JP2008143789A - ビニルナフタレン化合物の精製方法および精製ビニルナフタレン化合物 - Google Patents

ビニルナフタレン化合物の精製方法および精製ビニルナフタレン化合物 Download PDF

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Abstract

【課題】ナフタレン化合物の含量が少ないビニルナフタレン精製物を得るための精製方法を提供する。
【解決手段】下記式(1)
【化1】
Figure 2008143789

(式(1)中、Rはエステル基、アルコキシカルボニルオキシ基またはヒドロキシ基を表す。)
で示されるビニルナフタレン化合物が溶解した水溶性アルコール溶液を調製する工程と、
前記水溶性アルコール溶液から前記ビニルナフタレン化合物を析出させる工程と、
を有するビニルナフタレン化合物の精製方法。
【選択図】なし

Description

本発明は、ビニルナフタレン化合物の精製方法および該精製方法によって得られた精製ビニルナフタレン化合物に関する。
ビニルナフタレン化合物の製造方法としては、いろいろな製造方法が提案されている(例えば、特許文献1〜3参照。)。特許文献1および2には、6−ヒドロキシ−2−ナフチルアルデヒドを原料としたウィッティヒ反応による合成方法が記載されいる。また、特許文献3には、6−ブロモ−2−t−ブトキシナフタレンのグリニヤール反応による6−ビニル−2−t−ブトキシナフタレンの合成方法が記載されている。
これらの製造方法により得られた反応生成物中には、下記式(1)で示されるビニルナフタレン化合物のほか、副生した下記式(2)で示されるナフタレン化合物等の不純物や、あるいは原料アルデヒド等に由来する不純物が含まれる。
Figure 2008143789
Figure 2008143789
(式(1)および(2)中、Rはエステル基、アルコキシカルボニルオキシ基またはヒドロキシ基を表す。)
この式(2)で示されるナフタレン化合物は、式(1)で示されるビニルナフタレン化合物を用いる重合反応において、反応阻害物質となる。このため、精製によりその含有量を低減する必要がある。特許文献1および2には、シリカゲルカラムを用いた精製方法が開示され、特許文献3には、粗精製物をエタノール中で再結晶化して精製する方法が開示されている。しかしながら、特許文献1および2に記載されているようなシリカゲルカラムを用いた精製方法や、エタノール中で再結晶化する精製方法は工業的な方法ではなく、工業的に優位な精製方法が求められている。
特開2004−163877号公報 特開2006−201778号公報 特開平11−222452号公報
本発明の目的は、重合体製造に影響を及ぼすナフタレン化合物の含量が少ないビニルナフタレン精製物を得ることにあり、そのための精製方法を提供することにある。
上記課題を解決した本発明は、
下記式(1)
Figure 2008143789
(式(1)中、Rはエステル基、アルコキシカルボニルオキシ基またはヒドロキシ基を表す。)
で示されるビニルナフタレン化合物が溶解した水溶性アルコール溶液を調製する工程と、
前記水溶性アルコール溶液から前記ビニルナフタレン化合物を析出させる工程と、
を有するビニルナフタレン化合物の精製方法である。
本発明によれば、不純物であるナフタレン化合物を簡便に除去できるため、不純物含量が少ないビニルナフタレン化合物を容易に得ることができる。また本発明により得られるビニルナフタレン化合物は、重合反応に影響を及ぼすナフタレン化合物の含量が少ないため、樹脂等の製造に有利である。
以下、本発明について詳細に説明する。
まず最初に、下記式(1)で示されるビニルナフタレン化合物について説明する。
Figure 2008143789
式(1)中、Rはエステル基、アルコキシカルボニルオキシ基またはヒドロキシ基を表す。
