JPH10185765A - レンズメーター - Google Patents
レンズメーターInfo
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- JPH10185765A JPH10185765A JP8341840A JP34184096A JPH10185765A JP H10185765 A JPH10185765 A JP H10185765A JP 8341840 A JP8341840 A JP 8341840A JP 34184096 A JP34184096 A JP 34184096A JP H10185765 A JPH10185765 A JP H10185765A
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- light
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
- G01M11/02—Testing optical properties
- G01M11/0242—Testing optical properties by measuring geometrical properties or aberrations
- G01M11/0257—Testing optical properties by measuring geometrical properties or aberrations by analyzing the image formed by the object to be tested
- G01M11/0264—Testing optical properties by measuring geometrical properties or aberrations by analyzing the image formed by the object to be tested by using targets or reference patterns
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 パターン板の中心位置に対応するパターン像
の中心位置の決定を迅速にかつ正確に行うことができる
レンズメーターを提供する 【解決手段】 本発明のレンズメーターは、被検レンズ
３０のレンズ特性測定用パターン２８ｃを有するパター
ン板２８が光源部２０により発生された測定光束Ｐ２の
投光光路３１に設けられ、投光光路３１にセットされた
被検レンズ３０に測定光束Ｐ２を投光することによりレ
ンズ特性測定用パターンの像２８ｃ´を受像しかつその
受像パターンを解析することにより被検レンズ３０のレ
ンズ特性をマッピング表示するものであって、光源部２
０は測定光束発生用の光源２１とは別個にパターン板３
０によるパターン像の位置特定用光束Ｐ１を発生する光
源２３を有している。
の中心位置の決定を迅速にかつ正確に行うことができる
レンズメーターを提供する 【解決手段】 本発明のレンズメーターは、被検レンズ
３０のレンズ特性測定用パターン２８ｃを有するパター
ン板２８が光源部２０により発生された測定光束Ｐ２の
投光光路３１に設けられ、投光光路３１にセットされた
被検レンズ３０に測定光束Ｐ２を投光することによりレ
ンズ特性測定用パターンの像２８ｃ´を受像しかつその
受像パターンを解析することにより被検レンズ３０のレ
ンズ特性をマッピング表示するものであって、光源部２
０は測定光束発生用の光源２１とは別個にパターン板３
０によるパターン像の位置特定用光束Ｐ１を発生する光
源２３を有している。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、被検レンズのレン
ズ特性をマッピング表示することが可能なレンズメータ
に関する。
ズ特性をマッピング表示することが可能なレンズメータ
に関する。
【０００２】
【従来の技術】近時、レンズメーターには、図１７に示
すように、被検レンズのレンズ特性測定用パターン５０
ａとしての円形孔を有するパターン板５０を光源部によ
り発生された測定光束の投光光路に設け、被検レンズと
しての例えば累進焦点レンズをその投光光路にセット
し、その投光光路にセットされた累進焦点レンズに測定
光束を投光することによりレンズ特性測定用の多数のパ
ターン像をＣＣＤに受像し、かつ、その受像パターンを
解析することにより、球面度Ｓ（図１８（ａ）参照）、
円柱度Ｃ（図１８（ｂ）参照）、軸角度Ａ（図１８
（ｃ）参照）、プリズム度Ｐｒｓ（図１８（ｄ）参照）
を画面３ａに画像表示（マッピング表示）するものが現
われてきている。
すように、被検レンズのレンズ特性測定用パターン５０
ａとしての円形孔を有するパターン板５０を光源部によ
り発生された測定光束の投光光路に設け、被検レンズと
しての例えば累進焦点レンズをその投光光路にセット
し、その投光光路にセットされた累進焦点レンズに測定
光束を投光することによりレンズ特性測定用の多数のパ
ターン像をＣＣＤに受像し、かつ、その受像パターンを
解析することにより、球面度Ｓ（図１８（ａ）参照）、
円柱度Ｃ（図１８（ｂ）参照）、軸角度Ａ（図１８
（ｃ）参照）、プリズム度Ｐｒｓ（図１８（ｄ）参照）
を画面３ａに画像表示（マッピング表示）するものが現
われてきている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、この種のレ
ンズメーターでは、被検レンズの光軸が投光光路の光軸
に対して偏心してセットされた場合でも、パターン板５
０の中心位置Ｏ0に対応するパターン像の中心位置が決
定できるように、パターン板５０の中央部に例えば４個
のスリット５０ｂ〜５０ｅからなりかつ全体として正方
形状の中心位置決定用パターン（位置特定用パターン）
５１が形成されている。そして、この種のレンズメータ
ーでは、そのパターン板５０の中心位置Ｏ0に対応する
パターン像の中心位置を決定する決定手段を備えてい
る。その決定手段は、ＣＣＤに受像された多数のパター
ン像を画像処理することにより、レンズ特性測定用パタ
ーン５０ａの像と中心位置決定用パターン５１の像との
形状の相違を識別して、中心位置決定用パターン５１の
像を抽出し、この抽出した中心位置決定用パターン５１
の像に基づいて、パターン板５０の中心位置Ｏ0に対応
するパターン像の中心位置を決定している。しかしなが
ら、パターン板５０にはレンズ特性測定用パターン５０
ａが１０００個程度設けられており、パターン板５０の
中心位置Ｏ0に対応するパターン像の中心位置を決定す
