JP2008156192A - 誘電体用ガラスペースト - Google Patents

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Abstract

【課題】背面誘電体乾燥膜上にサンドブラスト法で未焼成隔壁が形成でき、背面誘電体層と隔壁を同時に焼成して形成できる誘電体用ペーストの提供。
【解決手段】ガラス基板1の電極2を被覆するように誘電体用ガラスペーストを塗布、乾燥して第1の乾燥膜3とし、その上に隔壁用ガラスペーストを塗布、乾燥して第2の乾燥膜4Aとし、それを隔壁形状に加工後焼成する隔壁付きガラス基板の製造で用いる誘電体用ガラスペーストであって、軟化点が650℃以下であるガラス粉末、酢酸セルロースおよび溶剤を含有し、ガラス粉末の質量を100部としたときに、酢酸セルロースの質量が7〜15部である誘電体用ガラスペースト。
【選択図】図1

Description

本発明はプラズマディスプレイパネル(PDP)の背面ガラス基板など隔壁付きガラス基板の製造に用いられる誘電体用ガラスペーストに関する。
PDPは、前面ガラス基板と背面ガラス基板が重ね合わされており、前面ガラス基板の表面には、通常、透明電極および該透明電極を被覆する誘電体層が形成されており、該誘電体層はMgO膜で被覆され、保護されている。一方、背面ガラス基板の表面には、通常、アドレス電極および該アドレス電極を被覆する背面誘電体層が形成されており、該背面誘電体層の上に隔壁が形成されている。隔壁は画面全域に等間隔で格子状に形成され、その格子間隔は典型的には200〜300μmである。また、隔壁の幅、高さは、典型的にはそれぞれ80μm、150μmである。
PDPの隔壁形成方法の1つとして、サンドブラストにより隔壁を形成する方法がある。すなわち、まず、アドレス電極が形成されたガラス基板上に、背面誘電体用ガラスペースト(以下、ガラスペーストを単にペーストということがある。)をスクリーン印刷等の方法を用いて塗布し、乾燥させた後、500〜620℃で焼成する。次に、形成された背面誘電体層上の全面に隔壁用ペーストを塗布し、乾燥させる。この乾燥された塗布層(以下、乾燥膜という。)の上にドライフィルムレジストをラミネートし、所望の隔壁パターンの露光マスクをセットして露光後、炭酸ナトリウム水溶液等を用いて現像し、乾燥膜の上に隔壁パターンを形成する。この隔壁パターンが形成された乾燥膜の不要部をサンドブラストによって切削し、未焼成隔壁を得た後、この未焼成隔壁の上に残っているドライフィルムを水酸化ナトリウム水溶液、エタノールアミン等によって除去後、500〜620℃で焼成しガラス基板上に隔壁を形成する(特許文献1参照)。
特開平8−222135号公報
上記のとおり、現状、背面誘電体層は、隔壁用ペーストを塗布する前に焼成される。しかしながら、コスト削減のため、背面誘電体層と隔壁を同時に焼成して形成することが求められている。
このような同時焼成を行うためには、背面誘電体乾燥膜上に隔壁ペーストを塗布する必要があるが、隔壁ペースト中の溶剤が背面誘電体乾燥膜中に染み込み、背面誘電体乾燥膜がガラス基板から剥離したり、隔壁ペースト中に気泡が形成され、隔壁用乾燥膜上に凹みが多発する等の問題があった。また、背面誘電体乾燥膜強度が不十分なため、サンドブラスト工程において、背面誘電体乾燥膜が切削されてしまう等の問題があった。
本発明は、このような状況に鑑み、背面誘電体乾燥膜上にサンドブラスト法で未焼成隔壁が形成でき、背面誘電体層と隔壁を同時に焼成して形成できる誘電体用ペーストの提供を目的とする。
