JP2008160025A - 窒化物半導体発光素子 - Google Patents
窒化物半導体発光素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008160025A JP2008160025A JP2006349979A JP2006349979A JP2008160025A JP 2008160025 A JP2008160025 A JP 2008160025A JP 2006349979 A JP2006349979 A JP 2006349979A JP 2006349979 A JP2006349979 A JP 2006349979A JP 2008160025 A JP2008160025 A JP 2008160025A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- nitride semiconductor
- layer
- type
- conductivity type
- semiconductor layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/02—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
- H01L33/26—Materials of the light emitting region
- H01L33/30—Materials of the light emitting region containing only elements of group III and group V of the periodic system
- H01L33/32—Materials of the light emitting region containing only elements of group III and group V of the periodic system containing nitrogen
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/02—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/02—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
- H01L33/12—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a stress relaxation structure, e.g. buffer layer
Abstract
【課題】発光効率が高く、高輝度の光を発光する窒化物半導体発光素子を提供する。
【解決手段】基板と、基板上に順次積層された、第1導電型窒化物半導体層と、活性層と、第2導電型窒化物半導体層と、を含み、第1導電型窒化物半導体層は、AlとGaとを含む窒化物半導体を主成分としており、第1導電型窒化物半導体層と活性層との間に第1導電型窒化物半導体層よりもAlの組成比が小さい第3導電型窒化物半導体層を備えている窒化物半導体発光素子である。
【選択図】図1
【解決手段】基板と、基板上に順次積層された、第1導電型窒化物半導体層と、活性層と、第2導電型窒化物半導体層と、を含み、第1導電型窒化物半導体層は、AlとGaとを含む窒化物半導体を主成分としており、第1導電型窒化物半導体層と活性層との間に第1導電型窒化物半導体層よりもAlの組成比が小さい第3導電型窒化物半導体層を備えている窒化物半導体発光素子である。
【選択図】図1
Description
本発明は、窒化物半導体発光素子に関し、特に、発光効率が高く、高輝度の光を発光する窒化物半導体発光素子に関する。
窒化ガリウム(GaN)等の窒化物半導体はバンドギャップが大きいために、青色光を発光する青色LED(Light Emitting Diode)や紫外光を発光する紫外光LED等の窒化物半導体発光素子の材料に用いられており、これらの窒化物半導体発光素子は白色光を発光する照明装置の励起光源として利用されている。
このような窒化物半導体発光素子については、発光効率を向上させるために、たとえば以下のような提案がなされてきている。
(1)SiC基板を用い、InAlGaN層を発光層として、そのInAlGaN層におけるIn等の組成比を調整することにより、波長360nm以下の紫外域での発光効率を高効率化する(たとえば、特許文献1参照)。
(2)GaN基板上に形成したAl0.1Ga0.9N層/Al0.4Ga0.6N層からなる単一量子井戸構造を活性層として高輝度化を図る(たとえば、非特許文献1参照)。
(3)ZnO基板上にAlNバッファ層、n型AlGaNブロック層およびInGaN活性層を順次積層することにより、格子整合性を向上させ、発光効率の高効率化を図る(たとえば、特許文献2参照)。
特開2001−237455号公報
特開平4−209577号公報
T.Nishida, H.Saito, N.Kobayashi, Appl. Phys. Lett., Vol.79, 2001, p.711
(1)SiC基板を用い、InAlGaN層を発光層として、そのInAlGaN層におけるIn等の組成比を調整することにより、波長360nm以下の紫外域での発光効率を高効率化する(たとえば、特許文献1参照)。