るためには、１０００個程度のレンズ特性測定用パター
ン５０ａの像と中心位置決定用パターン５１の像とを画
像処理しなければならない。このため、画像処理に時間
がかかり、迅速にパターン板５０の中心位置Ｏ0に対応
するパターン像の中心位置を決定できないという不都合
がある。特に、投光光路にセットされた被検レンズをそ
の投光光路を横切る方向にその被検レンズを移動させた
場合、画面３ａに表示されている画像情報をその移動に
追従して迅速に移動させ難い。また、この種のレンズメ
ーターには、パターン板５０に多数のレンズ特性測定用
パターン５０ａを設け、パターン板５０の中心位置Ｏ0
に対応するレンズ特性測定用パターン５０ａを欠落させ
ることにより、そのパターン板５０の中心位置Ｏ0に対
応するレンズ特性測定用パターン５０ａの像の欠落情報
に基づいて、パターン板５０の中心位置Ｏ0に対応する
パターン像の中心位置を決定するようにしたものもあ
る。しかし、このパターン板５０の中心位置Ｏ0に位置
すべきレンズ特性測定用パターン５０ａを欠落させる構
成のレンズメーターの場合、パターン板５０が汚れて本
来あるべきレンズ特性測定用パターン５０ａが１個でも
欠落すると、レンズ特性測定用パターン５０ａの像の欠
落箇所が２個以上となるため、パターン板５０の中心位
置Ｏ0に対応するパターン像の中心位置を決定できない
という不具合がある。また、未加工レンズには、ペイン
トマークが施されているが、ペイントマークが施されて
いる箇所では、測定光束が遮られることになるため、こ
の場合もレンズ特性測定用パターン５０ａの像の欠落箇
所が２個以上となり、パターン板５０の中心位置Ｏ0に
対応するパターン像の中心位置を決定できない。
ンズメーターでは、被検レンズの光軸が投光光路の光軸
に対して偏心してセットされた場合でも、パターン板５
０の中心位置Ｏ0に対応するパターン像の中心位置が決
定できるように、パターン板５０の中央部に例えば４個
のスリット５０ｂ〜５０ｅからなりかつ全体として正方
形状の中心位置決定用パターン（位置特定用パターン）
５１が形成されている。そして、この種のレンズメータ
ーでは、そのパターン板５０の中心位置Ｏ0に対応する
パターン像の中心位置を決定する決定手段を備えてい
る。その決定手段は、ＣＣＤに受像された多数のパター
ン像を画像処理することにより、レンズ特性測定用パタ
ーン５０ａの像と中心位置決定用パターン５１の像との
形状の相違を識別して、中心位置決定用パターン５１の
像を抽出し、この抽出した中心位置決定用パターン５１
の像に基づいて、パターン板５０の中心位置Ｏ0に対応
するパターン像の中心位置を決定している。しかしなが
ら、パターン板５０にはレンズ特性測定用パターン５０
ａが１０００個程度設けられており、パターン板５０の
中心位置Ｏ0に対応するパターン像の中心位置を決定す
るためには、１０００個程度のレンズ特性測定用パター
ン５０ａの像と中心位置決定用パターン５１の像とを画
像処理しなければならない。このため、画像処理に時間
がかかり、迅速にパターン板５０の中心位置Ｏ0に対応
するパターン像の中心位置を決定できないという不都合
がある。特に、投光光路にセットされた被検レンズをそ
の投光光路を横切る方向にその被検レンズを移動させた
場合、画面３ａに表示されている画像情報をその移動に
追従して迅速に移動させ難い。また、この種のレンズメ
ーターには、パターン板５０に多数のレンズ特性測定用
パターン５０ａを設け、パターン板５０の中心位置Ｏ0
に対応するレンズ特性測定用パターン５０ａを欠落させ
ることにより、そのパターン板５０の中心位置Ｏ0に対
応するレンズ特性測定用パターン５０ａの像の欠落情報
に基づいて、パターン板５０の中心位置Ｏ0に対応する
パターン像の中心位置を決定するようにしたものもあ
る。しかし、このパターン板５０の中心位置Ｏ0に位置
すべきレンズ特性測定用パターン５０ａを欠落させる構
成のレンズメーターの場合、パターン板５０が汚れて本
来あるべきレンズ特性測定用パターン５０ａが１個でも
欠落すると、レンズ特性測定用パターン５０ａの像の欠
落箇所が２個以上となるため、パターン板５０の中心位
置Ｏ0に対応するパターン像の中心位置を決定できない
という不具合がある。また、未加工レンズには、ペイン
トマークが施されているが、ペイントマークが施されて
いる箇所では、測定光束が遮られることになるため、こ
の場合もレンズ特性測定用パターン５０ａの像の欠落箇
所が２個以上となり、パターン板５０の中心位置Ｏ0に
対応するパターン像の中心位置を決定できない。
【０００４】本発明は、上記の事情に鑑みて為されたも
ので、その目的は、パターン板の中心位置に対応するパ
ターン像の中心位置の決定（パターン像の位置の特定）
を迅速にかつ正確に行うことができるレンズメーターを
提供することにある。
ので、その目的は、パターン板の中心位置に対応するパ
ターン像の中心位置の決定（パターン像の位置の特定）
を迅速にかつ正確に行うことができるレンズメーターを
提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項１に記載
のレンズメーターは、被検レンズのレンズ特性測定用パ
ターンを有するパターン板が光源部により発生された測
定光束の投光光路に設けられ、該投光光路にセットされ
た前記被検レンズに測定光束を投光することにより前記
レンズ特性測定用パターンの像を受像しかつその受像パ
ターンを解析することにより前記被検レンズの二次元的
なレンズ特性分布をマッピング表示可能なレンズメータ
ーであって、前記光源部は前記測定光束発生用の光源と
は別個に前記パターン板によるパターン像の位置特定用
光束を発生する光源を有している。
のレンズメーターは、被検レンズのレンズ特性測定用パ
ターンを有するパターン板が光源部により発生された測
定光束の投光光路に設けられ、該投光光路にセットされ
た前記被検レンズに測定光束を投光することにより前記
レンズ特性測定用パターンの像を受像しかつその受像パ
ターンを解析することにより前記被検レンズの二次元的
なレンズ特性分布をマッピング表示可能なレンズメータ
ーであって、前記光源部は前記測定光束発生用の光源と
は別個に前記パターン板によるパターン像の位置特定用
光束を発生する光源を有している。
【０００６】本発明の請求項２に記載のレンズメーター
は、請求項１に記載のものにおいて、前記両光源の発光
量の比を変更することが可能である。
は、請求項１に記載のものにおいて、前記両光源の発光
量の比を変更することが可能である。
【０００７】本発明の請求項３に記載のレンズメーター
は、請求項１又は請求項２に記載のものにおいて、前記
