JP2008135417A - 太陽電池の電極の形成方法及び該形成方法により得られた電極を用いた太陽電池 - Google Patents
太陽電池の電極の形成方法及び該形成方法により得られた電極を用いた太陽電池 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】電極形成用組成物を基材上に湿式塗工法で塗工して成膜する工程と、上面に成膜された基材を焼成する工程とを含む太陽電池の電極形成方法において、基材にプライマー処理を施すことを特徴とする。電極形成用組成物は金属ナノ粒子が分散媒に分散した組成物であって、金属ナノ粒子が75重量%以上の銀ナノ粒子を含有し、金属ナノ粒子は炭素骨格が炭素数1〜3である有機分子主鎖の保護剤で化学修飾され、金属ナノ粒子が一次粒径10〜50nmの範囲内の金属ナノ粒子を数平均で70%以上含有することが好ましい。また、焼成する工程の焼成温度は130〜400℃、成膜する工程は焼成後の電極の厚さが0.1〜2.0μmになるように成膜することが好ましい。
【選択図】なし
Description
また、有機バインダーと、溶剤と、ガラスフリットと、導電性粉末とを含んでなる導電性ペーストにおいて、Ti、Bi、Zn、Y、In及びMoから選ばれる少なくとも1種の金属又はその金属化合物の粉末を含み、その平均粒径が0.001μm以上0.1μm未満である導電性ペーストと、この導電性ペーストをシリコン半導体の反射防止層上に印刷又は塗布した後に、焼成することで太陽電池を製造する方法が開示されている(例えば、特許文献2参照。)。上記特許文献2に示される導電性ペーストでは、この導電性ペーストを印刷又は塗布した基板を550〜850℃の温度で焼成して電極を形成することが好適である。特許文献2によれば、超微粒子の添加剤を均一に分散させたものであって、これを焼成することで、反射防止層を介して存在する半導体と導電性ペーストとの間に安定した高い導通性と優れた接着力を有する表面電極を形成することができる。
また、上記特許文献2に示される方法では、ガラスフリットの溶融が必要となることから、代表的なガラスフリットとして挙げられるホウケイ酸ガラスの軟化温度である300℃以上の温度で焼成する必要があり、特許文献2で好適とされる焼成温度も高く、例えば太陽電池用アモルファスシリコン基材へ接合する場合では、変換効率を悪化させるなどの悪影響を及ぼす問題がある。また、大半の樹脂類の耐熱温度を上回る焼成温度であることから、樹脂類をベースとする基材への適用が困難であった。
本発明の別の目的は、導電性に優れた電極を形成し得る、太陽電池の電極の形成方法及び該形成方法により得られた電極を用いた太陽電池を提供することにある。
本発明の更に別の目的は、可視光の反射率が高い電極を形成し得る、太陽電池の電極の形成方法及び該形成方法により得られた電極を用いた太陽電池を提供することにある。
請求項1に係る発明では、電極形成用組成物を基材上に塗工、焼成して電極を形成する前に、基材に対して下塗りを行うプライマー処理を施すことで、電極と基材との密着性を向上させることができる。
請求項2に係る発明では、上記電極形成用組成物を使用することで、導電性に優れ、可視光の反射率が高い電極を400℃以下の低温での焼成で形成することができる。
本発明の太陽電池の電極の形成方法は、電極形成用組成物を基材上に湿式塗工法で塗工して成膜する工程と、上面に成膜された基材を焼成する工程とを含む形成方法である。具体的には、電極形成用組成物を基材上に湿式塗工法で塗工して焼成後の厚さが0.1〜2.0μmの範囲内となるように成膜する工程と、上面に成膜された基材を130〜400℃で焼成する工程とを含む形成方法である。
(a) 銀ナノ粒子を化学修飾する保護剤の有機分子主鎖の炭素骨格の炭素数を3とする場合