(2)GaN基板上に形成したAl0.1Ga0.9N層/Al0.4Ga0.6N層からなる単一量子井戸構造を活性層として高輝度化を図る(たとえば、非特許文献1参照)。
(3)ZnO基板上にAlNバッファ層、n型AlGaNブロック層およびInGaN活性層を順次積層することにより、格子整合性を向上させ、発光効率の高効率化を図る(たとえば、特許文献2参照)。
上記の窒化物半導体発光素子を照明装置等に利用するためには窒化物半導体発光素子を高輝度化する必要があるが、大電流密度の電流を注入した場合には、窒化物半導体発光素子の発光効率が低下してしまうという問題があった。
これは、格子不整合や歪み等によって生じた窒化物半導体結晶中の転位や欠陥が非発光中心となり、そこからの発熱の影響が顕著になること、ならびに活性層に注入された電子やホールがオーバーフローしてしまうこと等が原因と考えられている。
したがって、窒化物半導体発光素子の高輝度化のためには、窒化物半導体発光素子を構成する窒化物半導体結晶の高品質化、および電子やホールを閉じ込めるブロック層の閉じ込め効果の向上が求められている。
一般に、アルミニウム(Al)とガリウム(Ga)を含む窒化物半導体(たとえばAlGaN)結晶は、Alの組成比を高くするとバンドギャップが大きくなって電子やホールの閉じ込め効果の向上が期待できるとともに、Alの組成比の増加に伴って屈折率が小さくなるため、活性層からの光を反射させる効果が大きくなる。したがって、AlGaNはブロック層によく用いられている。
しかしながら、AlGaNはAlの組成比が大きくなるほど格子定数が小さくなることから、GaNなどからなる他の層との格子不整合が大きくなり、Al組成の大きいAlGaNを厚く形成すると結晶品質が著しく低下してしまう。したがって、従来の窒化物半導体発光素子においては、電子やホールの閉じ込め効果を向上させるためにAl組成の大きいAlGaNを用いると、活性層からの光を反射させるのに十分な厚さを形成することが難しく、活性層からの光が基板側へ透過してしまうため、透過した光が基板やバッファ層で吸収されて発光効率が低下してしまうという問題があった。
基板がGaNまたはZnOからなる場合には、発光波長が365nm以下の光は基板で吸収されやすいため、特に、活性層から基板方向に透過する光を少なくする必要がある。
そこで、本発明の目的は、上記の課題を解決し、発光効率が高く、高輝度の光を発光する窒化物半導体発光素子を提供することにある。
本発明は、基板と、基板上に順次積層された、第1導電型窒化物半導体層と、活性層と、第2導電型窒化物半導体層と、を含み、第1導電型窒化物半導体層は、Al(アルミニウム)とGa(ガリウム)とを含む窒化物半導体を主成分としており、第1導電型窒化物半導体層と活性層との間に第1導電型窒化物半導体層よりもAlの組成比が小さい第3導電型窒化物半導体層を備えている窒化物半導体発光素子である。
ここで、本発明の窒化物半導体発光素子においては、第1導電型窒化物半導体層の基板側の表面に接し、第1導電型窒化物半導体層よりもAlの組成比が小さい第4導電型窒化物半導体層を備えていることが好ましい。
また、本発明の窒化物半導体発光素子においては、基板と第4導電型窒化物半導体層との間にバッファ層を備えていることが好ましい。
また、本発明の窒化物半導体発光素子において、バッファ層はIn(インジウム)とGaとを含む窒化物半導体を主成分としており、バッファ層中に含まれるIn原子の数とGa原子の数との和に対するIn原子の数の比が0よりも大きく0.2以下であることが好ましい。
また、本発明の窒化物半導体発光素子において、基板は、窒化ガリウム(GaN)または酸化亜鉛(ZnO)を主成分としていることが好ましい。
また、本発明の窒化物半導体発光素子において、第1導電型窒化物半導体層中に含まれるAl原子の数とGa原子の数との和に対するAl原子の数の比が0.2以上1未満であることが好ましい。
また、本発明の窒化物半導体発光素子においては、基板の表面が窒化物半導体で覆われていることが好ましい。
なお、本発明において、「主成分」とは、50質量%以上を占める成分のことをいう。
本発明によれば、発光効率が高く、高輝度の光を発光する窒化物半導体発光素子を提供することができる。
以下、本発明の実施の形態について説明する。なお、本発明の図面において、同一の参照符号は、同一部分または相当部分を表わすものとする。
図1に、本発明の窒化物半導体発光素子の一例の模式的な断面図を示す。ここで、本発明の窒化物半導体発光素子は、n型のZnO単結晶からなる基板1上に、n型のバッファ層10、n型のAlGaNからなる第4導電型窒化物半導体層2、n型のAlGaNからなる第1導電型窒化物半導体層3、n型のAlGaNからなる第3導電型窒化物半導体層4、n型のInGaNからなる活性層5、p型のAlGaNからなる第2導電型窒化物半導体層6およびp型GaNからなる第2導電型コンタクト層7が順次積層された構成を有している。そして、第2導電型コンタクト層7の表面上にはp型用電極9が形成され、基板1の裏面上にはn型用電極8が形成されている。
ここで、本発明の窒化物半導体発光素子においては、第1導電型窒化物半導体層3と活性層5との間に位置する第3導電型窒化物半導体層4のAl組成比が第1導電型窒化物半導体層3のAl組成比よりも小さいことを特徴としている。
