스펙트럼 응답은 센서로부터의 신호에 의해서 측정된다. 본 발명은 특히 디스플레이 스크린에 적용될 수 있다.

Description

목적물의 스펙트럼 방사의 공간 분포를 측정하는 장치{Device for measuring spatial distribution of the spectral emission of an object}
본 발명은 목적물의 스펙트럼 방사의 공간 분포를 측정하는 장치에 관한 것이다.
본 발명은 특히, 예를 들면 반사 표면 뿐만 아니고, 액정 스크린, 플라즈마 스크린 및, 마이크로팁 스크린과 같은 평판 디스플레이 스크린과, 투사 스크린, 음극선관, 조명 장치에 적용된다.
다양한 목적물들, 예를 들면 위에서 언급된 것들의 비색계 특성(colorimetric features)을 관찰 각도의 함수로서 측정하는 몇가지 방법이 이미 공지되어 있다.
이러한 주제에 관해서는 다음의 문헌을 참조할 수 있다.
[1] 유럽 특허 출원 EP 0286 529 A
[2] 프랑스 특허 출원 FR 2 729 220 A
[3] 프랑스 특허 출원 FR 2 749 388 A
특히, 광도계와 같은 측정 장비를, 측정하고자 하는 목적물의 둘레로 움직이는 것으로 구성된 전자기계 기술이 공지되었다. 이러한 주제에 관해서는 예를 들면 문헌 [1] 이 참조될 수 있고, 특히 상기 문헌 [1] 의 도 2a, 도 2b 및, 도 3 이 참 조될 수 있다.
이러한 공지의 기술들은 많은 단점을 나타낸다.
특히, 측정은 샘플링에 의해서 수행된다. 선택된 위치들만 측정되며 중간의 위치들 또는 각도들에서의 휘도에 대한 정보는 알려지지 않는다. 측정 지점에서의 휘도로부터 떨어진 휘도 값에 관해서는 확신이 없는 것이다.
더욱이, 상기 문헌 [1]에 개시된 기술에 의해서 이루어진 측정에 소요되는 지속 시간(To)과 관련하여, 지속 시간(TO)에 관한 측정은 차례로 하나씩 수행된다. 최대화된 정보를 얻을 수 있기 위하여 다수의 지점(N)에서 측정이 이루어진다면, 목적물의 완전한 측정은 N x TO 의 시간이 걸린다.
CCD 유형 또는 다른 유형의 어레이 센서(array sensor)와 관련된 후리에 광학(Fourier Optic)을 사용하는 다른 기술들이 알려져 있다. 이러한 주제에 관해서는 예를 들면 문헌 [3] 이 참조되어야 하며 특히 문헌 [3]의 도 1 이 참조되어야 한다.
이러한 다른 공지의 기술들은, 하나가 수행되는데 있어서, 측정되어야 하는 목적물에 의해 이러한 매트릭스 센서상에 방출되거나 또는 반사된 광의 공간 분포를 획득하는 것으로 구성되어 있다. 이메이지의 상이한 지점들은, 상이한 각도에서 측정되는 목적물의 방사 특성들에 대하여 획득된 측정에 대응한다.
이러한 다른 기술의 주요한 장점은 다음과 같다.
측정의 속도가 빠르다. 사실상, 상기 문헌 [3]에 개시된 기술에 의한 측정에 소요되는 지속 시간(T1)에 관련하여, 상기 문헌 [1]에 개시된 기술에 의한 측정에 소요되는 지속시간(T1)의 측정은 측정되어야 하는 지점의 수에 의존하지 않거나 또는 거의 의존하지 않는다.
모든 정보가 이용 가능하다.
측정되고 있는 휘도의 각도 분포에 대한 상세한 사항이 사라질 위험성이 없다.
획득된 전체적인 값들의 통합(합계)은 목적물에 의해서 방사된 발광 플럭스(luminous flux)에 대한 값을 확실성과 함께 제공한다.
그럼에도 불구하고, 이러한 다른 공지된 기술을 사용하는 동안에 심각한 불편함이 명백해졌다. 사실상, 그리고 문헌 [1] 및, 문헌 [2]를 참조하면, 발광 플럭스의 측정은 수집된 광의 파장에 의한 분포를 참조하지 않고 수행된다. 이것은,
- 관찰 각도의 함수로 스펙트럼 변화를 획득하려고 할 경우,
- 때때로 복잡하고 그리고 광의 스펙트럼 분포를 알지 못하면서 비색계의 좌표를 계산하는 것이 항상 부정확한 비색계에서, 그리고,
- 그 어떤 특정한 파장을 반사하는 목적물의 용량을 평가하기 위하여 목적물을 조명하는데 사용되는 광원의 스펙트럼을 아는데 필요 불가결한 반사계에에 있어서,
제한적일 수 있다.
본 발명의 목적은 이러한 불편한 점들을 치유하기 위한 것이다.
본 발명의 목적은 위에서 설명되었던 문헌 [3]의 기술적 장점을 스펙트럼 측정의 장점과 결합한 스펙트럼 방사의 공간 분포 측정 장치를 제공하는 것이다.
확실히, 문헌 [2] 및, [3] 에서와 같이 일련의 선택적인 필터들을 발광 신호의 경로에 배치하고, 파장의 범위를 선택할 수 있게 하는 것을 상상할 수 있다.
그럼에도 불구하고, 가시 스펙트럼은 380 nm 내지 720 nm 이기 때문에, 가시 스펙트럼의 범위가 340 nm 이고, 광도 측정에 필요한 해상도가 4 nm 의 정도라면, 85 개의 연속적인 필터들과, 그리고 85 회의 연속적인 측정)이 필요할 것이다. 따라서 그러한 기술들은 장시간의 측정 시간에 이르게 된다.
더욱이, 85 개의 필터를 발광 신호의 경로에 설정하는 것은 간단하지 않으며 이러한 85 개의 필터들에 대한 비용도 무시할 수 없는데, 이는 4 nm 의 밴드패스(bandpass)를 가진 필터의 제조가 특히 어렵기 때문이다.
그럼에도 불구하고, 제한된 수의 필터를 사용하는 것을 생각할 수 있으며, 각 필터가 10 nm 의 밴드패스를 가진다. 그러나 단지 34 개의 필터가 있게 되면 공간 분포 측정 장치의 정확성은 저하될 것이다.
본 발명에 따른 스펙트럼 방사의 공간 분포 측정 장치는 이러한 일련의 선택적인 필터의 사용에 관하여 설명되었던 불편이 없이 상기에 지적된 장점을 결합시킨다.