光源部は測定光束を平行光束として前記被検レンズに投
光するコリメートレンズを有する。
は、請求項１又は請求項２に記載のものにおいて、前記
光源部は測定光束を平行光束として前記被検レンズに投
光するコリメートレンズを有する。
【０００８】本発明の請求項４に記載のレンズメーター
は、請求項３に記載のものにおいて、前記パターン板の
裏面にパターンを透過した測定光束を収束又は広げるレ
ンズ部が形成されている。
は、請求項３に記載のものにおいて、前記パターン板の
裏面にパターンを透過した測定光束を収束又は広げるレ
ンズ部が形成されている。
【０００９】 本発明の請求項５に記載のレンズメータ
ーは、請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載の
ものにおいて、前記測定光束発生用の光源がハロゲンラ
ンプから構成され、該ハロゲンランプは測定中に常時点
灯されている。
ーは、請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載の
ものにおいて、前記測定光束発生用の光源がハロゲンラ
ンプから構成され、該ハロゲンランプは測定中に常時点
灯されている。
【００１０】本発明の請求項６に記載のレンズメーター
は、被検レンズのレンズ特性測定用パターンを有するパ
ターン板が光源部により発生された測定光束の投光光路
に設けられ、該投光光路にセットされた前記被検レンズ
に測定光束を投光することにより前記レンズ特性測定用
パターンの像を受像しかつその受像パターンを解析する
ことにより前記被検レンズの二次元的なレンズ特性分布
をマッピング表示可能なレンズメーターであって、前記
パターン板の位置特定用パターンの透過率が前記レンズ
特性測定用パターンの透過率よりも大きいことを特徴と
する。
は、被検レンズのレンズ特性測定用パターンを有するパ
ターン板が光源部により発生された測定光束の投光光路
に設けられ、該投光光路にセットされた前記被検レンズ
に測定光束を投光することにより前記レンズ特性測定用
パターンの像を受像しかつその受像パターンを解析する
ことにより前記被検レンズの二次元的なレンズ特性分布
をマッピング表示可能なレンズメーターであって、前記
パターン板の位置特定用パターンの透過率が前記レンズ
特性測定用パターンの透過率よりも大きいことを特徴と
する。
【００１１】 本発明の請求項７に記載のレンズメータ
ーは、請求項１又は請求項６に記載のものにおいて、前
記パターン板の位置特定用パターンを透過した測定光束
に基づいて前記位置特定用パターンの像の位置を特定す
る特定手段が設けられている。
ーは、請求項１又は請求項６に記載のものにおいて、前
記パターン板の位置特定用パターンを透過した測定光束
に基づいて前記位置特定用パターンの像の位置を特定す
る特定手段が設けられている。
【００１２】本発明の請求項８に記載のレンズメーター
は、被検レンズのレンズ特性測定用パターンを有するパ
ターン板が光源部により発生された測定光束の投光光路
に設けられ、該投光光路にセットされた前記被検レンズ
に測定光束を投光することにより前記レンズ特性測定用
パターンの像を受像しかつその受像パターンを解析する
ことにより前記被検レンズの二次元的なレンズ特性分布
をマッピング表示可能なレンズメーターであって、前記
パターン板の位置特定用パターンを透過した光束に基づ
くパターン像の光量が前記レンズ特性測定用パターンを
透過した光束に基づくパターン像の光量よりも大きいこ
とに基づいて位置特定用パターン像をレンズ特性測定用
パターン像と区別することを特徴とする。
は、被検レンズのレンズ特性測定用パターンを有するパ
ターン板が光源部により発生された測定光束の投光光路
に設けられ、該投光光路にセットされた前記被検レンズ
に測定光束を投光することにより前記レンズ特性測定用
パターンの像を受像しかつその受像パターンを解析する
ことにより前記被検レンズの二次元的なレンズ特性分布
をマッピング表示可能なレンズメーターであって、前記
パターン板の位置特定用パターンを透過した光束に基づ
くパターン像の光量が前記レンズ特性測定用パターンを
透過した光束に基づくパターン像の光量よりも大きいこ
とに基づいて位置特定用パターン像をレンズ特性測定用
パターン像と区別することを特徴とする。
【００１３】本発明の請求項９に記載のレンズメーター
は、前記パターン板に形成された位置特定用パターンの
１個の透過面積が前記パターン板の他の部分に形成され
た前記レンズ特性測定用パターンの１個の透過面積より
も大きいことを特徴とする。本発明の請求項１０に記載
のレンズメーターは、前記測定光束の一部が位置特定用
光束に用いられることを特徴とする。
は、前記パターン板に形成された位置特定用パターンの
１個の透過面積が前記パターン板の他の部分に形成され
た前記レンズ特性測定用パターンの１個の透過面積より
も大きいことを特徴とする。本発明の請求項１０に記載
のレンズメーターは、前記測定光束の一部が位置特定用
光束に用いられることを特徴とする。
【００１４】
【００１５】
【発明の実施の形態１】図１は本発明に係わるレンズメ
ーターの外観図である。この図１において、１はレンズ
メーター、２はレンズメーター１の本体、３は本体２の
上部に設けられたＣＲＴ又は液晶ディスプレイ等のモニ
ター、３ａはそのモニター３の表示画面、４は本体２の
前側に設けられた上光学部品収納部、５は上光学部品収
納部の下方に位置させて設けられた下光学部品収納部、
６は下光学部品収納部５の上端に設けられたレンズ受け
テーブル、７は両収納部５、６間に位置して本体２の正
面に前後移動調整可能に保持されたレンズ当て、８は本
体２の横側に前後回動可能に保持されたレンズ当て操作
用のレバーで、このレバー８の前後回動によりレンズ当
て７が前後移動調整されるようになっている。
ーターの外観図である。この図１において、１はレンズ
メーター、２はレンズメーター１の本体、３は本体２の
上部に設けられたＣＲＴ又は液晶ディスプレイ等のモニ
ター、３ａはそのモニター３の表示画面、４は本体２の
前側に設けられた上光学部品収納部、５は上光学部品収
納部の下方に位置させて設けられた下光学部品収納部、
６は下光学部品収納部５の上端に設けられたレンズ受け
テーブル、７は両収納部５、６間に位置して本体２の正
面に前後移動調整可能に保持されたレンズ当て、８は本
体２の横側に前後回動可能に保持されたレンズ当て操作
用のレバーで、このレバー８の前後回動によりレンズ当
て７が前後移動調整されるようになっている。
【００１６】そのレンズ当て７の上縁部にはスライダ９
ａが左右動自在に保持され、このスライダ９ａには鼻当