すなわち、本発明の窒化物半導体発光素子においては、第3導電型窒化物半導体層4がn型のAlxGa1-xNからなり、第1導電型窒化物半導体層3がn型のAlyGa1-yNからなる場合に、x<yの関係が成立している。ここで、xは第3導電型窒化物半導体層4中のAlの原子数とGaの原子数との和に対するAlの原子数の比(Al組成比:(Alの原子数)/(Alの原子数+Gaの原子数))を示し、yは第1導電型窒化物半導体層3中のAlの原子数とGaの原子数との和に対するAlの原子数の比(Al組成比:(Alの原子数)/(Alの原子数+Gaの原子数))を示している。
このような構成とすることによって、Al組成比が大きな第1窒化物半導体層3をブロック層として用いた場合でも、発光効率が高く、高輝度の光を発光し、かつ、格子整合性に優れた高品質の窒化物半導体結晶を有する窒化物半導体発光素子を作製することができる。
たとえば図2に示すように、III族元素の窒化物からなる窒化物半導体結晶においては、Alの組成比が大きくなるほどバンドギャップが大きくなるとともに屈折率および格子定数が小さくなり、Alの組成比が小さくなるほどバンドギャップが小さくなるとともに屈折率および格子定数が大きくなる。また、光は、屈折率の大きな物質(たとえば、InGaN)から小さな物質(たとえば、AlGaN)に進行するときにある入射角以上で全反射する。
すなわち、第1導電型窒化物半導体層3と活性層5との間に、活性層5からの光を反射するのに十分な厚さにおいて高品質な結晶とすることができるAl組成比の小さな第3導電型窒化物半導体層4を設置することによって、活性層5からの光を屈折率の大きなInGaNからなる活性層5と屈折率の小さなAlGaNからなる第3導電型窒化物半導体層4との界面で反射する効果を向上させることで、活性層5側に反射する光の量を増加することができる。
これにより、本発明の窒化物半導体発光素子においては、第1導電型窒化物半導体層3が活性層5からの光を反射させるのに十分な厚さを形成することが困難なAl組成比の大きなAlGaNの場合でも、活性層5からの光の基板1側への透過量を減少させることができるため、活性層5からの光が基板1やバッファ層10で吸収されるのを抑制することができる。
また、本発明の窒化物半導体発光素子においては、第1導電型窒化物半導体層3中に含まれるAlの原子数とGaの原子数との和に対するAlの原子数の比が0.2以上1未満であることが好ましい。たとえば、第1導電型窒化物半導体層3がn型のAlyGa1-yNからなる場合に、0.2≦y<1の関係が成立することが好ましい。この場合には、第1導電型窒化物半導体層3のブロック層としての電子およびホールの閉じ込め効果が大きくなるため、大電流密度の電流が注入された場合でも電子およびホールのオーバーフローを抑制することができ、発光効率をさらに向上することができる傾向にある。
また、Alの組成比が大きい第1導電型窒化物半導体層3は格子定数が小さくなるため、第1導電型窒化物半導体層3上に直接、InGaNからなる格子定数が大きい活性層5を形成した場合には格子定数差が大きくなって格子不整合を生じやすい。しかしながら、本発明の窒化物半導体発光素子においては、Alの組成比が小さく、格子定数が大きな第3導電型窒化物半導体層4上に活性層5が形成されていることから、格子定数差が減少し、格子整合性のより高い素子構造とすることができるため、高品質な活性層5を形成することができる。
すなわち、本発明の窒化物半導体発光素子においては、活性層5からの光の基板1側への透過量の減少と高品質な活性層5との相乗効果によって、発光効率を飛躍的に高くすることができるとともに高輝度の光を発光することができるのである。
なお、第1導電型窒化物半導体層3と活性層5との間に設置される第3導電型窒化物半導体層4のAl組成比については、Al組成比が小さくなると屈折率が大きくなるため、活性層5からの光を反射する効果は弱まるが、格子定数はInGaNからなる活性層と近くなって格子整合性はよくなり、結晶質が向上するため、発光効率が最大になるように適宜設定すればよい。
また、本発明の窒化物半導体発光素子においては、第1導電型窒化物半導体層3の基板1側の表面に接している第4導電型窒化物半導体層2のAl組成比が第1導電型窒化物半導体層3のAl組成比よりも小さいことが好ましい。すなわち、第4導電型窒化物半導体層2がn型のAlzGa1-zNからなり、第1導電型窒化物半導体層3がn型のAlyGa1-yNからなる場合に、z<yの関係が成立していることが好ましい。ここで、zは第4導電型窒化物半導体層2中のAlの原子数とGaの原子数との和に対するAlの原子数の比(Al組成比:(Alの原子数)/(Alの原子数+Gaの原子数))を示しており、yは上述のとおり第1導電型窒化物半導体層3のAl組成比を示している。
第4導電型窒化物半導体層2のAl組成比が第1導電型窒化物半導体層3のAl組成比よりも小さい場合には、Al組成比が小さく高品質な結晶となる第4導電型窒化物半導体層2を下地としてAl組成比が大きな第1導電型窒化物半導体層3を成長させることができるため、第1導電型窒化物半導体層3が高品質な結晶となる傾向にある。また、第1導電型窒化物半導体層3が高品質な結晶に形成された場合には、第1導電型窒化物半導体層3の表面上に順次成長する第3導電型窒化物半導体層4および活性層5も高品質な結晶とすることができるため、活性層5からさらに高輝度の光が発光される傾向にある。
また、基板1と第4導電型窒化物半導体層2との間にバッファ層10を設けていることにより、格子整合性が向上するため、より高品質の結晶からなる第4導電型窒化物半導体層2を形成することができる。