정확하게는, 본 발명의 목적은 목적물의 측정 영역에 대한 스펙트럼 방사의 공간 분포 측정 장치를 제공하는 것이며, 이러한 공간 분포 장치는,
- 제 1 렌즈의 푸리에 평면(Fourier plane)에서 측정 영역의 광학적 푸리에 전환을 구성하는 제 1 이메이지를 형성하도록 고안된 제 1 렌즈,
- 제 1 다이아프램,
- 제 1 렌즈와 제 1 다이아프램 사이에 설정되고, 제 1 다이아프램의 개구가 제 1 렌즈 및 제 2 렌즈에 의하여 측정 영역과 광학적으로 결합되도록, 그리고 제 1 다이아프램을 통해서 관찰되었을때 측정 영역이 관찰의 방향으로부터 대략 독립적인 가시적인 표면을 가지도록 상기 제 1 렌즈와 협동하는 제 2 렌즈로서, 제 1 렌즈와 제 2 렌즈가 공간 분포 측정 장치의 광축을 구성하는 공통의 광축을 가진 제 2 렌즈,
- 선택의 방향을 따르는 제 1 이메이지 직선 부분을 선택하는 이메이지 선택 수단,
- 제 1 이메이지의 선택된 부분에 대응하여 광을 분산시키도록 고안된, 광 분산 수단,
- 분산된 광을 수광하고 이러한 분산된 광을 표시하는 신호를 제공하도록 고안된 2 차원 이메이지 센서 및,
- 제 1 이메이지의 직선 부분의 각 지점에 대한 측정 영역의 스펙트럼 응답을 측정할 수 있는, 상기 신호의 처리를 위한 전자 신호 처리 수단을 구비하는 것을 특징으로 한다.
바람직스럽게는, 제 1 다이아프램이 원형의 개구(opening)를 가진다.
또한 바람직스럽게는, 광 분산 수단이 선택의 방향에 직각인 분산 방향을 따라서 광을 분산시킬 수 있다.
본 발명의 주제인 공간 분포 측정 장치의 바람직한 구현예에 따르면, 이메이지 선택 수단은 목적물로부터 방사된 광에 불투명한 물질을 통해서 형성된 직선의 슬릿을 구비한다.
본 발명의 주제인 공간 분포 측정 장치의 바람직한 구현예에 따르면, 선택의 방향은 공간 분포 측정 장치의 광축을 따라 통과한다.
이러한 경우에, 본 발명의 주제인 공간 분포 측정 장치는 공간 분포 측정 장치의 광축 둘레로 목적물을 회전시키는 목적물 회전 수단을 구비할 수도 있다. 이것은 방위각(φ)의 상이한 값에 대한 측정 영역의 특성들을 측정할 수 있게 한다.
이와는 달리, 본 발명의 주제인 공간 분포 측정 장치는, 선택 방향이 제 1 의 이메이지를 주사함으로써 이메이지 선택 수단이 이러한 제 1 이메이지의 연속적인 직선 부분을 선택하는 방식으로, 이메이지 선택 수단을 변위시키는 변위 수단을 구비할 수도 있다.
이러한 경우에, 본 발명의 특별한 구현예에 따르면, 이메이지 선택 수단은 목적물로부터 방사되는 광에 불투명하고 그리고 선택의 방향을 한정하는 재료를 통해서 만들어진 직선의 슬릿을 구비하며, 이러한 슬릿은 공간 분포 측정 장치의 광축을 따라서 통과하고, 그리고 변위 수단은 이러한 광축의 둘레로 슬릿을 회전시키는 슬릿 회전 수단이며, 광 분산 수단은 선택의 방향 및, 따라서 슬릿의 방향에 직각으로 유지되는 분산 방향을 따라서 광을 분산시킬 수 있다.
또한 이러한 경우에, 다른 특정의 구현예에 따르면, 이메이지 선택 수단은 목적물로부터 방사되는 광에 불투명하고 그리고 선택의 방향을 한정하는 재료를 통해서 만들어진 직선의 슬릿을 구비하며, 이러한 슬릿은 공간 분포 측정 장치의 광축을 따라서 통과하며, 그리고 변위 수단은 광축의 둘레로 슬릿을 회전시키는 슬릿 회전 수단이며, 공간 분포 측정 장치는 또한 슬릿과 광 분산 수단의 사이에 설정되어 센서에 의해 수광된 분산 광의 배향을 일정하게 유지하도록 고안된 회전 해제 장치를 구비한다.
본 발명의 주제인 공간 분포 측정 장치는, 측정되어야 하는 영역을 포함하는 목적물의 영역을 조사하기 위하여 그리고 이러한 측정 영역으로부터 방사되어 제 1 다이아프램을 향하여 배향되는 광을 통과시키기 위하여 발광원에 의해 방사된 광을 목적물을 향해 반사시키도록 고안된 발광원 및, 세미(semi)-반사 수단을 구비할 수도 있다.
이러한 경우에, 제 1 의 특정한 구현예에 따르면, 세미-반사 수단은 제 2 렌즈와 제 1 다이아프램 사이에 설정되고, 그리고 공간 분포 측정 장치는:
- 조명된 영역을 한정하는 개구를 가진 제 2 다이아프램으로서, 상기 제 2 다이아프램의 개구가 제 1 렌즈 및 제 2 렌즈에 의해서 형성된 전체적 효과에 의해 조명 영역과 광학적으로 결합되는 제 2 다아이프램, 및,
- 제 3 렌즈를 더 구비하고,
발광원은 제 2 렌즈 및 제 3 렌즈에 의해서 형성된 전체적 효과에 의해 제 1 렌즈의 푸리에 평면과 광학적으로 결합된 평면내에 설정된다.
또한 이러한 경우에 있어서, 제 2 의 특정한 구현예에 따르면, 세미 반사 수단은 제 1 렌즈와 제 2 렌즈 사이에 설정되고 그리고 공간 분포 측정 장치는 또한:
- 제 3 렌즈와 제 4 렌즈 및,
- 조명된 영역을 한정하는 개구를 가진 제 2 다이아프램으로서, 제 2 다이아프램의 상기 개구가 제 1 렌즈 및 제 4 렌즈에 의해서 형성된 전체적 효과에 의한 조명된 영역과 광학적으로 결합되는 제 2 다이아프램을 구비하고,
발광원은 제 3 렌즈 및 제 4 렌즈에 의해서 형성된 전체적 효과에 의해 제 1 렌즈의 푸리에 평면과 광학적으로 결합된 평면내에 설정된다.
