JP2009096836A - 1−アセトキメチル−4−シクロヘキシルメチルビニルエーテル - Google Patents
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- 0 C[C@@]1[C@@](C)(COC=*)CCC(COC(C)=O)C1 Chemical compound C[C@@]1[C@@](C)(COC=*)CCC(COC(C)=O)C1 0.000 description 1
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Abstract
Description
本発明は、新規なビニルエーテル並びにその製造方法及び用途に関し、更に詳しくは各種樹脂の改質剤、光学材料、電気・電子材料などに用いられる低誘電率樹脂の原料として有用な1‐アセトキメチル-4-シクロヘキシルメチルビニルエーテルに関する。
本発明に係る1-アセトキメチル-4-シクロヘキシルメチルビニルエーテルに関しては、ケミカルアブストラクト(Chemical Abstract)に記載が無く、また、本発明者等の知るかぎりでは、その他の文献にも記載が見当たらないので、この化合物は新規化合物であると考えられる。
本発明の目的は、1-アセトキメチル-4-シクロヘキシルメチルビニルエーテル並びにその製造方法及び用途を提供することにある。
本発明に係る1-アセトキメチル-4-シクロヘキシルメチルビニルエーテルは、各種の樹脂の改質剤、架橋剤として有用であり、また、重合組成物は、分子内に比較的嵩高い骨格を持つための低誘電率性と硬化性、密着性、耐水性に優れる電子材料、光学材料等における低誘電率樹脂の原料として期待できる。
また、その重合組成物は、アセトキシ基を加水分解することにより、任意に水酸基を生じさせ、親水性を調節することができ、さらにこの水酸基をエステル化、ハロゲン化などをすることができるなど、電子材料、光学材料等の樹脂原料として期待できる。
以下、本発明について詳しく説明する。
本発明に関わるビニルエーテル(I)は、次のような反応式に従って調製することができる。
例えば、ガラス容器に原料のシクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテルと
無水酢酸を入れ、反応触媒として例えば、ピリジンやジメチルアミノピリジン等の塩基触媒を添加する。
無水酢酸を入れ、反応触媒として例えば、ピリジンやジメチルアミノピリジン等の塩基触媒を添加する。
次いで、氷冷下で攪拌することにより本発明の新規化合物である1-アセトキメチル-4-シクロヘキシルメチルビニルエーテルが生成する。
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
実施例1
ガラス製三口フラスコにシクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル(日本カーバイド工業株式会社製、CHMVE)200g、無水酢酸215gを仕込み反応触媒としてジメチルアミノピリジン1.6g、ピリジン1.1mlを氷浴下で添加した。氷浴で1時間攪拌した後、圧力1〜2mmHg、温度170℃で減圧蒸留することにより1-アセトキメチル-4-シクロヘキシルメチルビニルエーテルを収率82%で得た。
得られた化合物はNMR分析の結果、下記式で示される1-アセトキメチル-4-シクロヘキシルメチルビニルエーテルであった。
得られた1-アセトキメチル-4-シクロヘキシルメチルビニルエーテルの1H NMRスペクトル結果を示す。
1H NMR (CDCl3,400MHz):σ ppm 6.46( dd, J = 7.0, 14.4 Hz 1H ; c ),
4.17( dd, J = 2.0, 14.4 Hz 1H ; a ), 4.01( dd, J = 2.0, 7.0 Hz,
1H ; b ), 3.97( d, J = 6.4 Hz, 2H ; k ), 3.50( d, J = 6.4 Hz 2H ;
d ), 2.05( s, 3H ; l ), 1.86-0.99( m, 10H ; e, f, g, h, i, j ).
ガラス製三口フラスコにシクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル(日本カーバイド工業株式会社製、CHMVE)200g、無水酢酸215gを仕込み反応触媒としてジメチルアミノピリジン1.6g、ピリジン1.1mlを氷浴下で添加した。氷浴で1時間攪拌した後、圧力1〜2mmHg、温度170℃で減圧蒸留することにより1-アセトキメチル-4-シクロヘキシルメチルビニルエーテルを収率82%で得た。
得られた化合物はNMR分析の結果、下記式で示される1-アセトキメチル-4-シクロヘキシルメチルビニルエーテルであった。
1H NMR (CDCl3,400MHz):σ ppm 6.46( dd, J = 7.0, 14.4 Hz 1H ; c ),
4.17( dd, J = 2.0, 14.4 Hz 1H ; a ), 4.01( dd, J = 2.0, 7.0 Hz,
1H ; b ), 3.97( d, J = 6.4 Hz, 2H ; k ), 3.50( d, J = 6.4 Hz 2H ;
d ), 2.05( s, 3H ; l ), 1.86-0.99( m, 10H ; e, f, g, h, i, j ).
本発明の1-アセトキメチル-4-シクロヘキシルメチルビニルエーテルは、各種の樹脂の改質剤、架橋剤として有用であり、また、重合組成物は、分子内に比較的嵩高い骨格を持つための低誘電率性と硬化性、密着性、耐水性に優れる電子材料、光学材料における低誘電率樹脂の原料として期待できる。
また、その重合組成物は、アセトキシ基を加水分解することにより、任意に水酸基を生じさせ親水性を調節することができ、さらにこの水酸基をエステル化、ハロゲン化などすることができ、電子材料、光学材料等の樹脂原料として期待できる。
また、その重合組成物は、アセトキシ基を加水分解することにより、任意に水酸基を生じさせ親水性を調節することができ、さらにこの水酸基をエステル化、ハロゲン化などすることができ、電子材料、光学材料等の樹脂原料として期待できる。
Claims (3)
1-アセトキシメチル-4-シクロヘキシルメチルビニルエーテル
請求項1に記載の化合物を用いた電子・光学材料用、多層基盤用の樹脂原料。
各種の樹脂の改質剤並びに架橋剤としての利用。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2007267334A JP2009096836A (ja) | 2007-10-15 | 2007-10-15 | 1−アセトキメチル−4−シクロヘキシルメチルビニルエーテル |
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JP2007267334A JP2009096836A (ja) | 2007-10-15 | 2007-10-15 | 1−アセトキメチル−4−シクロヘキシルメチルビニルエーテル |
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JP2009096836A true JP2009096836A (ja) | 2009-05-07 |
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JP (1) | JP2009096836A (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002253286A (ja) * | 2001-03-05 | 2002-09-10 | Nippon Shokubai Co Ltd | ビニルエーテル基含有カルボン酸エステル類の製造方法 |
-
2007
- 2007-10-15 JP JP2007267334A patent/JP2009096836A/ja active Pending
Patent Citations (1)
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