本発明は、電極が形成されたガラス基板の一方の面にその電極を被覆するように誘電体用ガラスペーストを塗布、乾燥して第1の乾燥膜とし、その乾燥膜上に隔壁用ガラスペーストを塗布、乾燥して第2の乾燥膜とし、第2の乾燥膜を隔壁形状に加工後焼成して、第1の乾燥膜が誘電体層となり、加工された第2の乾燥膜が隔壁となるようにして行う隔壁付きガラス基板の製造において用いられる誘電体用ガラスペーストであって、軟化点が650℃以下であるガラス粉末、酢酸セルロースおよび溶剤を含有し、前記ガラス粉末の他に無機酸化物粉末を含有する場合にはガラス粉末および無機酸化物粉末の合計質量を100部とし、前記ガラス粉末の他には無機酸化物粉末を含有しない場合にはガラス粉末の質量を100部としたときに、酢酸セルロースの質量が7〜15部である誘電体用ガラスペーストを提供する。
本発明者は、背面誘電体用ペーストの樹脂としてエチルセルロースを用いその量を増加させたところ背面誘電体乾燥膜がサンドブラスト工程において切削される問題をかなり解決できた。しかし、この乾燥膜の上に隔壁ペーストを塗布すると乾燥膜がガラス基板から剥離する問題が生じた。これは隔壁ペースト中の溶剤(ターピネオール、ブチルカルビトールアセテートなど)に前記乾燥膜中のエチルセルロースが溶解・拡散したためと考えられる。
また、背面誘電体用ペーストの樹脂としてアクリル樹脂を用いた場合にはその量を増加させても背面誘電体乾燥膜がサンドブラスト工程において切削される問題を十分には解決できなかった。
また、背面誘電体用ペーストの樹脂としてブチラールを用いた場合にはその量を増加させても背面誘電体乾燥膜がサンドブラスト工程において切削される問題を解決できず、またいわゆる脱バインダ性に劣り焼成後の背面誘電体層が残留カーボンのために黒く着色する問題が生じた。
ところが、背面誘電体用ペーストの樹脂として酢酸セルロースを用いるとその量を増加させることにより背面誘電体乾燥膜がサンドブラスト工程においてほとんど切削されないようにできるだけではなく、前記乾燥膜がガラス基板から剥離する問題も生じないことを見出した。これは酢酸セルロースが隔壁ペースト中の溶剤に溶解しないためと考えられる。また、脱バインダ性の問題も生じなかった。
本発明によれば、背面誘電体乾燥膜がサンドブラスト工程においてほとんど切削されず、またガラス基板から剥離しないようにすることができる。
図1は本発明の誘電体用ガラスペースト(以下、本発明のペーストという。)を用いて行う隔壁付きガラス基板の製造方法を説明するための図である。なお、本発明のペーストの適用は図1に係る隔壁付きガラス基板の製造方法に限られない。
(a)まず、ガラス基板1の一方の面に電極2を形成する。
(b)次に、ガラス基板1上の電極2を被覆するように本発明のペーストを塗布して乾燥し、第1の乾燥膜(誘電体乾燥膜)3とする。塗布は通常スクリーン印刷によって行われる。
(c)第1の乾燥膜3の上に隔壁用ガラスペーストを塗布、乾燥して第2の乾燥膜(隔壁用乾燥膜)4Aとする。塗布は通常ダイコートによって行われる。
(d)サンドブラスト法などによって第2の乾燥膜4Aを未焼成隔壁4Bとする。
図1(d)の未焼成隔壁付きガラス基板は焼成され、誘電体乾燥膜は誘電体層に、未焼成隔壁は隔壁にそれぞれなり隔壁付きガラス基板が得られる。この隔壁付きガラス基板がPDP背面ガラス基板である場合、前記誘電体層は背面誘電体層である。
次に、本発明のペーストの成分について説明する。含有量は特に記載がなければ質量百分率表示含有量である。
軟化点Tsが650℃以下であるガラス粉末(以下、単にガラス粉末ということがある。)は必須である。
Tsが650℃超では焼成時のガラス流動性が低下し、緻密な誘電体層が得られないおそれがある。好ましくは620℃以下、より好ましくは600℃未満である。また、Tsは好ましくは450℃以上である。450℃未満では焼成時にガラスが流動しすぎ、気泡が成長してしまうおそれがある。より好ましくは500℃以上である。
ガラス粉末を焼成して得られる焼成体の50〜350℃における平均線熱膨張係数αは50×10−7〜90×10−7/℃であることが好ましい。この範囲外では、ガラス基板との膨張マッチングが困難となる。より好ましくは55×10−7〜80×10−7/℃である。なお、ガラス基板の前記平均線膨張係数は典型的には65×10−7〜85×10−7/℃である。