エステル基としては、特に制限されないが、低級アルキル、置換低級アルキル、低級アルケニル、シクロアルキル、置換シクロアルキル、芳香族基、置換芳香族基、複素環基、又は置換複素環基等を有するカルボン酸のエステル基が挙げられる。また、アルコキシカルボニルオキシ基としては、特に制限されないが、炭素数1〜8の直鎖もしくは分岐のアルコキシ基、ベンジルオキシ基又はフェネチルオキシ基等を有するものが挙げられる。
Rの位置は、特に限定はされないが、ビニル基を2位とすると1位、6位又は8位の位置が好ましい。Rの位置が、1位、6位又は8位の位置にある場合に、193nmエキシマレーザー光に対する透明性が高くなる傾向にある。中でも、Rの位置は、6位の位置であることが特に好ましい。
上記式(1)で示される化合物としては、特に制限されないが、例えば、2−アセトキシ−6−ビニルナフタレン、2−モノクロロアセトキシ−6−ビニルナフタレン、2−トリフロロアセトキシ−6−ビニルナフタレン、ピバル酸2−(6−ビニル)ナフチル、安息香酸2−(6−ビニル)ナフチル、2−メトキシカルボニルオキシ−6−ビニルナフタレン、2−エトキシカルボニルオキシ−6−ビニルナフタレン、2−イソプロピルオキシカルボニルオキシ−6−ビニルナフタレン、2−tert−ブトキシカルボニルオキシ−6−ビニルナフタレン、2−ベンジルオキシカルボニルオキシ−6−ビニルナフタレン、2−ヒドロキシ−6−ビニルナフタレン等が挙げられる。
これらの中では、193nmエキシマレーザー光に対する透明性やディフェクト、あるいはラインエッジラフネス、エッチング耐性などの点から、2−アセトキシ−6−ビニルナフタレン、2−モノクロロアセトキシ−6−ビニルナフタレン、2−トリフロロアセトキシ−6−ビニルナフタレン、2−メトキシカルボニルオキシ−6−ビニルナフタレン、2−イソプロピルオキシカルボニルオキシ−6−ビニルナフタレン、2−tert−ブトキシカルボニルオキシ−6−ビニルナフタレン、2−ヒドロキシ−6−ビニルナフタレンが好ましく、2−アセチル−6−ビニルナフタレン、2−tert−ブトキシカルボニルオキシ−6−ビニルナフタレン、2−ヒドロキシ−6−ビニルナフタレンが特に好ましい。
式(1)で示されるビニルナフタレン化合物の製造方法は、特に制限されないが、ウィッティヒ反応またはグリニヤール反応など公知の技術を用いて製造することができる。
次に、本発明のビニルナフタレン化合物の精製方法について説明する。
本発明のビニルナフタレン化合物の精製方法は、上記式(1)で示されるビニルナフタレン化合物が溶解した水溶性アルコール溶液を調製する工程と、該水溶性アルコール溶液から該ビニルナフタレン化合物を析出させる工程と、を有する。
ここでいう水溶性アルコールとは、23℃、1013hPaにおける水の溶解度が5質量%以上、好ましくは10質量%以上であるアルコールである。水溶性アルコールとしては、特に制限されないが、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロピルアルコール、n−ブタノール、tert−ブタノール、n−アミルアルコール、シクロヘキシルアルコール、エチレングリコールなどが挙げられる。回収収率の点からメタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロピルアルコール、tert−ブタノールが好ましい。
水溶性アルコールのみからなる溶媒にビニルナフタレン化合物を溶解させてもよく、あるいは水溶性アルコール以外の溶媒を含む混合溶媒にビニルナフタレン化合物を溶解させてもよい。しかしながら、溶解速度などの操作性の点から、水溶性アルコールのみからなる溶媒にビニルナフタレン化合物を溶解させることが好ましい。