ここで、基板1がZnO単結晶からなる場合には、バッファ層10としてはZnO単結晶と格子定数が一致するInGaNを用いることが好ましい。この場合には、バッファ層10が高品質な結晶から構成されることから、バッファ層10上に順次成長させられる第4導電型窒化物半導体層2、第1導電型窒化物半導体層3、第3導電型窒化物半導体層4および活性層5も高品質な結晶とすることができるため、活性層5からさらに高輝度の光が発光される傾向にある。
また、バッファ層10がInGaNからなる場合には、バッファ層中に含まれるIn原子の数とGa原子の数との和に対するIn原子の数の比が0よりも大きく0.2以下であることが好ましい。たとえば、バッファ層10がInaGa1-aNからなる場合に0<a≦0.2の関係が成立していることが好ましい。この場合には、ZnO単結晶からなる基板1、バッファ層10および第4導電型窒化物半導体層2の格子整合性がより向上するため、第4導電型窒化物半導体層2がより高品質な結晶となる傾向にある。なお、上記において、aはバッファ層10中のInの原子数とGaの原子数との和に対するInの原子数の比(In組成比:(Inの原子数)/(Inの原子数+Gaの原子数))を示している。
なお、バッファ層10にInGaNを用いた場合には、InGaNはZnO単結晶からなる基板1よりもバンドギャップが狭いため、さらに長波長側の発光も吸収され、発光効率が低下することも考えられる。しかしながら、本発明の窒化物半導体発光素子においては、上述したように活性層5からの光が基板1側へ進行するのを抑制することができるため、格子整合性の向上による結晶性の向上の効果の方が大きくなり、発光効率が向上する。
また、基板1がGaN単結晶またはZnO単結晶からなる場合には365nm以下の波長の光が基板1で吸収されやすくなるため、上述したような本発明の構成は、基板1がGaN単結晶またはZnO単結晶からなる場合に特に有効となる。
また、基板1が上述のようにZnO単結晶からなる場合には、基板1の表面(特に、窒化物半導体層を成長させる表面)をたとえばバッファ層10を構成する窒化物半導体と同一種類の窒化物半導体や第4導電型窒化物半導体層を窒化物半導体と同一種類の窒化物半導体で覆うことが好ましい。この場合には、窒化物半導体発光素子の作製中に基板1が劣化することが抑制されるとともに、より高品質の窒化物半導体結晶を基板1上に成長することができる傾向にある。ZnO単結晶は亜鉛の蒸気圧が高いため、高温中では亜鉛が脱離して劣化してしまうが、ZnO単結晶からなる基板1のたとえば全表面を窒化物半導体で覆うことによってそのような劣化を抑制することができる。
なお、上記においては、基板1の材質としてはGaN単結晶またはZnO単結晶を用いることが好ましい旨について説明したが、本発明において基板1の材質はGaN単結晶またはZnO単結晶に限定されないことは言うまでもない。
また、上記においては、第1導電型窒化物半導体層3の材質としてn型のAlGaNを用いた場合について説明したが、第1導電型窒化物半導体層3の材質としてはAlとGaを含む窒化物半導体であれば、たとえばSi(ケイ素)、Ge(ゲルマニウム)、Te(テルル)またはSe(セレン)等のn型ドーパントおよび/またはIn等のIII族元素が含まれていてもよい。
また、上記においては、活性層5の材質としてn型のInGaNを用いた場合について説明したが、たとえばノンドープのInGaNであってもよい。また、活性層5は単一の層から構成されていてもよく、量子井戸構造と呼ばれる超格子構造から構成されていてもよい。なお、量子井戸構造は、従来から公知のように、障壁層と井戸層とが交互に積層された構造のことであり、井戸層で発光する。また、量子井戸構造は、井戸層が1層しかない単一量子井戸構造であってもよく、複数の井戸層を有する多重量子井戸構造であってもよい。
また、第2導電型窒化物半導体層6および第2導電型コンタクト層の材質も上記のものに限定されず、たとえば、AlsGatInuNの組成式で表わされる窒化物半導体結晶に、たとえばMg(マグネシウム)等のp型ドーパントをドープしてp型特性を示すように成長させた層等を用いることができる。なお、上記の組成式において、sはAlの組成比を示し、tはGaの組成比を示し、uはInの組成比を示す。
また、n型用電極8としてはTi(チタン)とAlを含む材料を用いることが好ましく、p型用電極9としてはNi(ニッケル)とAu(金)を含む材料を用いることが好ましい。
また、上記においては、第1導電型、第3導電型および第4導電型をn型とし、第2導電型をp型とした場合について説明したが、本発明においては、第1導電型、第3導電型および第4導電型をp型とし、第2導電型をn型としてもよいことは言うまでもない。なお、第1導電型、第3導電型および第4導電型をp型とし、第2導電型をn型とした場合には、第1導電型窒化物半導体層、第3導電型窒化物半導体層および第4導電型窒化物半導体層はたとえばp型ドーパントを含む窒化物半導体により構成され、第2導電型窒化物半導体層はたとえばn型ドーパントを含む窒化物半導体により構成される。
(実施例1)
図3に、本発明の実施例1のLEDチップの模式的な断面図を示す。ここで、実施例1のLEDチップは、n型ZnO単結晶基板11上に、Siがドープされた厚さ50nmのn型Al0.1Ga0.9N層12、Siがドープされた厚さ30nmのn型Al0.3Ga0.7N層13、Siがドープされた厚さ100nmのn型Al0.15Ga0.85N層14がこの順序で積層された構成を有している。なお、n型ZnO単結晶基板11の全表面は、n型Al0.1Ga0.9N層12で被覆されている。