본 발명은 첨부된 도면을 참조하여, 순수하게 예시적이며 비제한적인 것인 아래의 구현예에 대한 설명을 읽음으로써 보다 잘 이해될 것이다.
도 1 은 측정된 관찰 평면을 따라서 본 발명에 따른 공간 분포 측정 장치로써 측정되어야 하는 목적물의 영역에 대한 다이아그램.
도 2a 는 발명의 주제인 공간 분포 측정 장치가 관찰 평면내에 있는 특정한 구현예에 대한 다이아그램.
도 2b 는 상기 특정한 구현예가 관찰 평면에 직각인 평면내에 있고 그리고 측정 영역으로부터의 광이 본 발명에 따라서 분산되는 것에 관한 부분적인 다이아그램.
도 2c 는 도 2a 및, 도 2b 의 공간 분포 측정 장치에 일부인 이메지지 센서의 평면에서 수집된 정보를 개략적으로 도시한다.
도 3 은 본 발명에 따른 공간 분포 측정 장치에서 측정된 목적물을 회전시키는 목적물 회전 수단에 관한 다이아그램.
도 4 는 본 발명에서 사용될 수 있는 광 분산 수단에 대한 예를 개략적으로 도시한다.
도 5 는 본 발명에서 사용될 수 있는 회전 해제 장치의 예를 개략적으로 도시한다.
도 6 및, 도 7 은 본 발명의 두가지 특별한 구현예에 대한 개략적이고 부분적인 도면으로서, 모두 목적물의 조명이 측정될 수 있게 한다.
도 1 에 있어서, 예를 들면 스위치가 켜졌던 디스플레이 스크린이나 또는 도시되지 아니한 조명 수단에 의해 조명된 투사 스크린인 목적물(2)이 도시되어 있다.
소위 "측정 영역"이라고 불리우는 목적물(2)의 표면인 영역(4)의 스펙트럼 방사에 대한 공간 분포를 측정하고자 한다.
이것을 수행하기 위하여, 본 발명에 따른 공간 분포 측정 장치를 사용하는데, 여기에서는 도 1 에서의 광축(Z)만을 보게 된다. 공간 분포 측정 장치의 광축(Z)이 목적물의 표면에 직각이고 그리고 측정 영역(4)의 중심(O)을 통과하는 방식으로, 측정 영역(4)은 이러한 공간 분포 측정 장치를 면하게 배치된다. 도 1 에서는 또한 OXYZ 삼면체가 직접적인 직각 삼각형인 삼면체이도록, 두개의 다른 축(X 및, Y)과 목적물(2)의 표면이 있다.
목적물(2)의 다른 영역을 측정하려면, 공간 분포 측정 장치를 면하는 이러한 다른 영역을 배치하는 방식으로, 상기 목적물을 공간 분포 측정 장치에 대하여, 또는 그 역으로 변위시키는 것으로 충분하다.
도 1 에 있어서, OXY 평면의 축(U)을 관찰할 수 있다. 이러한 축(U)은, 축(Z)과 함께, 측정 영역(4)의 관찰 평면을 한정한다. 관찰 축(D)은 또한 이러한 관찰 평면에 포함되어 표시되었다.
축(X)과 축(U) 사이의 각도는 φ로서 표시되어 있으며, "방위각"으로 불리운다. 관찰 방향을 형성하는 축(Z)과 축(D) 사이의 각도는 θ로서 표시된다. 도 1 에 있어서, 목적물의 표면의 축(V)이 또한 도시되어 있는데, 이것은 축(U)에 대하여 직각이다.
도 1 의 영역(4)을 측정할 수 있게 하는 본 발명에 따른 공간 분포 측정 장치의 예는, 축(U)과 축(Z)에 의해 한정된 관찰 평면내에서 도 2a 에 개략적으로 도시되며, 상기 축(Z)은 상기 공간 분포 측정 장치의 광축이다. 이러한 관찰 평면은 해석되는 영역(4)의 직선 부분의 평면이다.
도 2a 의 공간 분포 측정 장치는 연속적으로 수렴성 제 1 렌즈(6), 수렴성 제 2 렌즈(8) 또는 시야 대물 렌즈 및, 제 1 다이아프램(10)을 구비하는 각도-평면상의 전환 조립체를 구비한다.
그러한 각도-평면상의 전환 조립체에 관해서는 문헌 [1] 내지 문헌 [3]을 참조하여야 하며, 특히 문헌 [3]을 참조하여야 한다.
해석되어야 하는 목적물(2)의 표면은 바람직스럽게는 수렴성 제 1 렌즈(6)의 목적물 초점 평면상에 있다. 더욱이, 이러한 수렴성 제 1 렌즈(6)는, 그것의 푸리에 평면(P1)에 있어서, 측정 영역(4)의 광학적 푸리에 변형(Fourier transform)을 수행한다.
이러한 푸리에 변형은 측정 영역(4)에서 목적물(2)에 의해 방사되는 발광 플럭스(flux)의 각도상 분포를 평면의 형태로 나타낼 수 있게 한다. 따라서 이러한 각도 분포의 이메이지는 평면(P1)에서 형성된다.
수렴성 제 2 렌즈(8)는 푸리에 평면(P1)에 근접하여 배치되며, 수렴성 제 1 렌즈(6)와 관련하여 측정 영역(4)과 제 1 다이아프램(10) 사이의 광학적 결합(optical conjugation), 또는 보다 정확하게는 측정 영역과 다이아프램의 개구 사이의 광학적 결합을 보다 정확하게 보장할 수 있게 한다.
수렴성 제 1 렌즈(6) 및 수렴성 제 2 렌즈(8)와 제 1 다이아프램(10)에 의해 형성된 각도-평면상의 전환 조립체(conversion assembly)는, 다이아프램을 통하여 관찰되었을 때, 무엇이건 그 어떤 관찰 평면의 그 어떤 관찰 각도(D)(각도 θ에 의해서 표시됨)에 대한 측정 영역(4)의 가시적인 표면이 대략 일정한 값(SO)을 가지도록 되어 있다. 특히, 이러한 가시적인 표면은 광축(Z)을 따라서 관찰되었을때 값(SO)을 가진다.
따라서 측정 영역(4)의 XOY 평면상의 이러한 가시적인 표면의 투사는 SO/cosθ로서 대략 변화한다.