上記ビニルナフタレン化合物が溶解した水溶性アルコール溶液を調製する工程における溶解操作時の水溶性アルコール溶液の温度は、特に制限されないが、通常、0〜100℃の範囲とすることが好ましい。0℃以上の温度とすると回収したビニルナフタレン化合物の純度が高くなる傾向にあり、また100℃以下とすると操作中のビニルナフタレン化合物の副反応(重合反応)が抑制される傾向にあり好ましい。溶解操作時の温度は、5℃以上がより好ましく、10℃以上がさらに好ましく、20℃以上が特に好ましい。また、溶解操作時の温度は80℃以下がより好ましく、60℃以下がさらに好ましく、50℃以下が特に好ましい。
水溶性アルコール溶液中のビニルナフタレン化合物の濃度は、特に制限されないが、1〜60質量%の範囲とすることが好ましい。ビニルナフタレン化合物の濃度を1質量%以上とするとビニルナフタレン化合物の回収収率が高くなる傾向にあり、60質量%以下とすると回収されたビニルナフタレン化合物の純度が高くなる傾向にあり好ましい。ビニルナフタレン化合物の濃度は、5質量%以上がより好ましく、7.5質量%以上がさらに好ましく、10質量%以上が特に好ましい。また、ビニルナフタレン化合物の濃度は、50質量%以下がより好ましく、45質量%以下がさらに好ましく、40質量%以下が特に好ましい。
またこのときビニルナフタレン化合物の重合反応が起こるのを防ぐため、ハイドロキノン、トリメチルハイドロキノン、2,5−ジ−tert−ブチルハイドロキノン、p−メトキシフェノール、p−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩などの重合禁止剤やアルカリ(土類)金属塩、アルカリ(土類)金属アルコキシド、塩基性化合物(アミン等)などの重合遅延剤を単独で、あるいは適宜組み合わせて加えても良い。
アルカリ(土類)金属塩としては水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム、炭酸水素ナトリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、炭酸水素カリウム、酢酸カルシウム等が挙げられる。またアルカリ(土類)金属アルコキシドとしてはナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムイソプロポキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、カリウムイソプロポキシド、カリウム−tert−ブトキシド、マグネシウムメトキシド、カルシウムメトキシド等が挙げられる。またアミンとしてはアンモニア、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ブチルアミン、ジブチルアミン、トリブチルアミン、オクチルアミン、ジオクチルアミン、エタノールアミン、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、ピコリン、ルチジン、アニリン、ジメチルアニリン、ピリジン、ピペリジン等が挙げられる。
これら重合禁止剤や重合遅延剤の添加量は、特に制限されないが、ビニルナフタレン化合物100質量部に対して0.0001〜5質量部の範囲とすることが好ましい。添加量を0.0001質量部以上とすると操作中のビニルナフタレン化合物の副反応(重合反応)が抑制される傾向にあり、5質量部以下とすると回収されたビニルナフタレン化合物の純度が高くなる傾向にあり好ましい。これら重合禁止剤や重合遅延剤の添加量は、0.0005質量部以上がより好ましく、0.001質量部以上がより好ましく、0.01質量部以上が特に好ましい。またこれら重合禁止剤や重合遅延剤の添加量は、2質量部以下がより好ましく、1質量部以下がさらに好ましく、0.5質量部以下が特に好ましい。またビニルナフタレン化合物の水溶性アルコール溶液から析出させる前に、ろ過、洗浄、吸着などの不純物除去操作を行っても良い。さらに、回収収率を向上させる目的で、溶媒の溜去操作を行ってもよい。