図3に、本発明の実施例1のLEDチップの模式的な断面図を示す。ここで、実施例1のLEDチップは、n型ZnO単結晶基板11上に、Siがドープされた厚さ50nmのn型Al0.1Ga0.9N層12、Siがドープされた厚さ30nmのn型Al0.3Ga0.7N層13、Siがドープされた厚さ100nmのn型Al0.15Ga0.85N層14がこの順序で積層された構成を有している。なお、n型ZnO単結晶基板11の全表面は、n型Al0.1Ga0.9N層12で被覆されている。
また、n型Al0.15Ga0.85N層14上には、Siがドープされた厚さ50nmのn型InGaN活性層15、Mgがドープされた厚さ100nmのp型Al0.15Ga0.85N層16およびMgがドープされた厚さ100nmのp型GaNコンタクト層17がこの順序で積層されている。
また、n型ZnO単結晶基板11の裏面上にはn型用電極としてTi層およびAl層がこの順序で積層された電極18が形成されており、p型GaNコンタクト層17の表面上にはNi層およびAu層がこの順序で積層された電極19が形成されている。
以下、この実施例1のLEDチップの製造方法について説明する。まず、表面が平坦化されたn型ZnO単結晶基板11を反応容器内にセットし、原料をAl0.1Ga0.9合金およびSi結晶として室温の窒素雰囲気下でPLD(Pulsed Laser Deposition)法によりn型Al0.1Ga0.9N層12を50nmの厚さに成膜した。このとき、n型ZnO単結晶基板11を保護する目的でその全表面上にn型Al0.1Ga0.9N層12を成膜した。
次に、n型Al0.1Ga0.9N層12の成長後のn型ZnO単結晶基板11をMOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition)装置にセットし、キャリアガスとして水素および窒素、原料ガスとしてTMG(トリメチルガリウム)、TMA(トリメチルアルミニウム)およびNH3(アンモニア)、ドーパントガスとしてシランを用い、基板温度が800℃の条件で、MOCVD法により、n型Al0.1Ga0.9N層12の表面上にSiがドープされたn型Al0.3Ga0.7N層13を30nmの厚さに成長させた。
続いて、ガスの比率を変更して、n型Al0.3Ga0.7N層13の表面上にSiがドープされたn型Al0.15Ga0.85N層14をMOCVD法により100nmの厚さに成長させた。
次に、キャリアガスを窒素に切り替えて、原料ガスとしてTMG、TMI(トリメチルインジウム)およびNH3、ドーパントガスとしてシランを用い、MOCVD法により、n型Al0.15Ga0.85N層14の表面上にSiがドープされたn型InGaN活性層15を50nmの厚さに成長させた。
次に、基板温度を1020℃にまで上昇させ、原料ガスとしてTMG、TMAおよびNH3、ドーパントガスとしてCp2Mg(シクロペンタジエニルマグネシウム)を用い、MOCVD法により、n型InGaN活性層15の表面上にMgがドープされたp型Al0.15Ga0.85N層16を100nmの厚さに成長させた。
続いて、TMAの導入を停止して、MOCVD法により、p型Al0.15Ga0.85N層16の表面上にMgがドープされたp型GaNコンタクト層17を100nmの厚さに成長させた。
その後、n型ZnO単結晶基板11をMOCVD装置から取り出し、窒素雰囲気中、700℃で20分間アニーリングし、p型Al0.15Ga0.85N層16およびp型GaNコンタクト層17をそれぞれ低抵抗化した。
次に、n型Al0.1Ga0.9N層12の裏面上にTi層およびAl層をこの順序で蒸着して電極18を形成するとともに、p型GaNコンタクト層17の表面上にNi層およびAu層をこの順序で蒸着して電極19を形成した。
その後、電極18および電極19の形成後のウエハをチップ状に分割することによって図3に示す断面を有する実施例1のLEDチップを得た。
そして、実施例1のLEDチップに20mAの順方向電流を注入したところ、波長370nmの光が発光し、後に説明する比較例1の構成と比較して外部量子効率が5%向上した。
(実施例2)
図4に、本発明の実施例2のLEDチップの模式的な断面図を示す。ここで、実施例2のLEDチップは、n型ZnO単結晶基板11の表面全体をSiがドープされた厚さ50nmのn型In0.1Ga0.9Nバッファ層110で被覆し、n型In0.1Ga0.9Nバッファ層110の表面上に厚さ50nmのn型Al0.1Ga0.9N層12を積層した構成としたことを特徴としている。その他の構成は実施例1と同様である。
図4に、本発明の実施例2のLEDチップの模式的な断面図を示す。ここで、実施例2のLEDチップは、n型ZnO単結晶基板11の表面全体をSiがドープされた厚さ50nmのn型In0.1Ga0.9Nバッファ層110で被覆し、n型In0.1Ga0.9Nバッファ層110の表面上に厚さ50nmのn型Al0.1Ga0.9N層12を積層した構成としたことを特徴としている。その他の構成は実施例1と同様である。
以下、この実施例2のLEDチップの製造方法について説明する。まず、表面が平坦化されたn型ZnO単結晶基板11を反応容器内にセットし、原料をIn0.1Ga0.9合金およびSi結晶として室温の窒素雰囲気下でPLD法によりn型In0.1Ga0.9Nバッファ層110を50nmの厚さに成膜した。このとき、n型ZnO単結晶基板11の全表面上にn型In0.1Ga0.9Nバッファ層110を成膜した。