그것의 크기 및, 형상이 광축(Z)을 따라서 측정 영역의 크기 및, 형상을 결정하는 제 1 다이아프램(10)은 원형의 형상인 것이 바람직스럽다. 측정 영역은 형상에 있어서 타원형이며, 이러한 영역의 단축을 DO 라고 하면, 그것의 장축은 DO/cosθ의 대략적인 값을 가진다. 이러한 장축은 이러한 경우에 있어서 측정의 방향(D)과 광축(Z)에 의해 형성된 평면에 포함된다.
도시된 바와 같이, 이러한 다이아프램은 수렴성 제 1 렌즈(6) 및 수렴성 제 2 렌즈(8)에 의해서 영역(4)과 광학적으로 결합된다.
도 2a 의 공간 분포 측정 장치의 제조 동안에, 제 1 다이아프램(10)의 개구의 크기와 측정 영역(4)의 크기 사이의 관계인 확대 비율이 선택되며, 상기 확대 비율은 이러한 결합시에 도입하고자 하는 것이다.
도 2a 의 공간 분포 측정 장치는 다른 렌즈, 또는 릴레이 대물 렌즈(12)를 구비하며, 이것은 평면(P1)상에 있는 푸리에 변형의 이메이지를 제 2 의 평면(P2)으로 전송하는 방식으로 바람직스럽게는 제 1 다이아프램(10)에 근접하게 제 1 다이아프램(10)의 이후에 배치된다. 이러한 변형은 평면(P1)에서 발견된 이메이지를, 도 2a 의 공간 분포 측정 장치가 구비하는 이메이지 센서(14)와 필적하고, 그리고 이러한 공간 분포 측정 장치의 나머지 광학적 수단과 필적하는 크기로 감소시키는 방식으로 비례 축소에 의해 수반될 수 있다.
도 2a 의 공간 분포 측정 장치는 푸리에 평면(P1)내에 존재하는 이메이지의 직선 부분 또는 일부를 선택하기 위한 이메이지 선택 수단을 구비한다.
고려된 예에 있어서, 이러한 부분 또는 일부는 공간 분포 측정 장치의 광축(Z)을 따라서 통과하도록 배치되는 것이 유리하다. 이러한 경우에, 이메이지 선택 수단은 일정한 방위각(도 1 의 각도 Φ)으로써 선택을 발생시킨다.
이러한 이메이지 선택 수단은 평면(P1) 또는 평면(P2)과 무관하게 배치될 수 있다.
고려된 예에 있어서, 이메이지 선택 수단으로서, 불투명 재료로 형성된 직선의 슬릿(16)을 사용한다. 이러한 예에서, 슬릿(16)은 축(U 및, Z)에 의해 형성된 평면내에 있으며 축(U)에 대하여 평행하다.
도 2a 의 공간 분포 측정 장치는 광 분산 수단(18)을 구비하는데, 이것은 예를 들면 전달 또는 반사에서 사용된 회절 격자 또는 프리즘을 구비한다. 이러한 광 분산 수단은 평면(P2)의 뒤에 배치된다. 더욱이, 이러한 광 분산 수단은 분산 방향이 선택의 방향(슬릿(16)의 방향)에 직각이도록 배치되는 것이 유리하다.
도 2b 는 도 2a 의 개략적인 부분도이며 여기에서는 광 분산 수단(18)이 도시되어 있다. 도 2b 의 경우에 있어서, 상기 공간 분포 측정 장치는 해석을 위한 직선 부분에 직각인 방향에서, 또는 보다 정확하게는 그 평면에서 도시되어 있으며, 즉, 분산의 평면에서 도시되어 있다. 고려되는 예는 축(Z) 및, 축(V)에 의해 한정된 평면에 관한 것이다.
분산된 광은 이메이지 센서(14)에 도달하며, 고려된 측정 영역(4)에 의해 방사된 광의 스펙트럼 구성에 따라서, 적색광(20)의 비임으로부터 녹색광(24)의 비임을 통하는 보라색 광(22)의 비임의 범위일 수 있다.
이메이지 센서(14)는, 예를 들면 광 검출기 또는 CCD 소자를 구비하는 2 차원 센서이며, 이메이지 선택 수단의 주어진 위치에 대하여, 한편으로는 일 방향에서 발광의 강도를 각도(θ)의 함수로, 그리고 다른 한편으로는 직각의 방향에서 발광의 강도를 파장의 함수로 해석할 수 있게 한다.
바람직스럽게는 이러한 이메이지 센서의 축이 위에서 언급한 두개의 방향에 대응하는 방식으로 배치된다.
이러한 이메이지 센서가 CCD 유형의 센서일때, 만약 분산의 방향이 CCD 유형인 상기 센서의 컬럼(column)에 직각으로 배열되었다면, 분산의 방향은 픽셀내에 포함된 전하들의 그룹화(grouping)를 사용함으로써 공간 분포 측정 장치의 강도를 파장의 함수로 조절할 수 있게 한다.
이메이지 센서(14)는 전자 신호 처리 수단(26)과 연관되는데, 이것은 이메이지 센서에 의해서 수집된 정보를 처리하고 그리고 측정 영역(4)의 스펙트럼 응답을 측정된 직선 부분의 각 지점에 연관시킨다. 이러한 정보는 적합화된 샘플링 과정에 의하여 공간 분포 측정 장치의 실제 응답으로부터 정정된다.
그렇게 획득된 스펙트럼 정보는 적절한 계수에 의한 가중치화(weighting)를 통해서 고려된 각각의 각도(θ)에 대한 비색계 좌표(colorimetric coordinate)를 계산할 수 있게 한다.
전자 신호 처리 수단(26)에는 각각의 각도(θ)에 대한 비색계 좌표의 결과를 디스플레이하기 위한 디스플레이 수단(미도시)이 제공된다.
도 2c 에 있어서, 이메이지 센서(14)에 의해서 수집된 발광 신호가 나타나 있다. 이러한 신호들은 이메이지 센서의 평면에 표시된다. 이러한 평면의 지점들은 두개의 축(x 및, y)의 보조로 표시된다. y 축에 따라서, 검사된 각도(θ)에 관련된 데이타를 찾게 되고, 축(x)를 따라서, 파장에 관련된 데이타를 찾게 된다.
이메이지 센서(14)의 덕분으로 수집된 정보의 해석은, 검사되는 측정 영역에 의해서 방사되는 광에 존재하는 가시 스펙트럼의 모든 파장에 대하여, 직선 부분내의 다양한 입사각에 따른 정보를 제공한다.