ガラス粉末の組成は隔壁付きガラス基板の用途に応じて適切に選ばれるべきであるが、PDP背面ガラス基板用であれば、PbO−SiO−B系、ZnO−B−SiO−RO系、Bi−B−ZnO系等のガラスの粉末が典型的である。なお、Rはアルカリ金属を表す。
PbO−SiO−B系ガラスとしては質量百分率表示で、PbO 60〜80%、SiO 10〜30%、B 0〜20%、Al 0〜10%、TiO 0〜5%の組成を有するガラスを例示できる。ここで、たとえば「B 0〜20%」とは、Bは必須ではないが20%まで含有してもよい、の意である。
ZnO−B−SiO−RO系ガラスとしては質量百分率表示で、ZnO 30〜60%、B 10〜30%、SiO 10〜30%、MgO+CaO+SrO+BaO 0〜5%、LiO+NaO+KO 0〜15%、Al 0〜5%の組成を有するガラスを例示できる。
Bi−B−ZnO系ガラスとしては質量百分率表示で、Bi 5〜30%、B 10〜40%、ZnO 5〜30%、SiO 0〜20%、Al 0〜10%、MgO+CaO+SrO+BaO 0〜5%、LiO+NaO+KO 0〜15%の組成のガラスを例示できる。
これら例示ガラスにおいて含有できる成分はそこに挙げた成分に限られず、本発明の目的を損なわない範囲でその他の成分を含有してもよい。その場合、そのような成分の含有量の合計は5%以下であることが好ましい。
前記その他の成分として、La等の希土類酸化物、P、MnO、Fe、CoO、NiO、GeO、Y、MoO、Rh、AgO、In、TeO、WO、ReO、V、PdO、CuO、CeOが例示される。
ガラス粉末の含有量は典型的には50〜70%である。
無機酸化物粉末は無機フィラーまたは耐熱顔料であり、本発明のペーストの必須成分ではない。
無機フィラーとしては、アルミナ、ムライト、ジルコン、ジルコニア、コージェライト、チタン酸アルミニウム、β−スポジュメン、α−石英、石英ガラス、β−石英固溶体、β−ユークリプタイト、酸化スズ等の粉末が挙げられる。
無機フィラーを含有する場合その含有量は、ガラス粉末および無機酸化物粉末(以下、これらをあわせて無機粉末といい、無機酸化物粉末を含有しない場合にガラス粉末を無機粉末ということがある。)の質量を100部として1〜25質量部が典型的である。
無機酸化物粉末の含有量は典型的には15%以下である。
耐熱顔料としてはチタニア等の白色顔料、Fe−Mn複酸化物系、Fe−Co−Cr複酸化物系、Fe−Mn−Al複酸化物系等の黒色顔料が例示される。
耐熱顔料を含有する場合その含有量は無機粉末の質量を100部として0.5〜10部が典型的である。
樹脂は必須成分であり、少なくとも酢酸セルロースを含有する。酢酸セルロースはPDP隔壁用ペーストの溶剤、典型的にはターピネオール、ブチルカルビトールアセテート等に溶解しないので樹脂が隔壁用ペーストに拡散しにくくなり、その結果誘電体乾燥膜がガラス基板から剥離しにくくなる、または樹脂量の低減が抑制されるので誘電体乾燥膜がサンドブラスト時に切削されるおそれが減少する。
樹脂の含有量は無機粉末の質量を100部として7部未満では誘電体乾燥膜強度が不十分となり、サンドブラスト時に切削されるおそれがある。好ましくは8部以上、より好ましくは10部以上である。15部超ではペースト粘度が高くなりすぎ、十分な印刷適性が得られないおそれがある。より好ましくは13部以下である。
樹脂は酢酸セルロース以外の有機樹脂、たとえばアクリル重合体等を本発明の目的を損なわない範囲で、必要に応じて含有してもよい。その場合、酢酸セルロース以外の有機樹脂の含有量合計は5%以下であることが好ましい。
なお、典型的にはエチルセルロース、ブチラールおよびアクリル重合体のいずれも含有しない、またはこれらのいずれかを含有しない。