その後、MOCVD法により、n型Al0.1Ga0.9N層12、n型Al0.3Ga0.7N層13、n型Al0.15Ga0.85N層14、n型InGaN活性層15、p型Al0.15Ga0.85N層16およびp型GaNコンタクト層17を実施例1と同様にして順次成長させた。
そして、実施例1と同様にして、n型In0.1Ga0.9Nバッファ層110の裏面上にTi層およびAl層をこの順序で蒸着して電極18を形成するとともに、p型GaNコンタクト層17の表面上にNi層およびAu層をこの順序で蒸着して電極19を形成した。
その後、電極18および電極19の形成後のウエハをチップ状に分割することによって図4に示す断面を有する実施例2のLEDチップを得た。
そして、実施例2のLEDチップに実施例1と同様にして20mAの順方向電流を注入したところ、波長370nmの光が発光し、後に説明する比較例1の構成と比較して外部量子効率が7%向上した。
実施例2のLEDチップの外部量子効率が実施例1のLEDチップの外部量子効率と比べて上昇した理由としては、n型ZnO単結晶基板11からn型InGaN活性層15までの格子整合性がさらに良くなり、内部量子効率が向上したためと考えられる。
(実施例3)
図5に、本発明の実施例3のLEDチップの模式的な断面図を示す。ここで、実施例3のLEDチップは、n型ZnO単結晶基板の代わりにn型GaN単結晶基板111を用い、n型GaN単結晶基板111の表面上に、n型Al0.1Ga0.9N層12、n型Al0.3Ga0.7N層13、n型Al0.15Ga0.85N層14、n型InGaN活性層15、p型Al0.15Ga0.85N層16およびp型GaNコンタクト層17を順次積層した構成としたことを特徴としている。その他の構成および製造方法は実施例1と同様である。
図5に、本発明の実施例3のLEDチップの模式的な断面図を示す。ここで、実施例3のLEDチップは、n型ZnO単結晶基板の代わりにn型GaN単結晶基板111を用い、n型GaN単結晶基板111の表面上に、n型Al0.1Ga0.9N層12、n型Al0.3Ga0.7N層13、n型Al0.15Ga0.85N層14、n型InGaN活性層15、p型Al0.15Ga0.85N層16およびp型GaNコンタクト層17を順次積層した構成としたことを特徴としている。その他の構成および製造方法は実施例1と同様である。
この実施例3のLEDチップに実施例1と同様にして20mAの順方向電流を注入したところ、波長370nmの光が発光し、後に説明する比較例1の構成と比較して外部量子効率が7%向上した。
(比較例1)
図6に、比較例1のLEDチップの模式的な断面図を示す。ここで、比較例1のLEDチップは、n型ZnO単結晶基板11の表面上に、厚さ30nmのn型Al0.3Ga0.7N層13、厚さ50nmのSiドープn型InGaN活性層15、厚さ100nmのMgドープp型Al0.1Ga0.9N層26および厚さ100nmのp型GaNコンタクト層17を順次積層した構成としたことを特徴としている。その他の構成および製造方法は実施例1と同様である。
図6に、比較例1のLEDチップの模式的な断面図を示す。ここで、比較例1のLEDチップは、n型ZnO単結晶基板11の表面上に、厚さ30nmのn型Al0.3Ga0.7N層13、厚さ50nmのSiドープn型InGaN活性層15、厚さ100nmのMgドープp型Al0.1Ga0.9N層26および厚さ100nmのp型GaNコンタクト層17を順次積層した構成としたことを特徴としている。その他の構成および製造方法は実施例1と同様である。
したがって、実施例1〜3のLEDチップは、比較例1のLEDチップと比べて、外部量子効率が向上していることが確認された。
今回開示された実施の形態および実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
本発明によれば、発光効率が高く、高輝度の光を発光する窒化物半導体発光素子を提供することができるため、本発明の窒化物半導体発光素子は、白色発光素子の励起光源に用いられるLEDチップ等の照明用途等に好適に利用することができる。
1 基板、2 第4導電型窒化物半導体層、3 第1導電型窒化物半導体層、4 第3導電型窒化物半導体層、5 活性層、6 第2導電型窒化物半導体層、7 第2導電型コンタクト層、8 n型用電極、9 p型用電極、10 バッファ層、11 n型ZnO単結晶基板、12 n型Al0.1Ga0.9N層、13 n型Al0.3Ga0.7N層、14 n型Al0.15Ga0.85N層、15 n型InGaN活性層、16 p型Al0.15Ga0.85N層、17 p型GaNコンタクト層、18,19 電極、26 p型Al0.1Ga0.9N層、110 n型In0.1Ga0.9Nバッファ層、111 n型GaN単結晶基板。
Claims (7)
- 基板と、前記基板上に順次積層された、第1導電型窒化物半導体層と、活性層と、第2導電型窒化物半導体層と、を含み、
前記第1導電型窒化物半導体層は、アルミニウムとガリウムとを含む窒化物半導体を主成分としており、