て支持部材９が上下回動可能に保持されている。この鼻
当て支持部材９は、図示を略すスプリングで上方にバネ
付勢されていると共に水平位置で上方への回動が規制さ
れるようになっている。尚、１０は切換えスイッチ、１
１は測定開始スイッチである。
ａが左右動自在に保持され、このスライダ９ａには鼻当
て支持部材９が上下回動可能に保持されている。この鼻
当て支持部材９は、図示を略すスプリングで上方にバネ
付勢されていると共に水平位置で上方への回動が規制さ
れるようになっている。尚、１０は切換えスイッチ、１
１は測定開始スイッチである。
【００１７】このレンズ受けテーブル６には、図２に示
す段付き取り付け孔１２が形成されている。この取り付
け孔１２にはレンズ受け１３が設けられる。このレンズ
受け１３には円形の未加工レンズ（生地レンズ）、加工
済みレンズ、あるいは眼鏡フレームに枠入りされたまま
の眼鏡レンズがセットされる。
す段付き取り付け孔１２が形成されている。この取り付
け孔１２にはレンズ受け１３が設けられる。このレンズ
受け１３には円形の未加工レンズ（生地レンズ）、加工
済みレンズ、あるいは眼鏡フレームに枠入りされたまま
の眼鏡レンズがセットされる。
【００１８】本体２内には図２に示す測定光学系が設け
られている。その図２において、２０は光源部である。
光源部２０は測定光束発生用の光源２１、ピンホール板
２２、中心位置決定用光束（位置特定用光束）を発生さ
せるための光源２３、ピンホール板２４、穴空きミラー
２５、コリメートレンズ２６を有する。なお、２２ａ、
２４ａはピンホールを示し、２７は集光用凹面鏡を示
す。光源２１はハロゲンランプから構成され、光源２３
はＬＥＤから構成されている。穴空きミラー２５には開
口２５ａが形成されている。ピンホール板２２、２４は
コリメートレンズ２６の焦点位置に配置され、コリメー
トレンズ２６は光源２１、２３から出射された光束を平
行光束に変換する役割を果たし、ここでは、光源２１に
より発生された光束が符号Ｐ１で示され、光源２３によ
り発生された光束が符号Ｐ２で示されている。
られている。その図２において、２０は光源部である。
光源部２０は測定光束発生用の光源２１、ピンホール板
２２、中心位置決定用光束（位置特定用光束）を発生さ
せるための光源２３、ピンホール板２４、穴空きミラー
２５、コリメートレンズ２６を有する。なお、２２ａ、
２４ａはピンホールを示し、２７は集光用凹面鏡を示
す。光源２１はハロゲンランプから構成され、光源２３
はＬＥＤから構成されている。穴空きミラー２５には開
口２５ａが形成されている。ピンホール板２２、２４は
コリメートレンズ２６の焦点位置に配置され、コリメー
トレンズ２６は光源２１、２３から出射された光束を平
行光束に変換する役割を果たし、ここでは、光源２１に
より発生された光束が符号Ｐ１で示され、光源２３によ
り発生された光束が符号Ｐ２で示されている。
【００１９】レンズ受けテーブル６にはレンズ受け１３
がセットされる。このレンズ受け１３は、パターン板２
８とレンズ受けピン２９とから構成されている。パター
ン板２８は図３に示すように直方形状であり、レンズ受
けテーブル６の段付き取り付け孔１２に係止される。パ
ターン板２８には、レンズ受けピン装着用の円形溝２８
ａがそのパターン板２８の中心位置Ｏ１を囲むようにし
て４箇所形成されている。その円形溝２８ａにはレンズ
受けピン２９が着脱可能に装着される。そのパターン板
２８の中心位置Ｏ１の周囲でかつ円形溝２８ａの内側に
は４個の円形孔２８ｂが形成されている。そのパターン
板２８の円形溝２８ａの外側には、多数の円形孔２８ｃ
が形成されている。その円形孔２８ｂはパターン板２８
の中心位置Ｏ１に対応するパターン像の中心位置Ｏ４
（図４〜図６及び図８、図９参照）を決定するために用
いられる。円形孔２８ｃは被検レンズ３０のレンズ特性
を決定するために用いられる。その円形孔２８ｂのサイ
ズ（開口面積）と円形孔２８ｃのサイズ（開口面積）と
はその大きさが同一である。ＬＥＤ２３には指向性の大
きいものが用いられ、光源２３により出射された光束Ｐ
１は開口２５ａを通って、円形溝２８ａにより囲まれた
領域内に存在する円形孔２８ｂに投光され、光源２１に
より出射された光束Ｐ２は穴空きミラー２５により反射
されて、パターン板２８のほぼ全領域に投光される。そ
の円形孔２８ｃは規則的に等間隔を開けて形成され、円
形孔の全個数は約１０００個であり、パターン板２８の
残余の部分は遮光部２８ｄとなっている。
がセットされる。このレンズ受け１３は、パターン板２
８とレンズ受けピン２９とから構成されている。パター
ン板２８は図３に示すように直方形状であり、レンズ受
けテーブル６の段付き取り付け孔１２に係止される。パ
ターン板２８には、レンズ受けピン装着用の円形溝２８
ａがそのパターン板２８の中心位置Ｏ１を囲むようにし
て４箇所形成されている。その円形溝２８ａにはレンズ
受けピン２９が着脱可能に装着される。そのパターン板
２８の中心位置Ｏ１の周囲でかつ円形溝２８ａの内側に
は４個の円形孔２８ｂが形成されている。そのパターン
板２８の円形溝２８ａの外側には、多数の円形孔２８ｃ
が形成されている。その円形孔２８ｂはパターン板２８
の中心位置Ｏ１に対応するパターン像の中心位置Ｏ４
（図４〜図６及び図８、図９参照）を決定するために用
いられる。円形孔２８ｃは被検レンズ３０のレンズ特性
を決定するために用いられる。その円形孔２８ｂのサイ
ズ（開口面積）と円形孔２８ｃのサイズ（開口面積）と
はその大きさが同一である。ＬＥＤ２３には指向性の大
きいものが用いられ、光源２３により出射された光束Ｐ
１は開口２５ａを通って、円形溝２８ａにより囲まれた
領域内に存在する円形孔２８ｂに投光され、光源２１に
より出射された光束Ｐ２は穴空きミラー２５により反射
されて、パターン板２８のほぼ全領域に投光される。そ
の円形孔２８ｃは規則的に等間隔を開けて形成され、円
形孔の全個数は約１０００個であり、パターン板２８の
残余の部分は遮光部２８ｄとなっている。
【００２０】ここでは、レンズ受け１３には、被検レン
ズ３０として負のパワーを有する未加工レンズがセット
されているものとする。測定光束Ｐ２の投光光路３１に
は被検レンズ３０から所定距離の箇所にスクリーン３２
が設けられている。このスクリーン３２は、例えば拡散
板からなっている。
ズ３０として負のパワーを有する未加工レンズがセット
されているものとする。測定光束Ｐ２の投光光路３１に
は被検レンズ３０から所定距離の箇所にスクリーン３２
が設けられている。このスクリーン３２は、例えば拡散
板からなっている。