따라서 도 2a 및, 도 2b 의 공간 분포 측정 장치는, 푸리에 평면(P1)에 있는 그 어떤 부분에 대하여, 공간 및, 스펙트럼의 분포 특성들을 동시에 측정할 수 있게 한다. 고려된 예에 있어서, 이러한 부분은 일정한 방위각을 가진 부분이다.
이메이지 선택 수단이 평면(P1)의 이메이지의 직선 부분을 선택할 수 있게 하여, 상기 직선 부분이 공간 분포 측정 장치(이 경우에는 고려되는 예에 있는 공간 분포 측정 장치)의 광축(Z)을 따라서 통과할때, 상이한 방위각들에 대응하여 평면(P1)에 포함된 이메이지의 상이한 직선 부분들을 검토하는 것이 가능한 방식으로, 목적물과, 따라서 측정 영역(4)을 광축(Z)의 둘레로 회전시킬 수 있고, 따라서 측정 영역(4)의 응답을 모든 해석의 절반-공간내에서 재구성할 수 있다.
이러한 것은 도 3 에서 개략적으로 도시되어 있는데, 여기에서는 목적물(2)이 지지부(34)상에 설정되어 있으며, 상기 지지부는 도 2a 및, 도 2b 를 참고로 설명되었던 공간 분포 측정 장치(38)의 광축(Z)의 둘레로 목적물(2) 및, 따라서 측정 영역(4)을 회전시킬 수 있는 것으로서, 지지부(34)를 회전시키기 위한 지지부 회전 수단(36)이 구비된 것이다.
또한 모든 각도(θ및, Φ)에 대하여 주사함으로써 측정 영역의 행동을 재구성하는 방식으로, 상기에 언급된 푸리에 평면(P1) 또는 평면(P2)에서 이메이지 선택 수단을 변위시킬 수 있으며, 즉 슬릿(16)을 변위시킬 수 있다.
바람직스럽게는, 이러한 변위가 광축(Z)을 중심으로 하는 슬릿(16)의 회전에 의해서 이루어지는데, 상기 슬릿은 위에서 도시된 바와 같이 평면(P1) 또는 평면(P2)에 배치된다.
도 2a 에 표시된 바와 같이, 이러한 슬릿은 이후에 적합화된 슬릿 회전 수단(40)에 의해서 회전되도록 만들어지는데, 상기 슬릿 회전 수단은 슬릿을 회전과 연계시키는 기계적 수단 및, 관련된 전자 모터 제어 수단뿐만 아니라, 예를 들면 모터를 구비한다.
광의 분산이 직선 부분에 대하여 직각이 되는 것을 보증하기 위하여, 광 분산 수단(18)은 회전에 있어서 이메이지 선택 수단(즉, 고려되는 예에서는 슬릿(16))과 연결되어야 하며, 이것은 전문가들에게 가능하다.
바람직스럽게는, 이메이지 센서(14)의 평면에서 해석을 단순화하기 위하여, 도 2a 및, 도 2b 의 공간 분포 측정 장치에 회전 해제 장치(de-rotator device, 42)를 부가하게 되며, 상기 회전 해제 장치는 슬릿(16)의 각도상 위치가 무엇이든지 간에 이메이지 센서(14)에 의해서 수집된 데이타에 대하여 동일한 배향을 유지할 수 있는 방식으로 빛의 광학적 경로에 배치된다.
이러한 회전 해제 장치(42)는 그것이 자체의 역할을 수행할 수 있도록 상기 슬릿(16)의 뒤에 삽입된다.
이메이지 선택 수단(고려되는 예에서의 슬릿(16))이 평면(P1)의 레벨에 설정되어 있을때, 회전 해제 장치(42)는 수렴성 제 2 렌즈(8)와 릴레이 대물 렌즈(12) 사이에 배치되거나 또는 상기 릴레이 대물 렌즈(12)와 광 분산 수단(18) 사이에 배치된다.
이메이지 선택 수단이 평면(P2)의 레벨에 배치되어 있을때, 회전 해제 장치(42)는 이러한 이메이지 선택 수단과 광 분산 수단(18) 사이에 설정된다.
이러한 회전 해제 장치(42)가 사용되는 경우에, 회전에 있어서 광 분산 수단을, 여기에 고려되는 예에서는 슬릿(16)에 해당하는 이메이지 선택 수단과 더 이상 연결시킬 필요가 없는데, 이는 상기 광 분산 수단들이 회전 해제의 결과로서 이메이지 센서(14)에 대하여 고정된 위치를 유지하기 때문이다.
이러한 광 분산 수단(18)은 하나 또는 수개의 회절 격자, 또는 하나 또는 수개의 프리즘의 사용에 기초할 수 있다.
그러한 광 분산 수단의 예는 도 4 에서 개략적으로 도시되어 있으며, 광 분산 수단용의 수렴 렌즈(44), 회절 격자(46) 및, 광 분산 수단용의 다른 수렴 렌즈(48)를 차례로 구비한다.
도 4 는 이러한 광 분산 수단의 예를 사용하는 공간 분포 측정 장치의 광축(Z)을 도시한다. 이러한 예에서, 이메이지 센서(14)가 축(Z)상에 있지 않은 것이 주목된다.
도 4 는 분산이 관찰되는 평면내의 광 분산 수단의 예를 도시한다는 것이 주목되어야 한다. 이러한 평면은 회전 해제 장치가 사용되었을때 회전 해제 장치의 출구에서 고려되는 선택 평면에 대하여, 또는 상기 회전 해제 장치가 사용되지 않을때 슬릿(16)의 출구에서 고려되는 선택 평면에 대하여 직각이다.
슬릿(16)의 이메이지(50)는 광 분산 수단용의 수렴 렌즈(44)에 의해서 평행화된다. 이러한 슬릿으로부터 나오는 발산 비임은 평행 광선의 비임으로 변형된다.
이러한 평행 광선의 비임은 회절 격자(46)로 보내진다. 그러나 분산 재료의 프리즘이 이러한 회절 격자 대신에 사용될 수 있다. 평행 광선의 비임은 이후에 파장들이 상이한 다중의 비임들로 분산된다.
상이한 파장을 가진 상기 비임들은 광 분산 수단용의 다른 수렴 렌즈(48)의 덕분에 초점을 맞추게 되는데, 동일한 파장의 광선들은 동일한 지점에 초점을 맞추게 된다. 이렇게 획득된 이메이지는 센서(14)에 의해서 수집된다.