本発明のビニルナフタレン化合物の精製方法においては、次に、前記水溶性アルコール溶液から前記ビニルナフタレン化合物を析出させる工程を行う。本発明におけるビニルナフタレン化合物を析出させる工程においては、前記工程において調製したビニルナフタレン化合物の水溶性アルコール溶液をそのまま冷却し該ビニルナフタレン化合物を析出させてもよい。またビニルナフタレン化合物の回収収率を向上させるために該ビニルナフタレン化合物溶液に貧溶媒を添加することが好ましい。貧溶媒としては収率の点で水が好ましい。貧溶媒の添加量は特に制限されないが、ビニルナフタレン化合物溶液の100質量部に対して10〜400質量部の範囲の貧溶媒を加えることが好ましい。貧溶媒の添加量を10質量部以上とするとビニルナフタレン化合物の回収収率が高くなる傾向があり、400質量部以下とすると回収されたビニルナフタレン化合物の化学純度が高くなる傾向があり好ましい。貧溶媒の添加量は、15質量部以上がより好ましく、20質量部以上がさらに好ましく、25質量部以上が特に好ましい。また、貧溶媒の添加量は、300質量部以下がより好ましく、200質量部以下がさらに好ましく、150質量部以下が特に好ましい。
貧溶媒を添加するときのビニルナフタレン化合物溶液の温度は、特に制限されないが、−40℃〜40℃の範囲とすることが好ましい。貧溶媒を添加するときのビニルナフタレン化合物溶液の温度を−40℃以上とすると回収されたビニルナフタレン化合物の化学純度が高くなる傾向にあり、40℃以下とするとビニルナフタレン化合物の副反応(重合反応)が抑制される傾向にあり好ましい。貧溶媒を添加するときのビニルナフタレン化合物溶液の温度は、−30℃以上がより好ましく、−20℃以上がさらに好ましく、−10℃以上が特に好ましい。また貧溶媒を添加するときのビニルナフタレン化合物溶液の温度は35℃以下がより好ましく、30℃以下がさらに好ましく、20℃以下が特に好ましい。また、この範囲内の温度で貧溶媒に該反応溶液を加えても良い。
貧溶媒添加後、溶液を式(1)で示されるビニルナフタレン化合物結晶の単離温度まで冷却してもよい。冷却速度は、特に制限されないが、1〜30℃/hの範囲とすることが好ましい。冷却速度を1℃/h以上とすると温度制御が容易になる傾向があり、30℃/h以下とすると回収されたビニルナフタレン化合物の化学純度が高くなる傾向があり好ましい。冷却速度は2℃/h以上がより好ましく、5℃/h以上がさらに好ましい。また冷却速度は20℃/h以下がより好ましく、15℃/h以下がさらに好ましい。
析出したビニルナフタレン化合物の単離温度は、特に制限されないが、−40〜40℃の範囲とすることが好ましい。単離温度を−40℃以上とすると回収されたビニルナフタレン化合物の化学純度が高くなる傾向にあり、単離温度を40℃以下とするとヒドロキシビニルナフタレン化合物の回収収率が高くなる傾向にあり好ましい。単離温度は−30℃以上がより好ましく、−25℃以上がさらに好ましく、−20℃以上が特に好ましい。また、単離温度は、30℃以下がより好ましく、25℃以下がさらに好ましく、20℃以下が特に好ましい。
上述のようにして、ビニルナフタレン化合物結晶を単離することにより、化学純度が改善された式(1)で示される精製ビニルナフタレン化合物を得ることができる。この精製方法で式(1)で示されるビニルナフタレン化合物を精製すると、回収収率や操作効率、化学純度などの点で有利である。
上述のようにして、ビニルナフタレン化合物結晶を単離することにより、下記式(2)で示されるナフタレン化合物の含有量が1質量%以下である、前記式(1)で示される精製ビニルナフタレン化合物が得られる。
Figure 2008143789
式(2)中、Rはエステル基、アルコキシカルボニルオキシ基またはヒドロキシ基を表し、前記式(1)のRと同じ構造である。