【００２１】その投光光路３１に被検レンズ３０がセッ
トされていないときには、光束Ｐ１、Ｐ２が平行光束の
ままパターン板２８に導かれ、このパターン板２８の各
円形孔を透過するので、その透過光束に基づきパターン
板２８に対応するパターン像が図４に示すようにスクリ
ーン３２上に投影される。その図４において、２８ｂ´
は円形孔２８ｂに対応するスクリーン３２上の像、２８
ｃ´は円形孔２８ｂ´に対応するスクリーン３２上の
像、Ｏ４は中心位置Ｏ１に対応する中心位置を示してい
る。
トされていないときには、光束Ｐ１、Ｐ２が平行光束の
ままパターン板２８に導かれ、このパターン板２８の各
円形孔を透過するので、その透過光束に基づきパターン
板２８に対応するパターン像が図４に示すようにスクリ
ーン３２上に投影される。その図４において、２８ｂ´
は円形孔２８ｂに対応するスクリーン３２上の像、２８
ｃ´は円形孔２８ｂ´に対応するスクリーン３２上の
像、Ｏ４は中心位置Ｏ１に対応する中心位置を示してい
る。
【００２２】被検レンズ３０が投光光路３１にセットさ
れると、その被検レンズ３０に光束Ｐ１、Ｐ２が投光さ
れる。その光束Ｐ１、Ｐ２は被検レンズ３０の負のパワ
ーにより変形を受けて拡散され、図５に示すようにスク
リーン３２上の像のパターン間隔は被検レンズ３０がな
いとしたときの像のパターン間隔よりも広がる。正のパ
ワーを有する被検レンズ（図示を略す）が投光光路３１
にセットされると、その光束Ｐ１、Ｐ２がその被検レン
ズの正のパワーにより変形を受けて収束され、図６に示
すようにスクリーン３２上の像のパターン間隔は被検レ
ンズ３０がないとしたときの像のパターン間隔よりも狭
まる。この像のパターン間隔をスクリーン３上の各箇所
で求めることにより、被検レンズ３０のレンズ特性（度
数分布等）を求めることができる。なお、図５、図６で
は、パターン像は被検レンズ３０の光軸Ｏ３が投光光路
３１の光軸Ｏ２と一致しているものとして示されてい
る。
れると、その被検レンズ３０に光束Ｐ１、Ｐ２が投光さ
れる。その光束Ｐ１、Ｐ２は被検レンズ３０の負のパワ
ーにより変形を受けて拡散され、図５に示すようにスク
リーン３２上の像のパターン間隔は被検レンズ３０がな
いとしたときの像のパターン間隔よりも広がる。正のパ
ワーを有する被検レンズ（図示を略す）が投光光路３１
にセットされると、その光束Ｐ１、Ｐ２がその被検レン
ズの正のパワーにより変形を受けて収束され、図６に示
すようにスクリーン３２上の像のパターン間隔は被検レ
ンズ３０がないとしたときの像のパターン間隔よりも狭
まる。この像のパターン間隔をスクリーン３上の各箇所
で求めることにより、被検レンズ３０のレンズ特性（度
数分布等）を求めることができる。なお、図５、図６で
は、パターン像は被検レンズ３０の光軸Ｏ３が投光光路
３１の光軸Ｏ２と一致しているものとして示されてい
る。
【００２３】投光光路３１にはスクリーン３２の背後に
反射ミラー３３が設けられている。その反射ミラー３３
の反射光路には結像レンズ３４とＣＣＤ３５とからなる
ＣＣＤカメラ３６が設けられている。そのＣＣＤ３５は
結像レンズ３４に関してスクリーン３２と共役位置に設
けられ、スクリーン３２に投影されたパターン像が撮像
される。
反射ミラー３３が設けられている。その反射ミラー３３
の反射光路には結像レンズ３４とＣＣＤ３５とからなる
ＣＣＤカメラ３６が設けられている。そのＣＣＤ３５は
結像レンズ３４に関してスクリーン３２と共役位置に設
けられ、スクリーン３２に投影されたパターン像が撮像
される。
【００２４】ＣＣＤ３５は処理回路４１に接続されてい
る。この処理回路４１は、少なくとも光束Ｐ１に基づき
パターン板２８の中心位置Ｏ１に対応する中心位置Ｏ４
を決定するための処理と、光束Ｐ２に基づき被検レンズ
３０のレンズ特性を解析するための処理とを行う。その
処理回路４１には切換スイッチ１０が接続され、ここで
は、この切換スイッチ１０によりパターン板２８の像の
中心位置Ｏ４を決定するための処理とレンズ特性の解析
処理とが切り換えられる。
る。この処理回路４１は、少なくとも光束Ｐ１に基づき
パターン板２８の中心位置Ｏ１に対応する中心位置Ｏ４
を決定するための処理と、光束Ｐ２に基づき被検レンズ
３０のレンズ特性を解析するための処理とを行う。その
処理回路４１には切換スイッチ１０が接続され、ここで
は、この切換スイッチ１０によりパターン板２８の像の
中心位置Ｏ４を決定するための処理とレンズ特性の解析
処理とが切り換えられる。
【００２５】例えば、測定スイッチ１１がオフの状態で
切換スイッチ１０をオンすると、光源２３のみが点灯さ
れる。光源２１は消灯されたままである。被検レンズ３
０の光軸Ｏ３が投光光路３１の光軸Ｏ２からずれている
ときには、被検レンズ３０によって光束Ｐ１が図７に示
すように偏向され、スクリーン３２の中心位置Ｏ５から
偏った領域に４個の像２８ｂ´が投影される。図８に示
すように、この４個の像２８ｂ´に基づき中心位置Ｏ４
を求めれば、被検レンズ３０が偏心している場合のパタ
ーン像の中心位置Ｏ４を決定できる。次に、測定スイッ
チ１１をオンして、光源２１と共に光源２３を点灯する
と、図９に示すようにパターン像２８ｃ´がパターン像
２８ｂ´と共にスクリーン３２上に得られる。パターン
像２８ｂ´の中心位置Ｏ４は既に求められているので、
このパターン像２８ｂ´の中心位置Ｏ４に基づき度数分
布の解析を処理回路４１により行えば、被検レンズ３０
のレンズ特性が得られる。処理回路４１は位置特定用パ
ターン像の位置を特定する位置特定手段として機能す
る。この発明の実施の形態１によれば、４個の像２８ｂ
´に基づきパターン板２８の像の中心位置Ｏ４を決定で
きるので、その中心位置Ｏ４の特定を迅速に行うことが
できる。
切換スイッチ１０をオンすると、光源２３のみが点灯さ
れる。光源２１は消灯されたままである。被検レンズ３
０の光軸Ｏ３が投光光路３１の光軸Ｏ２からずれている
ときには、被検レンズ３０によって光束Ｐ１が図７に示
すように偏向され、スクリーン３２の中心位置Ｏ５から
偏った領域に４個の像２８ｂ´が投影される。図８に示
すように、この４個の像２８ｂ´に基づき中心位置Ｏ４
を求めれば、被検レンズ３０が偏心している場合のパタ
ーン像の中心位置Ｏ４を決定できる。次に、測定スイッ
チ１１をオンして、光源２１と共に光源２３を点灯する
と、図９に示すようにパターン像２８ｃ´がパターン像
２８ｂ´と共にスクリーン３２上に得られる。パターン
像２８ｂ´の中心位置Ｏ４は既に求められているので、
このパターン像２８ｂ´の中心位置Ｏ４に基づき度数分
布の解析を処理回路４１により行えば、被検レンズ３０