先ず硝酸銀を脱イオン水等の水に溶解して金属塩水溶液を調製する。一方、クエン酸ナトリウムを脱イオン水等の水に溶解させて得られた濃度10〜40%のクエン酸ナトリウム水溶液に、窒素ガス等の不活性ガスの気流中で粒状又は粉状の硫酸第一鉄を直接加えて溶解させ、クエン酸イオンと第一鉄イオンを3:2のモル比で含有する還元剤水溶液を調製する。次に上記不活性ガス気流中で上記還元剤水溶液を撹拌しながら、この還元剤水溶液に上記金属塩水溶液を滴下して混合する。ここで、金属塩水溶液の添加量は還元剤水溶液の量の1/10以下になるように、各溶液の濃度を調整することで、室温の金属塩水溶液を滴下しても反応温度が30〜60℃に保持されるようにすることが好ましい。また上記両水溶液の混合比は、金属塩水溶液中の金属イオンの総原子価数に対する、還元剤水溶液中のクエン酸イオンと第一鉄イオンのモル比がいずれも3倍モルとなるようにする。金属塩水溶液の滴下が終了した後、混合液の撹拌を更に10〜300分間続けて金属コロイドからなる分散液を調製する。この分散液を室温で放置し、沈降した金属ナノ粒子の凝集物をデカンテーションや遠心分離法等により分離した後、この分離物に脱イオン水等の水を加えて分散体とし、限外ろ過により脱塩処理し、更に引き続いてアルコール類で置換洗浄して、金属(銀)の含有量を2.5〜50重量%にする。その後、遠心分離機を用いこの遠心分離機の遠心力を調整して粗粒子を分離することにより、金属ナノ粒子が一次粒径10〜50nmの範囲内の金属ナノ粒子を数平均で70%以上含有するように調製する、即ち数平均で全ての金属ナノ粒子100%に対する一次粒径10〜50nmの範囲内の金属ナノ粒子の占める割合が70%以上になるように調整する。なお、金属ナノ粒子と記載したが、この(a)の場合では、数平均で全ての銀ナノ粒子100%に対する一次粒径10〜50nmの範囲内の銀ナノ粒子の占める割合が70%以上になるように調整している。
還元剤水溶液を調製するときに用いたクエン酸ナトリウムをりんご酸ナトリウムに替えること以外は上記(a)と同様にして分散体を調製する。これにより銀ナノ粒子を化学修飾する有機分子主鎖の炭素骨格の炭素数が2である分散体(太陽電池の電極形成用組成物)が得られる。
(c) 銀ナノ粒子を化学修飾する保護剤の有機分子主鎖の炭素骨格の炭素数を1とする場合
還元剤水溶液を調製するときに用いたクエン酸ナトリウムをグリコール酸ナトリウムに替えること以外は上記(a)と同様にして分散体を調製する。これにより銀ナノ粒子を化学修飾する有機分子主鎖の炭素骨格の炭素数が1である分散体(太陽電池の電極形成用組成物)が得られる。
(d) 銀ナノ粒子以外の金属ナノ粒子を化学修飾する保護剤の有機分子主鎖の炭素骨格の炭素数を3とする場合
銀ナノ粒子以外の金属ナノ粒子を構成する金属としては、Au、Pt、Pd、Ru、Ni、Cu、Sn、In、Zn、Fe、Cr又はMnが挙げられる。金属塩水溶液を調製するときに用いた硝酸銀を、塩化金酸、塩化白金酸、硝酸パラジウム、三塩化ルテニウム、塩化ニッケル、硝酸第一銅、二塩化錫、硝酸インジウム、塩化亜鉛、硫酸鉄、硫酸クロム又は硫酸マンガンに替えること以外は上記(a)と同様にして分散体を調製する。これにより銀ナノ粒子以外の金属ナノ粒子を化学修飾する保護剤の有機分子主鎖の炭素骨格の炭素数が3である分散体(太陽電池の電極形成用組成物)が得られる。
なお、銀ナノ粒子以外の金属ナノ粒子を化学修飾する保護剤の有機分子主鎖の炭素骨格の炭素数を1や2とする場合、金属塩水溶液を調製するときに用いた硝酸銀を、上記種類の金属塩に替えること以外は上記(b)や上記(c)と同様にして分散体を調製する。これにより、銀ナノ粒子以外の金属ナノ粒子を化学修飾する保護剤の有機分子主鎖の炭素骨格の炭素数が1や2である分散体(太陽電池の電極形成用組成物)が得られる。
先ず基材表面にプライマー処理を施す。基材へプライマー処理を施す際の塗布物の塗布方法は、スプレーコーティング法、ディスペンサコーティング法、スピンコーティング法、ナイフコーティング法、スリットコーティング法、インクジェットコーティング法、スクリーン印刷法、オフセット印刷法又はダイコーティング法のいずれかであることが特に好ましいが、これに限られるものではなく、あらゆる方法を利用できる。基材上に塗布した塗布物は20〜100℃で10秒間〜30分間保持して乾燥させる。若しくは20〜100℃の送風にて10秒〜30分間保持して乾燥させる。好ましくは40℃の送風にて15秒間保持して乾燥させる。プライマー処理を施し、その後に電極形成用組成物により電極を形成する基材としては、シリコン、ガラス、透明導電材料を含むセラミックス、高分子材料又は金属からなる基板のいずれか、或いはシリコン、ガラス、透明導電材料を含むセラミックス、高分子材料及び金属からなる群より選ばれた2種以上の積層体であることができる。