이제 회전 해제 장치(42)를 설명하기로 한다.
상기 회전 해제 장치의 목적은 이메이지 축의 회전을 그것의 광축의 둘레로 수행하도록 하는 것이다. 도 2a 및, 도 2b 를 참조하여 설명된 공간 분포 측정 장치에서의 그것의 사용은 이메이지 선택 수단인 슬릿(16)의 각도 위치가 어떠하든간에 이메이지 센서(14)상에서 획득된 이메이지의 축을 재정렬할 수 있게 한다.
실제에 있어서, 그러한 회전 해제 장치를 제조하려면, 프리즘 또는 미러가 사용된다.
다양한 회전 해제 장치가 공지되어 있다. 예를 들면, 이러한 주제에 대해서는 W. J. 스미스가 저술한 "현대 광학 공학"을 참조할 수 있다. 순수하게 예시적인 것이고 비 제한적인 예로서, 그러한 회전 해제 장치를 제조하려면, 도브(Dove), 루프리스-아베(roofless-Abbe) 또는 페칸(Pechan) 유형의 프리즘을 사용할 수 있다.
도 5 에서 개략적으로 나타낸 회전 해제 장치의 예는 루프리스-아베 유형의 프리즘을 구비한다. 그러한 회전 해제 장치내의 광 경로는 평행한 광선의 비임에 대하여 도시되어 있다.
도 5 에 있어서, 회전 해제 장치의 기하학적인 회전축(Z)이 도시되어 있는데, 이것은 화살표 51 로 표시된, 회전 해제 장치 회전용 회전 수단에 의해서 회전되도록 제작된 것이다. 이러한 축(Z)은 도 2a 및, 도 2b 의 공간 분포 측정 장치에서 사용된 이메이지 선택 수단의 회전축 이기도 하다.
도 5 의 예에서, 상기 도면의 회전 해제 장치가 광 비임의 경로내에 배치된다면, 회전 해제 장치로부터의 출구에서 획득되는 결과적인 이메이지는, 회전 해제 장치가 회전 각도(α)를 통과할때 회전 각도(2α)를 받게 된다. 따라서 방위각(φ)의 회전을 보상하기 위해서 회전 해제 장치는 φ=-2α이도록 회전 각도를 통해야만 한다.
도 2a 의 본 발명에 따른 공간 분포 측정 장치에 있어서, 회전 해제 장치(42)는 선택 평면의 회전을 정확하게 보상하기 위하여 모터 및 전자부의 제어에 관련된 전자 수단을 구비하는 회전 해제 장치 제어 수단(52)의 덕분으로 회전되도록 만들어진다.
회전 해제 장치(42)와 관련된 전자 모터 제어 수단(미도시)은 이메이지 선택 수단인 슬릿(16)과 관련된 전자 모터 제어 수단(미도시)에 결합된다.
이러한 결합은 이메이지의 회전 각도를 조절하기 위한 조절 수단(54)의 덕분으로 수행되며, φ= -2α의 관계가 필요한 정확도와 함께 발생하는 것을 보장한다.
발광 플럭스(flux)하의 목적물의 측정, 특히 반사되는 목적물의 측정은 도 2a 및, 도 2b 의 공간 분포 측정 장치를 가지고 이러한 장치를 도 6 및, 도 7 을 참조하여 설명될 것과 같이 조절함으로써 수행될 수 있다.
선광기 입방체(separator cube) 또는 그와 유사한 세미(semi) 반사 수단(56)은 수렴성의 제 2 렌즈(8)의 이후에(도 6), 또는 수렴성 제 1 렌즈(6)와 수렴성 제 2 렌즈(8) 사이에(도 7) 광 경로내로 삽입된다.
도 6 및, 도 7 은 설명을 단순화하기 위하여 스펙트럼 해석에 필요한 요소를 도시하지 않고, 그렇게 수정된 공간 분포 측정 장치의 작동을 상세하게 도시한다.
세미 반사 수단(56)은 나머지 공간 분포 측정 장치의 방향에서 광 비임의 전파를 방지하지 않는다. 따라서, 목적물(2)을 여전히 조명하면서 측정을 할 수 있다.
무엇보다도, 도 6 의 공간 분포 측정 장치의 예를 고려하기로 한다.
도 1 및, 도 2a 의 설명에서 참조되었던 측정 영역(4)을 구비하는 목적물(2) 표면의 영역을 조명하기로 한다. 바람직하게는 원형이고, 세미 반사 수단(56)을 매개로 수렴성의 제 1 렌즈(6) 및 수렴성의 제 2 렌즈(8)에 의해서 조명 영역(57)과 광학적으로 결합된 제 2 다이아프램(58)은 이러한 조명 영역(57)을 한정하도록 사용된다.
제 2 다이아프램(58)과 조명 영역(57) 사이의 결합 특성은 영역(4)과 제 1 다이아프램(10) 사이에 적용된 특성에 비교될 수 있으며, 특히 1/cosθ1 으로서 변화하는 표면 보상과 확대에 관하여 그러하며, 여기에서 θ1 은 제 2 다이아프램(58)으로부터 도달하는 광 비임의 조명 영역(57)에 대한 입사 각도이다.
세미 반사 수단(56)에 대한 관계로 제 2 다이아프램(58)의 이후에 배치된 수렴성 제 3 렌즈(60)는, 도 6 에 도시된 바와 같은 세미 반사 수단(56)의 매개를 통하여 수렴성 제 2 렌즈(8)와 연관되어 푸리에 변형의 평면(P1)과 평면(P3) 사이의 결합을 수행한다.
발광원(62)은 이러한 평면(P3)에 삽입된다. 이러한 발광원(62)은 연장원(extended source), 평면(P3)내의 그 어떤 위치에 배치된 점원(point source) 또는 조명 영역(57)의 레벨에서 요구되는 조명의 각도 분포를 재생시킬 수 있게 하는 그 어떤 다른 원일 수 있다.
다음에, 도 7 의 예를 고려하면 여기에서는 수렴성 제 2 렌즈(8)(미도시)가 세미 반사 수단(56)의 우측에서 축(Z) 상에 있다.
수렴성 제 1 렌즈(6)와 관련하여, 조명 영역(57)과 제 2 다이아프램(58) 사이에서의 광학적 결합을 수행할 수 있도록, 도 7 에 도시된 바와 같이, 보조적인 수렴성 제 4 렌즈(64)는 세미 반사 수단(56)와 제 2 다이아프램(58) 사이에서 도 6 의 공간 분포 측정 장치에 부가된다.