のレンズ特性が得られる。処理回路４１は位置特定用パ
ターン像の位置を特定する位置特定手段として機能す
る。この発明の実施の形態１によれば、４個の像２８ｂ
´に基づきパターン板２８の像の中心位置Ｏ４を決定で
きるので、その中心位置Ｏ４の特定を迅速に行うことが
できる。
【００２６】
【変形例１】以上、発明の実施の形態１においては、穴
空きミラー２５を用いて光束Ｐ１をパターン板２８に投
光することにしたが、光束Ｐ１の波長と光束Ｐ２の波長
とを異ならせ、かつ、穴空きミラー２５の開口２５ａに
相当する箇所を光束Ｐ１のみを透過させ、光束Ｐ２を反
射する特性とすることもできる。
空きミラー２５を用いて光束Ｐ１をパターン板２８に投
光することにしたが、光束Ｐ１の波長と光束Ｐ２の波長
とを異ならせ、かつ、穴空きミラー２５の開口２５ａに
相当する箇所を光束Ｐ１のみを透過させ、光束Ｐ２を反
射する特性とすることもできる。
【変形例２】また、発明の実施の形態１においては、光
源２１を消灯し、光源２３のみを点灯させて、パターン
像の中心位置Ｏ４を求めることにしたが、光源２３を点
灯させた状態で、パターン像の中心位置Ｏ４を求めるこ
とができる。この場合、例えば、スクリーン３２上での
像２８ｂ´の輝度が像２８ｃ´の輝度よりも大きくなる
ように光源２１の光量と光源２３の光量とを予め設定す
る。このように、光源２１の光量と光源２３の光量とを
設定すれば、図１０に示すように像２８ｂ´に基づき得
られる光量Ｑ１を像２８ｃ´に基づき得られる光量Ｑ１
よりも大きくできる。そこで、処理回路４１によりスラ
イスレベルＳｒ１、Ｓｒ２を設定すれば、像２８ｂ´と
像２８ｃ´とを区別でき、スライスレベルＳｒ１により
中心位置Ｏ４を特定し、スライスレベルＳｒ２により像
２８ｃ´の位置を求めれば、同様にパターン像の中心位
置Ｏ４を迅速に特定できる。この変形例２によれば、光
源２１を常時点灯状態としておくことができる。光源２
１として、ハロゲンランプを用いる場合、ハロゲンラン
プの点灯と消灯とを繰り返すと、ハロゲンランプのフィ
ラメントの劣化が早くなり、ハロゲンランプの寿命が短
くなるが、この変形例２によれば、ハロゲンランプの短
寿命化を抑制できる。なお、ハロゲンサイクルを維持で
きる範囲で点灯電圧を下げて、ハロゲンランプの輝度を
低下させても良い。また、ハロゲンランプを常時点灯状
態として、機械的シャッターにより疑似的にハロゲンラ
ンプの消灯状態を作り出すこともできるが、この場合に
は、変形例２に較べて構造が複雑化する。
源２１を消灯し、光源２３のみを点灯させて、パターン
像の中心位置Ｏ４を求めることにしたが、光源２３を点
灯させた状態で、パターン像の中心位置Ｏ４を求めるこ
とができる。この場合、例えば、スクリーン３２上での
像２８ｂ´の輝度が像２８ｃ´の輝度よりも大きくなる
ように光源２１の光量と光源２３の光量とを予め設定す
る。このように、光源２１の光量と光源２３の光量とを
設定すれば、図１０に示すように像２８ｂ´に基づき得
られる光量Ｑ１を像２８ｃ´に基づき得られる光量Ｑ１
よりも大きくできる。そこで、処理回路４１によりスラ
イスレベルＳｒ１、Ｓｒ２を設定すれば、像２８ｂ´と
像２８ｃ´とを区別でき、スライスレベルＳｒ１により
中心位置Ｏ４を特定し、スライスレベルＳｒ２により像
２８ｃ´の位置を求めれば、同様にパターン像の中心位
置Ｏ４を迅速に特定できる。この変形例２によれば、光
源２１を常時点灯状態としておくことができる。光源２
１として、ハロゲンランプを用いる場合、ハロゲンラン
プの点灯と消灯とを繰り返すと、ハロゲンランプのフィ
ラメントの劣化が早くなり、ハロゲンランプの寿命が短
くなるが、この変形例２によれば、ハロゲンランプの短
寿命化を抑制できる。なお、ハロゲンサイクルを維持で
きる範囲で点灯電圧を下げて、ハロゲンランプの輝度を
低下させても良い。また、ハロゲンランプを常時点灯状
態として、機械的シャッターにより疑似的にハロゲンラ
ンプの消灯状態を作り出すこともできるが、この場合に
は、変形例２に較べて構造が複雑化する。
【００２７】
【変形例３】光源２３の光束の光量が充分に大きい場合
には、光源２１と光源２３とを別光源としなくとも、パ
ターン板２８の円形孔２８ｂの透過率を円形孔２８ｃの
透過率よりも大きくすれば、同様に図１０に示す像の光
量分布を得ることができ、この場合にも、像２８ｂの中
心位置Ｏ４を特定できる。
には、光源２１と光源２３とを別光源としなくとも、パ
ターン板２８の円形孔２８ｂの透過率を円形孔２８ｃの
透過率よりも大きくすれば、同様に図１０に示す像の光
量分布を得ることができ、この場合にも、像２８ｂの中
心位置Ｏ４を特定できる。
【変形例４】この発明の実施の形態によれば、眼鏡フレ
ームに枠入れされた被検レンズを測定することもでき、
図１１はその一例を示す。その画像パターンはパターン
板２８の形状に対応して長方形状であり、その図１１に
おいて、（ａ）は球面度Ｓ、（ｂ）は円柱度Ｃ、（ｃ）
は軸角度Ａ、（ｄ）はプリズム度Ｐｒを示す。
ームに枠入れされた被検レンズを測定することもでき、
図１１はその一例を示す。その画像パターンはパターン
板２８の形状に対応して長方形状であり、その図１１に
おいて、（ａ）は球面度Ｓ、（ｂ）は円柱度Ｃ、（ｃ）
は軸角度Ａ、（ｄ）はプリズム度Ｐｒを示す。
【００２８】図１１（ｅ）に示すように、例えば、円柱
度Ｃのマッピング表示と並行して球面度Ｓ、円柱度Ｃ、
軸角度Ａ、プリズム量Ｐｒの測定数値も同時に表示する
ことも可能である。更に図１１（ｆ）に示すように、左
目（Ｌ）用の被検レンズの画像と右目（Ｒ）用の被検レ
ンズの画像とを同時に表示することも可能である。加え
て、いずれか一方の画像を他方の画像に対応させて、反
転表示することも可能であり、このように構成すると、
眼鏡フレームに枠入れされた状態での被検レンズのレイ
アウトを知るのが容易になる。
度Ｃのマッピング表示と並行して球面度Ｓ、円柱度Ｃ、
軸角度Ａ、プリズム量Ｐｒの測定数値も同時に表示する
ことも可能である。更に図１１（ｆ）に示すように、左
目（Ｌ）用の被検レンズの画像と右目（Ｒ）用の被検レ
ンズの画像とを同時に表示することも可能である。加え
て、いずれか一方の画像を他方の画像に対応させて、反
転表示することも可能であり、このように構成すると、
眼鏡フレームに枠入れされた状態での被検レンズのレイ
アウトを知るのが容易になる。
【００２９】
【発明の実施の形態２】この発明の実施の形態２は、光
源部２０の穴空きミラー２５の代わりに反射ミラー３７
を用いると共に、光源２１、２３の双方にＬＥＤを用い
ることにし、更に、コリメートレンズ２６を反射ミラー
３７と光源２１、２３との間に設け、コリメートレンズ