また透明導電膜のいずれか1種を少なくとも含む基材や、透明導電膜を表面に成膜した基材を用いてもよい。透明導電膜としては、酸化インジウム系、酸化スズ系、酸化亜鉛系が挙げられる。酸化インジウム系としては、酸化インジウム、ITO(Indium Tin Oxide:インジウム錫酸化物)、IZO(Indium Zic Oxide)が挙げられる。酸化錫系としては、ネサ(酸化錫SnO2)、ATO(Antimony Tin Oxide:アンチモンドープ酸化錫)、フッ素ドープ酸化錫が挙げられる。酸化亜鉛系としては、酸化亜鉛、AZO(アルミドープ酸化亜鉛)、ガリウムドープ酸化亜鉛が挙げられる。基材は太陽電池素子又は透明電極付き太陽電池素子のいずれかであることが好ましい。透明電極としては、ITO、ATO、ネサ、IZO、AZO等などが挙げられる。高分子基板としては、ポリイミドやPET(ポリエチレンテレフタレート)等の有機ポリマーにより形成された基板が挙げられる。プライマー処理は太陽電池素子の光電変換半導体層の表面や、透明電極付き太陽電池素子の透明電極の表面等に施される。
<実施例1〜35>
次の表1及び表2に示す平均粒径が約20nmの金属ナノ粒子10重量部を水、エタノール及びメタノールの混合溶液に分散させた電極形成用組成物を用意した。なお、実施例1〜35で使用する電極形成用組成物は、銀ナノ粒子のみを使用する場合、金属ナノ粒子中の銀ナノ粒子の含有率は100%であり、銀ナノ粒子と銀以外の金属ナノ粒子の両方を使用している場合、金属ナノ粒子中の銀ナノ粒子の含有率は95%である。また、金属ナノ粒子を化学修飾する有機分子の炭素骨格は炭素数3であり、金属ナノ粒子に含まれる一次粒径10〜50nmの範囲内の金属ナノ粒子の数平均は80%である。また表1及び表2に示す含有材料1重量部を水、エタノール及びメタノールの混合溶液に分散させたプライマー塗布物を用意した。また表1及び表2に示す基材を用意した。
次に、基材上にプライマー塗布物を次の表1及び表2に示す塗布方法により塗布し、大気中で60℃、30分間乾燥させた。続いてこのプライマー塗布物の塗布を行った基材上に電極形成用組成物を焼成後の厚さが300nmとなるように次の表1及び表2に示す塗布方法により成膜した後に、表1及び表2に示す温度で30分間焼成することにより、基材上に電極を形成した。なお、次の表1中及び表2中に示されるスプレーCはスプレーコーティングを、ディスペンサCはディスペンサコーティングを、インクジェットCはインクジェットコーティングを、スピンCはスピンコーティングを、ダイCはダイコーティングを、ナイフCはナイフコーティングを、スリットCはスリットコーティングをそれぞれ示す。
次の表2に示す平均粒径が約20nmの金属ナノ粒子10重量部を水、エタノール及びメタノールの混合溶液に分散させた電極形成用組成物を用意した。なお、比較例1〜5で使用する電極形成用組成物は、金属ナノ粒子中の銀ナノ粒子の含有率は100%である。また、金属ナノ粒子を化学修飾する有機分子の炭素骨格は炭素数3であり、金属ナノ粒子に含まれる一次粒径10〜50nmの範囲内の金属ナノ粒子の数平均は80%である。また表2に示す基材を用意した。
次に、基材に対してプライマー処理することなく、電極形成用組成物を基材上に300nmの膜厚となるように次の表2に示す塗布方法により成膜した後に、表2に示す温度で30分間焼成することにより、基材上に電極を形成した。
実施例1〜35及び比較例1〜5で得られた電極を形成した基材について、導電性及び基材への接着性を評価した。導電性は、四端子法により測定し算出した体積抵抗率(Ω・cm)として求めた。具体的には、電極の体積抵抗率は、先ず焼成後の電極の厚さをSEM(日立製作所社製の電子顕微鏡:S800)を用いて電極断面から電極の厚さを直接計測し、次に四端子法による比抵抗測定器(三菱化学製ロレスタGP)を用い、この測定器に上記実測した電極の厚さを入力して測定した。基材への密着性は、電極を形成した基材への接着テープ引き剥がし試験により定性的に評価し、『良好』とは、基材から接着テープのみが剥がれた場合を示し、『中立』とは、接着テープの剥がれと基材表面が露出した状態が混在した場合を示し、『不良』とは、接着テープ引き剥がしによって基材表面の全面が露出した場合を示す。その結果を、表1及び表2に示す。なお、表2中のPETとはポリエチレンテレフタレートを示す。