도 2a 의 공간 분포 측정 장치를 다시 참고하기로 한다.
이러한 공간 분포 측정 장치를 제어하고 데이타를 수집하기 위하여, 이메이지 선택 수단과 관련된 전자 모터 제어 수단, 회전 해제 장치(42)와 관련된 전자 모터 제어 수단 및, 이메이지의 회전 각도를 조절하기 위한 조절 수단(54) 및, 이메이지 센서(14)에 의해서 제공된 신호 처리를 위한 전자 신호 처리 수단(26)은 그 어떤 종류의 명령 유니트 또는 컴퓨터(66)에 연결된다.
위에 설명된 공간 분포 측정 장치는 필요한 기능을 우수하게 수행하는 것으로서, 이것은 각 에미터(emitter), 반사체 또는 광 확산체의 각도 및, 스펙트럼 분포에 관한 정보를 신속하고, 집합적으로 그리고 동시에 휙득하는 것이다.
이러한 공간 분포 측정 장치의 용량은 사용자의 요건에 적합화될 수 있다.
본 발명에 따른 "기본적인" 공간 분포 측정 장치가 설계될 수 있는데, 이것은 하나 또는 몇개의 직선 부분들에서 측정이 가능하게 한다.
조명 플럭스 하의 반사 모드에 있는 샘플에 대한 측정 용량은 이러한 기본적인 공간 분포 측정 장치에 부가될 수 있다.
회전 해제 장치의 사용은 더욱이 사용자의 필요에 따른 모든 가능한 방위각을 해석할 수 있게 한다.
예를 들면, 여기에서 고려된 유형의 조사 또는 반사 목적물의 제조 유니트에서, 방위각이 각각 φ=0°및, Φ= 90 °인 단지 두개의 방향을 해석할 수 있게 한다.
본 발명은 특히 디스플레이 스크린에 적용될 수 있다.

Claims (12)

  1. 목적물(2)의 측정 영역(4)에 대한 스펙트럼 방사의 공간 분포 측정 장치로서, 상기 공간 분포 측정 장치는:
    - 제 1 렌즈의 푸리에 평면(P1)에서, 측정 영역의 광학적 푸리에 변형을 구성하는 제 1 의 이메이지를 형성하기 위한 제 1 렌즈(6),
    - 제 1 다이아프램(10),
    - 제 1 렌즈(6)와 제 1 다이아프램 사이에 설정되고, 제 1 다이아프램의 개구가 제 1 렌즈 및 제 2 렌즈에 의해서 측정 영역(4)과 광학적으로 결합되도록 그리고 측정 영역이 제 1 다이아프램(10)을 통하여 관찰되었을 때 그것이 관찰의 방향에 독립적인 가시적인 표면을 가지도록 제 1 렌즈(6)와 협동하고, 제 1 렌즈와 함께 공간 분포 측정 장치의 광축을 구성하는 공통의 광축(Z)을 가지는, 제 2 렌즈(8),
    - 선택의 방향에 따라서 제 1 이메이지의 직선 부분을 선택하는, 이메이지 선택 수단,
    - 제 1 이메이지의 선택된 부분에 대응하여 광을 분산시키는, 광 분산 수단(18),
    - 분산된 광을 수광하고 분산된 광을 표시하는 신호를 제공하기 위한, 2 차원의 이메이지 센서(14),
    - 제 1 다이아프램 이후에 배치되고, 제 1 이메이지를 2 차원의 이메이지 센서로 전송하기 위한, 릴레이 대물 렌즈 및,
    - 제 1 이메이지의 직선 부분의 각 지점에 대한 측정 영역(4)의 스펙트럼 응답을 결정할 수 있으며, 이메이지 센서에 의해 제공된 신호들을 처리하기 위한, 전자 신호 처리 수단(26)을 구비하는 스펙트럼 방사의 공간 분포 측정 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    제 1 다이아프램(10)은 원형의 개구를 가지는 것을 특징으로 하는, 스펙트럼 방사의 공간 분포 측정 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    광 분산 수단(18)은 선택의 방향에 직각인 분산 방향을 따라서 광을 분산시킬 수 있는 것을 특징으로 하는, 스펙트럼 방사의 공간 분포 측정 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    이메이지 선택 수단은, 목적물(2)로부터 나오는 광에 불투명한 재료를 통해서 형성된 직선의 슬릿(16)을 구비하는 것을 특징으로 하는, 스펙트럼 방사의 공간 분포 측정 장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    선택의 방향은 공간 분포 측정 장치의 광축(Z)을 통해서 지나가는 것을 특징으로 하는, 스펙트럼 방사의 공간 분포 측정 장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    공간 분포 측정 장치의 광축(Z)의 둘레에서 목적물(2)을 회전시키기 위한 목적물 회전 수단을 더 구비하는 것을 특징으로 하는, 스펙트럼 방사의 공간 분포 측정 장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    선택의 방향이 제 1 의 이메이지를 주사하고, 따라서 이메이지 선택 수단이 상기 제 1 이메이지의 연속적인 직선 부분들을 선택하는 방식으로 이메이지 선택 수단을 변위시키는 변위 수단을 더 구비하는 것을 특징으로 하는, 스펙트럼 방사의 공간 분포 측정 장치.
  8. 제 7 항에 있어서,
    이메이지 선택 수단은 목적물(2)로부터 나오는 빛에 불투명한 재료를 통해서 형성되고 그리고 선택의 방향을 한정하는 직선의 슬릿(16)을 구비하고, 이러한 슬릿은 공간 분포 측정 장치의 광축(Z)을 통해서 지나가며, 그리고 변위 수단은 이러한 광축의 둘레로 슬릿을 회전시키는 슬릿 회전 수단(40)이며 광 분산 수단(18)은 선택의 방향 및, 따라서 슬릿에 대하여 직각으로 유지되는 분산의 방향을 따라서 광을 분산시킬 수 있는 것을 특징으로 하는, 스펙트럼 방사의 공간 분포 측정 장치.