２６と光源２１、光源２３との間にバンドパスミラー３
８を設けることにしたものである。光源２１からの光束
Ｐ１の波長と光源２３からの光束Ｐ２の波長とは互いに
異なるものとされ、このバンドパスミラー３８はその中
央に光束Ｐ１のみを透過する透過部３８ａを有する。光
束Ｐ２はそのバンドパスミラー３８の全領域で反射され
る。被検レンズ３０の種類によっては、スクリーン上で
パターン像の所定の光量比を得ることができない場合が
あるが、このような場合には、光源２１の光束Ｐ１の光
量α（図１０参照）と光源２３の光束Ｐ２の光量βとを
調整すれば、像２８ｂ´と像２８ｃ´との光量比を適宜
変更できる。
源部２０の穴空きミラー２５の代わりに反射ミラー３７
を用いると共に、光源２１、２３の双方にＬＥＤを用い
ることにし、更に、コリメートレンズ２６を反射ミラー
３７と光源２１、２３との間に設け、コリメートレンズ
２６と光源２１、光源２３との間にバンドパスミラー３
８を設けることにしたものである。光源２１からの光束
Ｐ１の波長と光源２３からの光束Ｐ２の波長とは互いに
異なるものとされ、このバンドパスミラー３８はその中
央に光束Ｐ１のみを透過する透過部３８ａを有する。光
束Ｐ２はそのバンドパスミラー３８の全領域で反射され
る。被検レンズ３０の種類によっては、スクリーン上で
パターン像の所定の光量比を得ることができない場合が
あるが、このような場合には、光源２１の光束Ｐ１の光
量α（図１０参照）と光源２３の光束Ｐ２の光量βとを
調整すれば、像２８ｂ´と像２８ｃ´との光量比を適宜
変更できる。
【００３０】
【変形例５】図１３に示すように、パターン板２８の円
形孔２８ｂの透過面積（サイズ）を円形孔２８ｃの透過
面積（サイズ）よりも大きくすることにより、図１４に
示すように透過面積のサイズと光量差とにより像２８ｂ
´と像２８ｃ´とを区別するようにしても良い。
形孔２８ｂの透過面積（サイズ）を円形孔２８ｃの透過
面積（サイズ）よりも大きくすることにより、図１４に
示すように透過面積のサイズと光量差とにより像２８ｂ
´と像２８ｃ´とを区別するようにしても良い。
【００３１】また、図１５に示すように、図３に示すパ
ターン板２８の中央部の裏面でかつ円形孔２８ｂに対応
する箇所に収束レンズ部２８ｄ´を設けて光束Ｐ１をス
クリーン３２上に収束させる構成とすれば、光源２１の
発光量と光源２３の発光量とを同じにした場合でも、図
１６に示すように像２８ｂ´の輝度を像２８ｃ´の輝度
よりも増大させることができる。この場合、変形例３と
同様に、光源部の光源は１個でも良い。
ターン板２８の中央部の裏面でかつ円形孔２８ｂに対応
する箇所に収束レンズ部２８ｄ´を設けて光束Ｐ１をス
クリーン３２上に収束させる構成とすれば、光源２１の
発光量と光源２３の発光量とを同じにした場合でも、図
１６に示すように像２８ｂ´の輝度を像２８ｃ´の輝度
よりも増大させることができる。この場合、変形例３と
同様に、光源部の光源は１個でも良い。
【００３２】以上の実施の形態では、測定スイッチ１１
をオンすることにより光源２１を点灯させることにした
が、パターン像の中心位置Ｏ４の値が一定時間以上変化
しなかった時、処理回路４１は被検レンズ３０の移動が
停止されたと判断して、自動的に光源２１を点灯させ、
追従状態からマッピング表示状態に表示を切り換えるよ
うにしても良い。また、中心位置決定用光束を用いて、
被検レンズ３０の中心部分のみのレンズ特性を測定する
こと、被検レンズ３０の周辺部分の測定を行うこともで
きる。
をオンすることにより光源２１を点灯させることにした
が、パターン像の中心位置Ｏ４の値が一定時間以上変化
しなかった時、処理回路４１は被検レンズ３０の移動が
停止されたと判断して、自動的に光源２１を点灯させ、
追従状態からマッピング表示状態に表示を切り換えるよ
うにしても良い。また、中心位置決定用光束を用いて、
被検レンズ３０の中心部分のみのレンズ特性を測定する
こと、被検レンズ３０の周辺部分の測定を行うこともで
きる。
【００３３】
【発明の効果】本発明の請求項１に係わるレンズメータ
ーは、以上説明したように構成したので、パターン板の
中心位置に対応するパターン像の位置の特定を迅速にか
つ正確に行うことができ、従って、被検レンズの移動に
追従した画像の表示が可能となるという効果を奏する。
ーは、以上説明したように構成したので、パターン板の
中心位置に対応するパターン像の位置の特定を迅速にか
つ正確に行うことができ、従って、被検レンズの移動に
追従した画像の表示が可能となるという効果を奏する。
【図１】 本発明に係わるレンズメーターの外観図であ
る。
る。
【図２】 本発明に係わるレンズメーターの発明の実施
の形態１を示す光学図である。
の形態１を示す光学図である。
【図３】 図２に示すパターン板の平面図である。
【図４】 眼鏡レンズが投光光路にセットされていない
ときにスクリーンに投影されたパターン像を示す図であ
る。
ときにスクリーンに投影されたパターン像を示す図であ
る。
【図５】 負のパワーを有する眼鏡レンズが投光光路に
セットされたときにスクリーンに投影されるパターン像
の一例を示す図である。
セットされたときにスクリーンに投影されるパターン像
の一例を示す図である。
【図６】 正のパワーを有する眼鏡レンズが投光光路に
セットされたときにスクリーンに投影されるパターン像
の一例を示す図である。
セットされたときにスクリーンに投影されるパターン像
の一例を示す図である。
【図７】 本発明に係わるレンズメータの発明の実施の
形態１を示す光学図であって、被検レンズを投光光路に
偏心させてセットした状態を示している。
形態１を示す光学図であって、被検レンズを投光光路に
偏心させてセットした状態を示している。
【図８】 中心位置決定用パターンに基づく像のみが図
２に示すスクリーンに投影された状態を示している。
２に示すスクリーンに投影された状態を示している。
【図９】 中心位置決定用パターンに基づく像とレンズ
特性測定用パターンに基づく像とがスクリーンに投影さ
れた状態を示している。
特性測定用パターンに基づく像とがスクリーンに投影さ
れた状態を示している。
【図１０】 図９に示すパターン像に基づく光量分布を
示している。
示している。
【図１１】 眼鏡レンズの各レンズ特性値のマッピング
図の一例を示し、（ａ）は球面度分布、（ｂ）は円柱度
分布、（ｃ）は軸角度分布、（ｄ）はプリズム度分布を
示し、（ｅ）は円柱度分布と共に測定値を表示した状態
を示し、（ｆ）は左目用の眼鏡レンズの円柱度分布と右
目用の眼鏡レンズとの両方を表示すると共に一方の画像
を反転させて表示した状態を示す。
