JP2008150341A - ４−アセトキシシクロヘキシルビニルエーテル - Google Patents

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広明 高松
Takuma Hojo
拓馬 北條
Kazuhiko Atsumi
和彦 渥美
Atsushi Shibata
敦司 芝田
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Abstract

【課題】各種の樹脂の改質剤、架橋剤及び光学・電子材料などに用いられる低誘電率樹脂の原料として有用な４−アセトキシシクロヘキシルビニルエーテルの提供。
【解決手段】
Figure 2008150341

で表される４−アセトキシシクロヘキシルビニルエーテル。
【選択図】図１

Description

本発明は、新規なビニルエーテル並びにその製造方法及び用途に関し、更に詳しくは各種の樹脂の改質剤、架橋剤及び、光学・電子材料などに用いられる低誘電率樹脂の原料として有用な4-アセトキシシクロヘキシルビニルエーテルに関する。
本発明に係る4-アセトキシシクロヘキシルビニルエーテルに関しては、ケミカルアブストラクト（Chemical Abstract）に記載が無く、また、本発明者等の知るかぎりでは、その他の文献にも記載が見当たらないので、この化合物は新規化合物であると考えられる。

本発明の目的は、4-アセトキシシクロヘキシルビニルエーテル並びにその製造方法及び用途を提供することにある。

本発明に従えば、式（Ｉ）：
Figure 2008150341
 （Ｉ）
で表されるビニルエーテルが提供される。

本発明に係る4-アセトキシシクロヘキシルビニルエーテルは、各種の樹脂の改質剤、架橋剤として有用であり、また、重合組成物は、分子内に比較的嵩高い骨格を持つための低誘電率性と硬化性、密着性、耐水性に優れる電子材料、光学材料等における低誘電率樹脂の原料として期待できる。

また、その重合組成物は、アセトキシ基を加水分解することにより、任意に水酸基を生じさせ、親水性を調節することができ、さらにこの水酸基をエステル化、ハロゲン化などをすることができるなど、電子材料、光学材料等の樹脂原料として期待できる。

以下、本発明について詳しく説明する。

本発明に関わるビニルエーテル（Ｉ）は、次のような反応式に従って調製することができる。
Figure 2008150341
 本発明化合物の具体的な合成法としては、例えば、次のような方法を挙げることができる。
例えば、ガラス容器に原料のヒドロキシシクロヘキシルビニルエーテルと無水酢酸を入れ、反応触媒として例えば、ピリジンやジメチルアミノピリジン等の塩基触媒を添加する。
次いで、室温で攪拌することにより本発明の新規化合物である4-アセトキシシクロヘキシルビニルエーテルが生成する。
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
実施例１
ガラス製三口フラスコにヒドロキシシクロヘキシルビニルエーテル（日本カーバイド工業株式会社製、HCHVE）5.0g、無水酢酸11.3gを仕込み反応触媒としてジメチルアミノピリジン0.03g、ピリジン0.02gを添加した。室温で20時間攪拌した後、圧力3〜5mmHg、温度150℃で減圧蒸留することにより4-アセトキシシクロヘキシルビニルエーテルを収率77.3%で得た。
得られた化合物はNMR分析の結果、下記式で示される4-アセトキシシクロヘキシルビニルエーテルであった。
Figure 2008150341
 得られた4-アセトキシシクロヘキシルビニルエーテルのNMR結果を示す。
1H NMR
(CDCl3,400MHz)：σ ppm 6.32( dd, J
= 6.4 14.4 Hz ; c ), 4.84-4.78( m, 1H ; g ), 4.29( dd, J = 1.6, 14.4 Hz, 1H ; a ), 4.02(
dd, J = 1.6, 6.4 Hz, 1H ; b ), 3.90-3.80( m,
1H ; d ), 2.03( s, 3H ; h ), 1.99-1.45( m, 8H ; e, f, i,
j ).
本発明の4-アセトキシシクロヘキシルビニルエーテルは、各種の樹脂の改質剤、架橋剤として有用であり、また、重合組成物は、分子内に比較的嵩高い骨格を持つための低誘電率性と硬化性、密着性、耐水性に優れる電子材料、光学材料における低誘電率樹脂の原料として期待できる。

また、その重合組成物は、アセトキシ基を加水分解することにより、任意に水酸基を生じさせ親水性を調節することができ、さらにこの水酸基をエステル化、ハロゲン化などすることができ、電子材料、光学材料等の樹脂原料として期待できる。
実施例１の4-アセトキシシクロヘキシルビニルエーテルのＮＭＲチャートである。 実施例１の4-アセトキシシクロヘキシルビニルエーテルのIRチャートである。

Claims (3)

  1. 4-アセトキシシクロヘキシルビニルエーテル
  2. 請求項１に記載の化合物を用いた電子・光学材料用、多層基盤用の樹脂原料。
  3. 各種の樹脂の改質剤や架橋剤としての利用。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2228415A1 (en) 2009-03-11 2010-09-15 Konica Minolta IJ Technologies, Inc. Acting energy radiation curable ink-jet ink, ink-jet recoring method, and printed matter
EP2236568A1 (en) 2009-04-02 2010-10-06 Konica Minolta IJ Technologies, Inc. Actinic energy radiation curable ink-jet ink and ink-jet image forming method
WO2012102046A1 (ja) 2011-01-26 2012-08-02 コニカミノルタホールディングス株式会社 活性エネルギー線硬化型インクジェットインク組成物、活性エネルギー線硬化型インクジェットインク及びインクジェット記録方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05186383A (ja) * 1991-05-17 1993-07-27 Nippon Carbide Ind Co Inc １，４−シクロヘキサンジオールモノビニルエーテル
JP2002253286A (ja) * 2001-03-05 2002-09-10 Nippon Shokubai Co Ltd ビニルエーテル基含有カルボン酸エステル類の製造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05186383A (ja) * 1991-05-17 1993-07-27 Nippon Carbide Ind Co Inc １，４−シクロヘキサンジオールモノビニルエーテル
JP2002253286A (ja) * 2001-03-05 2002-09-10 Nippon Shokubai Co Ltd ビニルエーテル基含有カルボン酸エステル類の製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2228415A1 (en) 2009-03-11 2010-09-15 Konica Minolta IJ Technologies, Inc. Acting energy radiation curable ink-jet ink, ink-jet recoring method, and printed matter
EP2236568A1 (en) 2009-04-02 2010-10-06 Konica Minolta IJ Technologies, Inc. Actinic energy radiation curable ink-jet ink and ink-jet image forming method
WO2012102046A1 (ja) 2011-01-26 2012-08-02 コニカミノルタホールディングス株式会社 活性エネルギー線硬化型インクジェットインク組成物、活性エネルギー線硬化型インクジェットインク及びインクジェット記録方法

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