  9. 제 7 항에 있어서,
    이메이지 선택 수단은 목적물(2)로부터 나오는 빛에 불투명한 재료를 통해서 형성되고 그리고 선택의 방향을 한정하는 직선의 슬릿(16)을 구비하고, 이러한 슬릿은 공간 분포 측정 장치의 광축(Z)을 통해서 지나가며, 변위 수단은 이러한 광축의 둘레로 슬릿을 회전시키는 슬릿 회전 수단(40)이며, 공간 분포 측정 장치는 슬릿(16)과 광 분산 수단(18)의 사이에 설정되고 이메이지 센서(14)에 의해서 수광된 분산광의 배향을 일정하게 유지시키도록 제공된 회전 해제 장치(42)를 더 구비하는 것을 특징으로 하는, 스펙트럼 방사의 공간 분포 측정 장치.
  10. 제 1 항에 있어서,
    측정 영역(4)을 포함하는 목적물의 영역을 조명하기 위하여 그리고 그렇게 조명된 측정 영역(4)으로부터 제 1 다이아프램(10)을 향해 배향되는 광을 통과시키기 위하여, 발광원(62) 및, 발광원에 의해 조사된 광을 목적물(2)을 향하여 반사시키도록 제공된 세미 반사 수단(56)을 더 구비하는 것을 특징으로 하는, 스펙트럼 방사의 공간 분포 측정 장치.
  11. 제 10 항에 있어서,
    세미 반사 수단(56)은 제 2 렌즈(8)와 제 1 다이아프램(10) 사이에 설정되고, 상기 공간 분포 측정 장치는:
    - 조명 영역(57)을 한정하는 개구를 가지는 제 2 다이아프램(58)으로서, 상기 제 2 다이아프램의 개구는 제 1 렌즈(6) 및 제 2 렌즈(8)에 의해 형성된 설정(set)에 의해서 조명 영역과 광학적으로 결합되는 제 2 다이아프램(58) 및,
    - 제 3 렌즈 (60)를 더 구비하고,
    광원(62)은 제 2 렌즈(8) 및 제 3 렌즈(60)에 의해 형성된 설정에 의해서 제 1 렌즈(6)의 푸리에 평면(P1)과 광학적으로 결합된 평면(P3)에서 설정되는 것을 특징으로 하는, 스펙트럼 방사의 공간 분포 측정 장치.
  12. 제 10 항에 있어서,
    세미 반사 수단(56)은 제 1 렌즈(6)와 제 2 렌즈(8) 사이에 설정되고, 상기 공간 분포 측정 장치는:
    - 제 3 렌즈(60) 및 제 4 렌즈(64), 그리고,
    - 조명 영역(57)을 한정하는 개구(opening)를 가지는 제 2 다이아프램(58)으로서, 상기 제 2 다이아프램의 개구는 제 1 렌즈(6) 및 제 4 렌즈(64)에 의해 형성된 설정에 의해서 조명 영역과 광학적으로 결합되는 제 2 다이아프램(58)을 더 구비하고,
    광원(62)은 제 3 렌즈(60) 및 제 4 렌즈(64)에 의해 형성된 설정에 의해서 제 1 렌즈(6)의 푸리에 평면(P1)과 광학적으로 결합된 평면(P3)에서 설정되는 것을 특징으로 하는, 스펙트럼 방사의 공간 분포 측정 장치.
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Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2833743B1 (fr) * 2001-12-17 2004-02-20 Eldim Procede et dispositif a faible resolution d'acquisition pour le controle d'un ecran d'affichage
WO2006029890A1 (en) * 2004-09-18 2006-03-23 Ecole Polytechnique Federale De Lausanne Industrial Relations Office (Sri) Time-resolved spectroscopic measurement apparatus
EP1640706A1 (en) * 2004-09-22 2006-03-29 Eldim Sa Wavelength and incidence angle resolved ellipsometer or reflectometer
WO2006091782A1 (en) * 2005-02-25 2006-08-31 Accent Optical Technologies, Inc. Apparatus and method for enhanced critical dimension scatterometry
TWI314987B (en) * 2006-08-15 2009-09-21 Ind Tech Res Inst Multi-angle and multi-channel inspecting device
WO2009062197A1 (en) * 2007-11-09 2009-05-14 Deltanu, Inc. Optical beam spectrometer
US8045179B1 (en) 2008-07-30 2011-10-25 Kla-Tencor Corporation Bright and dark field scatterometry systems for line roughness metrology
CN102692207B (zh) 2011-03-25 2014-07-30 财团法人工业技术研究院 量测方法与量测装置
FR2986337B1 (fr) 2012-01-31 2014-09-05 Jean-Pierre Lauret Systeme optique destine a mesurer la brdf, bsdf et bdtf
CN106289725B (zh) * 2015-06-09 2019-01-15 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 红外探测器的光谱响应度的测量系统和测量方法
FR3079612B1 (fr) * 2018-03-29 2021-06-04 Eldim Dispositif optique permettant de mesurer simultanement l'emission angulaire et spectrale d'un objet
US10872403B2 (en) 2018-08-10 2020-12-22 Micron Technology, Inc. System for predicting properties of structures, imager system, and related methods
KR102085601B1 (ko) * 2019-02-01 2020-03-09 ㈜킴스옵텍 발광 소자의 지향 각 측정 장치
JP7283190B2 (ja) * 2019-04-05 2023-05-30 ウシオ電機株式会社 分光測定装置及び分光測定方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR930010542A (ko) * 1991-11-19 1993-06-22 도사키 시노부 표면상태측정장치
FR2749388A1 (fr) * 1996-05-31 1997-12-05 Eldim Appareil de mesure des caracteristiques photometriques et colorimetriques d'un objet

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2613830B1 (fr) 1987-04-08 1990-11-02 Commissariat Energie Atomique Dispositif pour determiner le contraste d'un ecran d'affichage en fonction de la direction d'observation
EP0614645A4 (en) * 1992-08-31 1996-04-03 Hitachi Ltd COMPUTER OPTICAL TOMOGRAPHY APPARATUS.
FR2729220B1 (fr) 1995-01-06 1997-04-04 Eldim Dispositif de mesure colorimetrique d'un ecran d'affichage
US5724135A (en) * 1996-03-27 1998-03-03 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Hyper-spectral imaging using rotational spectro-tomography

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR930010542A (ko) * 1991-11-19 1993-06-22 도사키 시노부 표면상태측정장치
KR0159954B1 (ko) * 1991-11-19 1999-03-30 도사키 시노부 표면상태측정장치
FR2749388A1 (fr) * 1996-05-31 1997-12-05 Eldim Appareil de mesure des caracteristiques photometriques et colorimetriques d'un objet
JPH1062303A (ja) * 1996-05-31 1998-03-06 Eldim Sa 物体の光度および色度を測定するための装置

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Publication number Publication date
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