式(2)で示されるナフタレン化合物は重合反応条件において、ラジカルトラップ剤あるいは連鎖移動剤として働くため、式(2)で示されるナフタレン化合物の含有量が1質量%以下の精製ビニルナフタレン化合物をモノマーとして用いて重合反応を行なうと、分子量制御などの点で有利であり、好ましい。
式(2)で示されるナフタレン化合物の含有量は、0.9質量%以下がより好ましく、0.8質量%以下がさらに好ましく、0.7質量%以下が特に好ましく、0.6質量%以下が最も好ましい。
なお、式(2)で示されるナフタレン化合物の含有量の下限値は、特に制限されない。
以下、本発明を実施例及び比較例を挙げてより具体的に説明する。
なお、ビニルナフタレン化合物の含有量は、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)及びキャピラリーガスクロマトグラフィー(GC)を用いて下記の分析条件のもとで測定した。
<2−ヒドロキシ−6−ビニルナフタレン(2HVNと表すことがある。)、2−tert−ブトキシカルボニルオキシ−6−ビニルナフタレン(2TBVNと表すことがある。)の化学純度のHPLC分析条件>
・試料調製:結晶0.5gをアセトニトリルに溶解し100mL溶液を調製
・カラム:イナートシルODS−3V(4.6×250mm、GLサイエンス社製)2本を直列に連結
・カラムオーブン温度:40℃
・移動層:アセトニトリル
・流速:0.5mL/min
・検出:RI
・サンプル注入量:5μL
・2−ナフトール(2NTと表すことがある。)の保持時間:約13.0分
・2−tert−ブトキシカルボニルオキシナフタレン(2TBNと表すことがある。)の保持時間:約13.3分
・2−ヒドロキシ−6−ビニルナフタレン(2HVN)の保持時間:約14.0分
・2−tert−ブトキシカルボニルオキシ−6−ビニルナフタレン(2TBVN)の保持時間:約15.6分
2−ナフトール(2NT)および2−tert−ブトキシカルボニルオキシナフタレン(2TBN)含有量は下記の式によりそれぞれ求めた。
2NT含有量(質量%)=100×[2NTの質量/(2NTの質量+2HVNの質量)]
2TBN含有量(質量%)=100×[2TBNの質量/(2TBNの質量+2TBVNの質量)]
<2−アセトキシ−6−ビニルナフタレン(2AVNと表すことがある。)の化学純度のキャピラリーGC分析条件>
・試料調製:結晶0.5gをアセトニトリルに溶解し100mL溶液を調製
・カラム: DB−5(0.32mm×30m、GLサイエンス社製)
・キャリアガス: He
・カラム流速: 2.2mL/min
・スプリット比: 1:50
・インジェクション温度: 200℃
・ディテクション温度: 200℃
・カラムオーブン温度: 50℃から10℃/min.で昇温250℃まで昇温し、250℃で10分間保持
・検出: FID
・サンプル注入量: 1μL
・2−アセトキシナフタレン(2AONと表すことがある。)の保持時間:約13.0分
・2−アセトキシ−6−ビニルナフタレン(2AVN)の保持時間:約14.0分
2−アセトキシナフタレン(2AON)含有量は下記の式により求めた。
・2AON含有量(質量%)=100×[2AONの質量/(2AONの質量+2AVNの質量)]
[合成例1]
「2−(1−n−ブトキシ−1−エトキシ)−6−ブロモ−ナフタレンの製造」
温度計、還流コンデンサー、滴下漏斗及び攪拌翼を有する4つ口フラスコに6−ブロモ−2−ナフトール33.5g(0.15mol)、酢酸エチル400mlを仕込み、内温25℃で3時間攪拌した。p−トルエンスルホン酸ピリジウム塩3.6g(14.2mmol)を加えた後、内温を75℃まで昇温し、内温を保ちながらn−ブチルビニルエーテル30.0g(0.30mol)を15分かけて滴下した。滴下終了後、反応液を冷却し内温25℃でさらに4時間攪拌した。反応終了後、8%炭酸水素ナトリウム水溶液60gを加え、反応液を洗浄した。同様の操作で反応液を再度洗浄した後、得られた有機相から減圧下溶媒を留去(減圧度1330Pa)することにより固形物として粗体6−ブロモ−2−(1−n−ブトキシ−1−エトキシ)ナフタレン50.5gを得た。