図の一例を示し、（ａ）は球面度分布、（ｂ）は円柱度
分布、（ｃ）は軸角度分布、（ｄ）はプリズム度分布を
示し、（ｅ）は円柱度分布と共に測定値を表示した状態
を示し、（ｆ）は左目用の眼鏡レンズの円柱度分布と右
目用の眼鏡レンズとの両方を表示すると共に一方の画像
を反転させて表示した状態を示す。
【図１２】 本発明に係わるレンズメーターの発明の実
施の形態２の光学図である。
施の形態２の光学図である。
【図１３】 発明の実施の形態２の変形例５のパターン
板の平面図ある。
板の平面図ある。
【図１４】 図１３に示すパターン板の像に基づく光量
分布を示している。
分布を示している。
【図１５】 図１０に示すパターン板の変形例を示す要
部断面図である。
部断面図である。
【図１６】 図１５に示すパターン板の像に基づく光量
分布を示している。
分布を示している。
【図１７】 従来のパターン板の一例を示す平面図であ
る。
る。
【図１８】 眼鏡レンズの各レンズ特性値のマッピング
図の一例を示し、（ａ）は球面度分布を示し、（ｂ）は
円柱度分布を示し、（ｃ）は軸角度分布を示し、（ｄ）
はプリズム度分布を示す。
図の一例を示し、（ａ）は球面度分布を示し、（ｂ）は
円柱度分布を示し、（ｃ）は軸角度分布を示し、（ｄ）
はプリズム度分布を示す。
２０…光源部 ２１、２３…光源 ２８…パターン板 ３０…被検レンズ ３１…投光光路 ２８ｂ…中心位置決定用パターン（位置特定用パター
ン） ２８ｃ…レンズ特性測定用パターン ２８ｂ´、２８ｃ´…パターン像 ４１…処理回路 Ｐ１、Ｐ２…光束
ン） ２８ｃ…レンズ特性測定用パターン ２８ｂ´、２８ｃ´…パターン像 ４１…処理回路 Ｐ１、Ｐ２…光束
Claims (10)
- 【請求項１】 被検レンズのレンズ特性測定用パターン
を有するパターン板が光源部により発生された測定光束
の投光光路に設けられ、該投光光路にセットされた前記
被検レンズに測定光束を投光することにより前記レンズ
特性測定用パターンの像を受像しかつその受像パターン
を解析することにより前記被検レンズの二次元的なレン
ズ特性分布をマッピング表示可能なレンズメーターであ
って、 前記光源部は前記測定光束発生用の光源とは別個に前記
パターン板によるパターン像の位置特定用光束を発生す
る光源を有しているレンズメーター。 - 【請求項２】 前記両光源の発光量の比を変更すること
が可能な請求項１に記載のレンズメーター。 - 【請求項３】 前記位置特定用光束がレンズ特性測定用
光束に用いられることを特徴とする請求項１に記載のレ
ンズメーター。 - 【請求項４】 前記パターン板の裏面に前記パターンを
透過した測定光束を収束又は広げるレンズ部が形成され
ている請求項３に記載のレンズメーター。 - 【請求項５】 前記測定光束発生用の光源がハロゲンラ
ンプから構成され、該ハロゲンランプは測定中に常時点
灯されている請求項１ないし請求項４の何れか１項に記
載のレンズメーター。 - 【請求項６】 被検レンズのレンズ特性測定用パターン
を有するパターン板が光源部により発生された測定光束
の投光光路に設けられ、該投光光路にセットされた前記
被検レンズに測定光束を投光することにより前記レンズ
特性測定用パターンの像を受像しかつその受像パターン
を解析することにより前記被検レンズの二次元的なレン
ズ特性分布をマッピング表示可能なレンズメーターであ
って、 前記パターン板の位置特定用パターンの透過率が前記レ
ンズ特性測定用パターンの透過率よりも大きいことを特
徴とするレンズメータ。 - 【請求項７】 前記パターン板の位置特定用パターンを
透過した測定光束に基づいて位置特定用パターン像の位
置を特定する特定手段が設けられている請求項１又は請
求項６に記載のレンズメーター。 - 【請求項８】 被検レンズのレンズ特性測定用パターン
を有するパターン板が光源部により発生された測定光束
の投光光路に設けられ、該投光光路にセットされた前記
被検レンズに測定光束を投光することにより前記レンズ
特性測定用パターンの像を受像しかつその受像パターン
を解析することにより前記被検レンズの二次元的なレン
ズ特性分布をマッピング表示可能なレンズメーターであ
って、 前記パターン板の位置特定用パターンを透過した光束に
基づくパターン像の光量が前記レンズ特性測定用パター
ンを透過した光束に基づくパターン像の光量よりも大き
いことに基づいて位置特定用パターン像をレンズ特性測
定用パターン像と区別することを特徴とするレンズメー
ター。 - 【請求項９】 前記パターン板に形成された位置特定用
パターンの１個の透過面積が前記パターン板の他の部分
に形成された前記レンズ特性測定用パターンの１個の透
過面積よりも大きいことを特徴とする請求項１ないし請
求項３、請求項６の何れか１項に記載のレンズメータ
ー。 - 【請求項１０】 前記測定光束の一部が位置特定用光束
に用いられることを特徴とする請求項６に記載のレンズ
メーター。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34184096A JP3886191B2 (ja) | 1996-12-20 | 1996-12-20 | レンズメーター |
| US08/993,312 US5896194A (en) | 1996-12-20 | 1997-12-18 | Lens meter |
| DE19758338A DE19758338B4 (de) | 1996-12-20 | 1997-12-22 | Linsenmesser |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34184096A JP3886191B2 (ja) | 1996-12-20 | 1996-12-20 | レンズメーター |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005290107A Division JP3908770B2 (ja) | 2005-10-03 | 2005-10-03 | レンズメーター |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10185765A true JPH10185765A (ja) | 1998-07-14 |
| JP3886191B2 JP3886191B2 (ja) | 2007-02-28 |
Family
ID=18349159
Family Applications (1)
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