前記第1導電型窒化物半導体層と前記活性層との間に前記第1導電型窒化物半導体層よりもアルミニウムの組成比が小さい第3導電型窒化物半導体層を備えていることを特徴とする、窒化物半導体発光素子。 - 前記第1導電型窒化物半導体層の前記基板側の表面に接し、前記第1導電型窒化物半導体層よりもアルミニウムの組成比が小さい第4導電型窒化物半導体層を備えていることを特徴とする、請求項1に記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記基板と前記第4導電型窒化物半導体層との間にバッファ層を備えていることを特徴とする、請求項2に記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記バッファ層はインジウムとガリウムとを含む窒化物半導体を主成分としており、前記バッファ層中に含まれるインジウム原子の数とガリウム原子の数との和に対するインジウム原子の数の比が0よりも大きく0.2以下であることを特徴とする、請求項3に記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記基板は、窒化ガリウムまたは酸化亜鉛を主成分としていることを特徴とする、請求項1から4のいずれかに記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記第1導電型窒化物半導体層中に含まれるアルミニウム原子の数とガリウム原子の数との和に対するアルミニウム原子の数の比が0.2以上1未満であることを特徴とする、請求項1から5のいずれかに記載の窒化物半導体発光素子。
- 前記基板の表面が窒化物半導体で覆われていることを特徴とする、請求項1から6のいずれかに記載の窒化物半導体発光素子。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006349979A JP2008160025A (ja) | 2006-12-26 | 2006-12-26 | 窒化物半導体発光素子 |
PCT/JP2007/074631 WO2008078672A1 (ja) | 2006-12-26 | 2007-12-21 | 窒化物半導体発光素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006349979A JP2008160025A (ja) | 2006-12-26 | 2006-12-26 | 窒化物半導体発光素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008160025A true JP2008160025A (ja) | 2008-07-10 |
Family
ID=39562462
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006349979A Pending JP2008160025A (ja) | 2006-12-26 | 2006-12-26 | 窒化物半導体発光素子 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008160025A (ja) |
WO (1) | WO2008078672A1 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017144311A (ja) * | 2017-06-01 | 2017-08-24 | ユニ・チャーム株式会社 | 吸収性物品、及び、吸収性物品の製造方法 |
WO2017188324A1 (ja) * | 2016-04-27 | 2017-11-02 | スタンレー電気株式会社 | Iii族窒化物積層体、およびiii族窒化物発光素子 |
WO2019103556A1 (ko) * | 2017-11-24 | 2019-05-31 | 엘지이노텍 주식회사 | 반도체 소자 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0992881A (ja) * | 1995-09-21 | 1997-04-04 | Toshiba Corp | 化合物半導体装置 |
JPH10199815A (ja) * | 1997-01-09 | 1998-07-31 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | GaN系結晶の製造方法 |
JP3679914B2 (ja) * | 1997-02-12 | 2005-08-03 | 株式会社東芝 | 半導体発光装置及びその製造方法 |
JP3201475B2 (ja) * | 1998-09-14 | 2001-08-20 | 松下電器産業株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2003086533A (ja) * | 2001-09-13 | 2003-03-20 | Sharp Corp | 窒化物半導体素子および半導体装置 |
JP2003309071A (ja) * | 2002-04-15 | 2003-10-31 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | GaN系半導体結晶基材 |
PL224991B1 (pl) * | 2002-12-11 | 2017-02-28 | Ammono Spółka Z Ograniczoną Odpowiedzialnością | Podłoże do stosowania dla urządzeń opto-elektrycznych lub elektrycznych oraz sposób jego wytwarzania |