溶剤は必須であり、その含有量は30〜40%であることが好ましい。40%超では、ペースト乾燥時の収縮量が大きくなりすぎ所望の膜厚が得られないおそれがある。
本発明のペーストに用いられる溶剤は、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、N−メチルピロリドン、メチルグリコールアセテート、プロピレングリコールジアセテート、1,3−ブチレングリコールジアセテート、トリアセチン、ベンジルアセテート、アセトフェノン、蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸エチル、ニトロメタン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、メチルグリコール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジオキソラン、塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロルエタン、ジメチルスルホキシド、炭酸プロピレン、クエン酸トリエチル、クエン酸アセチルトリエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジアリール、フタル酸ジエチル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジ−2−メトキシエチル、酒石酸ジブチル、o−ペンゾイル安息香酸エチル、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、N−エチルトルエンスルホンアミド、p−トルエンスルホン酸o−クレジル、リン酸トリエチル、リン酸トリフェニル、トリプロピオニン、ヘキシレングリコール、ターピネオールおよびブチルカルビトールアセテートからなる群から選ばれる1種以上の溶剤を含有することが好ましい。典型的には、プロピレングリコールジアセテート、N−メチル−2−ピロリドン、トリアセチン、ブチルカルビトールアセテートおよびヘキシレングリコールからなる群から選ばれた2種以上の有機溶剤を含有する。なお、N−メチル−2−ピロリドンはスクリーン印刷に使用される乳剤を溶かすことがあるので、スクリーン印刷法以外の方法たとえばコート法を用いる場合などで使用することが好ましい。また、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールモノイソブチレート等の溶剤を、本発明の目的を損なわない範囲で含有してもよい。
本発明のペーストは本質的に上記成分からなるものであることが好ましい。この好ましい態様においては上記成分以外の成分、たとえばカルボキシル基、リン酸基、アミノ基および水酸基からなる群から選ばれる1種以上の官能基などの官能基を有する有機添加剤を本発明の目的を損なわない範囲で含有してもよい。その場合そのような成分の含有量は5%以下であることが好ましい。
質量百分率表示の組成が、SiO 18%、B 21%、ZnO 48%、Al 4%、LiO 1%、NaO 8%、であるガラス粉末A(Ts=570℃、α=72×10−7/℃)を次のようにして作製した。
すなわち、原料を上記組成となるように調合して混合し、1200〜1350℃の電気炉中で白金るつぼを用いて1時間溶解し、溶融ガラスを流し出して薄板状ガラスに成形した。該薄板状ガラスをボールミルで粉砕して平均粒径が1.6μmのガラス粉末とした。
次に、表1のガラス粉末Aからブチラールまでの欄に質量百分率表示で示す組成のペースト1〜7を次のようにして作製した。なお、同欄中のプロピレングリコールジアセテートからブチルカルビトールアセテートまでは溶剤、酢酸セルロースからブチラールまでは樹脂、樹脂質量部はガラス粉末Aの質量を100部としたときの樹脂含有量(単位:部)であり、ペースト1〜3は実施例、ペースト4〜7は比較例である。