「2−(1−n−ブトキシ−1−エトキシ)−6−ビニルナフタレンの製造」
窒素雰囲気で置換した温度計、還流コンデンサー、滴下漏斗及び攪拌翼を有する4つ口フラスコに金属マグネシウム4.0g(0.165mol)と、溶媒としてテトラヒドロフラン(30ml)を入れ、ヨウ素1片を加えた。ヨウ素の色が消えるのを確認した後、先ほど得られた粗体6−ブロモ−2−(1−n−ブトキシ−1−エトキシ)ナフタレン50.5gをテトラヒドロフラン120mlに溶かした溶液を少量加えた。反応の開始を確認した後、さらに45℃で約1時間を要して滴下した。さらに1時間還流を続け、グリニヤール試薬を得た。この反応におけるグリニヤール試薬への転換率は95.0%であった。
上記の操作で得られたグリニヤール試薬を室温まで冷却した後、上澄液を窒素雰囲気下で500ml容量の4つ口フラスコに移した。温度計、還流コンデンサー、及び攪拌翼を設置した後触媒としてジクロロ[1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン]ニッケル0.42g(0.75mmol)を加え、内温を15〜20℃を保ちながらビニルブロマイド17.6g(0.165mol)を約30分を要して吹き込んだ。そして、さらに、同温度で2時間攪拌を続けた。
反応終了後、10質量%塩化アンモニウム水溶液150gを加えて生成した塩を溶解除去した。続いて、得られた有機相から減圧下溶媒を留去(減圧度1330Pa)することにより褐色油状物質として粗体2−(1−n−ブトキシ−1−エトキシ)−6−ビニルナフタレン30.0gを得た。
「2HVNの製造」
温度計、滴下漏斗及び攪拌翼を有する3つ口フラスコに先ほど得られた粗体2−(1−n−ブトキシ−1−エトキシ)−6−ビニルナフタレン31.0gをメタノール150gを仕込んだ後、該溶液を冷却し、内温を0〜3℃に保ちながら0.5N塩酸18mL(9mmol)を15分かけて滴下した。滴下終了後、内温を0〜5℃に保ちながら10時間攪拌を継続した。反応後、内温を10℃に保ちながら攪拌を継続し、反応溶液に水600.0gを滴下した。滴下終了後、2HVN結晶の析出が確認された。冷却速度10℃/hrで0℃まで冷却し、さらに2時間攪拌して、析出させた。析出した2HVN結晶を減圧ろ過によりろ別し、メタノール/水混合液(質量比1/4)5gで結晶を洗浄した後、得られた湿結晶を真空乾燥して2HVN14.5g得た(6−ブロモ−2−ナフトールからの収率、56.8%)。得られた2HVN中の2−ナフトール含有量は5質量%であった。
[実施例1]
上記合成例1にて得られた、2−ナフトール含有量が5質量%である2−ヒドロキシ−6−ビニルナフタレン(式(1)においてRがヒドロキシ基である化合物)10.0gと水酸化カリウム0.001gをメタノール20.0gに加え25℃で攪拌・混合し溶解させた。不溶物を減圧ろ過でろ別した後、25℃で攪拌しながら、該メタノール溶液に水12.0gを滴下した。滴下終了後、25℃で1時間攪拌したところ2−ヒドロキシ−6−ビニルナフタレン結晶の析出が確認された。冷却速度14〜18℃/hrで該スラリー溶液を5℃まで冷却し、さらに2時間該温度で保冷した。保冷後析出した2−ヒドロキシ−6−ビニルナフタレン結晶を減圧ろ過によりろ別し、2mLのメタノール/水混合液(質量比5/3)で結晶を洗浄した。得られた湿結晶を真空乾燥して精製2−ヒドロキシ−6−ビニルナフタレン結晶8.36gを得た(回収収率83.6%)。この精製2−ヒドロキシ−6−ビニルナフタレン結晶中の2−ナフトール含有量は0.35質量%であった。結果を纏め表1に示す。
[比較例1]