JP2005057224A (ja) * | 2003-08-05 | 2005-03-03 | Toshiaki Sakaida | 窒化物系化合物半導体の製造方法 |
-
2006
- 2006-12-26 JP JP2006349979A patent/JP2008160025A/ja active Pending
-
2007
- 2007-12-21 WO PCT/JP2007/074631 patent/WO2008078672A1/ja active Application Filing
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017188324A1 (ja) * | 2016-04-27 | 2017-11-02 | スタンレー電気株式会社 | Iii族窒化物積層体、およびiii族窒化物発光素子 |
US10777707B2 (en) | 2016-04-27 | 2020-09-15 | Stanley Electric Co., Ltd. | Group-III nitride stacked body and group-III nitride light-emitting element |
JP2017144311A (ja) * | 2017-06-01 | 2017-08-24 | ユニ・チャーム株式会社 | 吸収性物品、及び、吸収性物品の製造方法 |
WO2019103556A1 (ko) * | 2017-11-24 | 2019-05-31 | 엘지이노텍 주식회사 | 반도체 소자 |
KR20190060598A (ko) * | 2017-11-24 | 2019-06-03 | 엘지이노텍 주식회사 | 반도체 소자 |
US11227973B2 (en) | 2017-11-24 | 2022-01-18 | Suzhou Lekin Semiconductor Co., Ltd. | Semiconductor device |
KR102407739B1 (ko) | 2017-11-24 | 2022-06-10 | 쑤저우 레킨 세미컨덕터 컴퍼니 리미티드 | 반도체 소자 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2008078672A1 (ja) | 2008-07-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI451591B (zh) | 以氮化物為主之發光裝置 | |
KR100482511B1 (ko) | Ⅲ-질화물계 반도체 발광소자 | |
EP2164115A1 (en) | Nitride semiconductor light emitting element and method for manufacturing nitride semiconductor | |
TWI585995B (zh) | 半導體發光元件 | |
JP5048236B2 (ja) | 半導体発光素子、および半導体発光素子を作製する方法 | |
WO2010100844A1 (ja) | 窒化物半導体素子及びその製造方法 | |
JP2010028072A (ja) | 窒化物半導体発光素子 | |
JP6482573B2 (ja) | 窒化物半導体発光素子 | |
JP2006108585A (ja) | Iii族窒化物系化合物半導体発光素子 | |
US20080042161A1 (en) | Nitride semiconductor light emitting diode | |
JP2008288397A (ja) | 半導体発光装置 | |
US9318645B2 (en) | Nitride semiconductor light-emitting element | |
JP2007227671A (ja) | 発光素子 | |
JP2008021986A (ja) | 窒化物系半導体発光素子およびその製造方法 | |
WO2016002419A1 (ja) | 窒化物半導体発光素子 | |
US20090095965A1 (en) | Nitride semiconductor light emitting diode | |
WO2006057485A1 (en) | Iii-nitride semiconductor light emitting device | |
JP2006210692A (ja) | 3族窒化物系化合物半導体発光素子 | |
US7053418B2 (en) | Nitride based semiconductor device | |
JP2008160025A (ja) | 窒化物半導体発光素子 | |
US8816354B2 (en) | Group III nitride semiconductor light-emitting device and production method therefor | |
JP2011187862A (ja) | Iii族窒化物半導体発光素子の製造方法 | |
JP2976951B2 (ja) | 窒化物半導体発光ダイオードを備えた表示装置 | |
JP2007214378A (ja) | 窒化物系半導体素子 | |
US20140284550A1 (en) | Light-emitting device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080729 |