まず、樹脂と溶剤を混ぜ、85℃で4時間攪拌し、ビヒクルを作製した。
次に、ビヒクルとガラス粉末Aを混合し、三本ロールにて混練して、誘電体用ペーストとした。
一方、隔壁用ペーストは次のように作製した。
まず、エチルセルロース10質量部に対し、ターピネオールを45質量部、ブチルカルビトールアセテートを45質量部を混合し、85℃で4時間攪拌し、ビヒクルを作製した。
次に、ガラス粉末A78質量部に対し、ビヒクル22重量部を混合した後、三本ロールにて混練し、ずり速度20s−1での粘度が25Pa・sとなるように粘度調整し、隔壁用ペーストとした。
前記誘電体用ペーストを、10cm角のガラス基板(旭硝子社製PD200)に#180スクリーン版で印刷し、160℃の乾燥機にて20分乾燥させ、誘電体乾燥膜付き基板とした。
次に、得られた誘電体乾燥膜付き基板上に、前記隔壁用ペーストを乾燥後膜厚が200μmとなるようにブレードコートし、185℃で20分乾燥した。隔壁用ペースト乾燥後に、隔壁用乾燥膜表面における凹みの有無を目視確認した。乾燥膜表面に凹みが見られないものを○、凹みが見られるものを×として表1に示す。
次に、東京応化工業社製のドライフィルムNB235を、ロール温度110℃、ロール圧150kPa、基板搬送速度0.45m/分の条件で1回ラミネ−タに通した。その後、感光ライン幅60μm、L/Sが1/4のパターンの露光マスクをセットして200mJ/cmで露光し、0.5%炭酸ナトリウム水溶液の現像液で現像した。これをエルフォテック社製サンドブラスト装置(型式 ELP−1TR)および研削材(SUS#1200)を用いてブラストし、誘電体乾燥膜の切削状態を目視確認した。
誘電体乾燥膜が切削され、ガラス基板が露出しているものを×、誘電体乾燥膜がほとんど切削されずガラス基板の露出が見られないものを○として表1に示す。
Figure 2008156192
PDP背面ガラス基板の製造に利用できる。
本発明の誘電体用ガラスペーストを用いて行う隔壁付きガラス基板の製造方法を説明するための図である。
符号の説明
1:ガラス基板
2:電極
3:第1の乾燥膜(誘電体乾燥膜)
4A:第2の乾燥膜(隔壁用乾燥膜)
4B:未焼成隔壁

Claims (5)

  1. 電極が形成されたガラス基板の一方の面にその電極を被覆するように誘電体用ガラスペーストを塗布、乾燥して第1の乾燥膜とし、その乾燥膜上に隔壁用ガラスペーストを塗布、乾燥して第2の乾燥膜とし、第2の乾燥膜を隔壁形状に加工後焼成して、第1の乾燥膜が誘電体層となり、加工された第2の乾燥膜が隔壁となるようにして行う隔壁付きガラス基板の製造において用いられる誘電体用ガラスペーストであって、
    軟化点が650℃以下であるガラス粉末、酢酸セルロースおよび溶剤を含有し、前記ガラス粉末の他に無機酸化物粉末を含有する場合にはガラス粉末および無機酸化物粉末の合計質量を100部とし、前記ガラス粉末の他には無機酸化物粉末を含有しない場合にはガラス粉末の質量を100部としたときに、酢酸セルロースの質量が7〜15部である誘電体用ガラスペースト。
  2. 溶剤の質量百分率表示含有量が40%以下である請求項1の誘電体用ガラスペースト。
  3. 溶剤が、プロピレングリコールジアセテート、N−メチル−2−ピロリドン、トリアセチン、ブチルカルビトールアセテートおよびヘキシレングリコールからなる群から選ばれた2種以上の有機溶剤を含有する請求項1または2の誘電体用ガラスペースト。
  4. 樹脂が酢酸セルロースの他に有機樹脂を含有する場合当該有機樹脂の質量百分率表示含有量が5%以下である請求項1、2または3の誘電体用ガラスペースト。
  5. 前記隔壁付きガラス基板がプラズマディスプレイパネルの背面ガラス基板である請求項1、2、3または4の誘電体用ガラスペースト。
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