メタノールのかわりにアセトンを用いた以外は、実施例1と同様に操作を行った。しかしながら、2−ヒドロキシ−6−ビニルナフタレンを析出させる工程において有機相と水相とが2相分離した状態になり、2−ヒドロキシ−6−ビニルナフタレン結晶の析出は認められなかった。結果を纏め表1に示す。
[比較例2]
メタノールのかわりにテトラヒドロフランを用いた以外は、実施例1と同様に操作を行ったが、2−ヒドロキシ−6−ビニルナフタレンを析出させる工程において有機相と水相とが2相分離した状態になり、2−ヒドロキシ−6−ビニルナフタレン結晶の析出は認められなかった。結果を纏め表1に示す。
[比較例3]
メタノールのかわりにアセトニトリルを用いた以外は、実施例1と同様に操作を行ったが、2−ヒドロキシ−6−ビニルナフタレンを析出させる工程において有機相と水相とが2相分離した状態になり、2−ヒドロキシ−6−ビニルナフタレン結晶の析出は認められなかった。結果を纏め表1に示す。
Figure 2008143789
[合成例2]
合成例1において水を750g滴下したこと、及びメタノール/水混合液(質量比1/5)で2HVNを洗浄した以外は同様の操作を行ない、2HVN15.0g得た(6−ブロモ−2−ナフトールからの収率、58.7%)。得られた2HVN中の2−ナフトール含有量は7質量%であった。
[実施例2]
上記合成例2にて得られた、2−ナフトール含有量が7質量%である2−ヒドロキシ−6−ビニルナフタレン15.0gとn−オクチルジアミン0.0075gをメタノール85.0gに加え30℃で攪拌・混合し溶解させた。不溶物を減圧ろ過でろ別した後、40℃で攪拌しながら、該メタノール溶液に水50.0gを滴下した。滴下終了後、冷却速度10〜13℃/hrで該メタノール溶液を10℃まで冷却し、さらに1時間該温度で保冷した。保冷後析出した2−ヒドロキシ−6−ビニルナフタレン結晶を減圧ろ過によりろ別し、3mLのメタノール/水混合液(質量比3/2)で結晶を洗浄した。得られた湿結晶を真空乾燥して精製2−ヒドロキシ−6−ビニルナフタレン結晶11.0gを得た(回収収率73.3%)。この精製2−ヒドロキシ−6−ビニルナフタレン結晶中の2−ナフトール含有量は0.55質量%であった。結果を纏め表2に示す。
[実施例3〜6]
アルコールとして、それぞれメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、またはtert−ブタノールを用い、水の添加量を100.0gとした以外は実施例2と同様に操作を行い精製2−ヒドロキシ−6−ビニルナフタレン結晶を得た。回収収率と、精製2−ヒドロキシ−6−ビニルナフタレン結晶中の2−ナフトール含有量を表2に示した。
Figure 2008143789
[合成例3]
「2−アセトキシ−6−ビニルナフタレン(2AVN)の製造」
合成例1で得られた2−ナフトール含有量が5質量%である2HVN12.0g(70.5mmol)をピリジン36mLに溶解させた後、20℃で無水酢酸8.7g(85.2mmol)を加え、さらに7時間攪拌した。反応後、トルエン250mLで該反応液を希釈し、内温を5〜15℃に保ちながら純水100mLを加え、15分間攪拌、混合した。回収した有機相を1N塩酸80mLで4回、純水80mLで1回、5質量%炭酸水素ナトリウム水溶液80mLで1回、さらに純水で1回洗浄した。得られた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、ろ過により固体を除去し、有機相から減圧下溶媒を留去(減圧度1330Pa)することにより固体として粗体2AVN14.5gを得た(2HVNからの収率、97.0%)。得られた2AVN中の2AON含有量は3質量%であった。
[実施例7]