次の表4に示す平均粒径が約20nmの金属ナノ粒子10重量部を水、エタノール及びメタノールの混合溶液に分散させた電極形成用組成物を用意した。また表4に示す含有材料1重量部を水、エタノール及びメタノールの混合溶液に分散させたプライマー塗布物を用意した。また基材としてITOを用意した。
次に、基材上にプライマー塗布物をスピンコーティング法により塗布し、大気中で60℃、30分間乾燥させた。続いてこのプライマー塗布物の塗布を行った基材上に電極形成用組成物を300nmの膜厚となるようにスピンコーティング法により成膜した後に、200℃で30分間焼成することにより、基材上に電極を形成した。
実施例36〜41で得られた電極を形成した基材について、導電性、反射率及び基材への接着性を評価した。導電性及び基材への密着性評価は上記比較試験1と同様にして行った。塗膜の反射率評価は、紫外可視分光光度計と積分球の組合せにより、波長800nmにおける塗膜の反射率を測定した。その結果を表5に示す。
Claims (13)
- 電極形成用組成物を基材上に湿式塗工法で塗工して成膜する工程と、前記上面に成膜された基材を焼成する工程とを含む太陽電池の電極を形成する方法において、
前記基材にプライマー処理を施すことを特徴とする太陽電池の電極の形成方法。 - 電極形成用組成物が金属ナノ粒子が分散媒に分散した組成物であって、
前記金属ナノ粒子が75重量%以上の銀ナノ粒子を含有し、
前記金属ナノ粒子は炭素骨格が炭素数1〜3である有機分子主鎖の保護剤で化学修飾され、
前記金属ナノ粒子が一次粒径10〜50nmの範囲内の金属ナノ粒子を数平均で70%以上含有する請求項1記載の太陽電池の電極の形成方法。 - 焼成する工程の焼成温度が130〜400℃であって、成膜する工程は焼成後の電極の厚さが0.1〜2.0μmになるように成膜する請求項1記載の太陽電池の電極の形成方法。
- 基材がシリコン、ガラス、透明導電材料を含むセラミックス、高分子材料又は金属からなる基板のいずれか、或いは前記シリコン、前記ガラス、前記透明導電材料を含むセラミックス、前記高分子材料及び前記金属からなる群より選ばれた2種以上の積層体である請求項1記載の太陽電池の電極の形成方法。
- 基材として透明導電膜を少なくとも含む基材、若しくは透明導電膜を表面に成膜した基材を用いる請求項1記載の太陽電池の電極の形成方法。
- プライマー処理がAg、Cu、Sn、Pd、Zn、Ni、Mo、Cr、Mn、Al、Zr、Ti、Ru、Pt、In及びSiからなる群より選ばれた1種又は2種以上の金属酸化物を含む塗布物を塗布することにより行われる請求項1記載の太陽電池の電極の形成方法。
- プライマー処理が1種又は2種以上の樹脂類を含む塗布物を塗布することにより行われる請求項1記載の太陽電池の電極の形成方法。
- 樹脂類がイソシアネート成分、ポリエステル成分及びポリエーテル成分からなる群より選ばれた1種又は2種以上の成分を構成成分とする請求項7記載の太陽電池の電極の形成方法。
- プライマー処理が1種又は2種以上のアルコキシドを含む塗布物を塗布することにより行われる請求項1記載の太陽電池の電極の形成方法。
- プライマー処理が1種又は2種以上の金属石鹸を含む塗布物を塗布することにより行われる請求項1記載の太陽電池の電極の形成方法。
- プライマー処理が1種又は2種以上のカップリング剤を含む塗布物を塗布することにより行われる請求項1記載の太陽電池の電極の形成方法。
- プライマー処理並びに電極形成用組成物の湿式塗工方法がスプレーコーティング法、ディスペンサコーティング法、スピンコーティング法、ナイフコーティング法、スリットコーティング法、インクジェットコーティング法、スクリーン印刷法、オフセット印刷法又はダイコーティング法のいずれかである請求項1記載の太陽電池の電極の形成方法。
- 請求項1ないし12いずれか1項に記載の電極の形成方法により形成した電極を用いたことを特徴とする太陽電池。
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