合成例1にて得られた2−ナフトール含有量が5質量%である2−ヒドロキシ−6−ビニルナフタレンの代わりに、合成例3で得られた2−アセトキシナフタレン(2AONと表すことがある。)含量が3質量%である2−アセトキシ−6−ビニルナフタレン(2AVNと表すことがある。)(式(1)においてRがアセトキシ基である化合物)を用いたこと以外は実施例1と同様に操作を行い、精製2−アセトキシ−6−ビニルナフタレン結晶を得た。回収収率と、精製2−アセトキシ−6−ビニルナフタレン結晶中の2−アセトキシナフタレン(2AON)の含有量(表中ではナフタレン化合物含有量と称する)を表3に示した。
[合成例4]
「2−tert−ブトキシカルボニルオキシ−6−ビニルナフタレン(2TBVN)の製造」
合成例1で得られた2−ナフトール含有量が5質量%である2HVN12.0g(70.5mmol)を1,4−ジオキサン50mLに溶解した。溶液を内温10℃まで冷却した後、10質量%水酸化ナトリウム水溶液75g(281mmol)を加え、さらに内温5〜10℃に保ちながらジ−tert−ブチルジカーボネート23.1g(106mmol)を15分かけて滴下した。滴下後、内温20℃で12時間攪拌した。反応後、内温を10〜13℃に保ちながら20質量%クエン酸水溶液24.0g(25.0mmol)を加えた。減圧下ジオキサンを留去(減圧度1330Pa)した後、酢酸エチル100mLを加え抽出操作を行った。有機相を純水40mLで洗浄し、得られた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥した後、ろ過により固体を除去し、有機相から減圧下溶媒を留去(減圧度1330Pa)した。濃縮残渣にn−ヘキサン10mLを加え、0℃で12時間静置した後、析出した2TBVN結晶を減圧ろ過によりろ別し、n−ヘキサン5mLで洗浄した。得られた湿結晶を真空乾燥して2TBVN結晶16.3gを得た(2HVNからの収率、85.0%)。得られた2TBVN中の2TBN含有量は3質量%であった。
[実施例8]
2−ナフトール含有量が5質量%である2−ヒドロキシ−6−ビニルナフタレンの代わりに、合成例4で得られた2−tert−ブトキシカルボニルオキシナフタレン(2TBN)含有量が3質量%である2−tert−ブトキシカルボニルオキシ−6−ビニルナフタレン(2TBVN)(式(1)においてRが2−tert−ブトキシカルボニルオキシ基である化合物)を用いたこと以外は実施例1と同様に操作を行い、精製2−tert−ブトキシカルボニルオキシ−6−ビニルナフタレンを得た。回収収率と、精製2−tert−ブトキシカルボニルオキシ−6−ビニルナフタレン結晶中の2−tert−ブトキシカルボニルオキシナフタレンの含有量(表中ではナフタレン化合物含有量と称する)を表3に示した。
Figure 2008143789
本発明の精製方法により得られた精製ビニルナフタレン化合物は、医薬中間体、電子材料、光関連材料などの原料として利用され、特にレジスト材料用の樹脂原料モノマーとして好適である。

Claims (3)

  1. 下記式(1)
    Figure 2008143789
    (式(1)中、Rはエステル基、アルコキシカルボニルオキシ基またはヒドロキシ基を表す。)
    で示されるビニルナフタレン化合物が溶解した水溶性アルコール溶液を調製する工程と、
    前記水溶性アルコール溶液から前記ビニルナフタレン化合物を析出させる工程と、
    を有するビニルナフタレン化合物の精製方法。
  2. 前記ビニルナフタレン化合物を析出させる工程が、前記水溶性アルコール溶液に水を加える工程を有するものである請求項1記載のビニルナフタレン化合物の精製方法。
  3. 下記式(2)
    Figure 2008143789
    (式中、Rはエステル基、アルコキシカルボニルオキシ基またはヒドロキシ基を表す。)
    で示されるナフタレン化合物の含有量が1質量%以下である、請求項1記載の精製方法によって得られた精製ビニルナフタレン化合物。
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