JP5248006B2 - 太陽電池の電極の形成方法 - Google Patents
太陽電池の電極の形成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5248006B2 JP5248006B2 JP2006307307A JP2006307307A JP5248006B2 JP 5248006 B2 JP5248006 B2 JP 5248006B2 JP 2006307307 A JP2006307307 A JP 2006307307A JP 2006307307 A JP2006307307 A JP 2006307307A JP 5248006 B2 JP5248006 B2 JP 5248006B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- coating
- metal nanoparticles
- substrate
- nanoparticles
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Photovoltaic Devices (AREA)
- Hybrid Cells (AREA)
Description
また、有機バインダーと、溶剤と、ガラスフリットと、導電性粉末とを含んでなる導電性ペーストにおいて、Ti、Bi、Zn、Y、In及びMoから選ばれる少なくとも1種の金属又はその金属化合物の粉末を含み、その平均粒径が0.001μm以上0.1μm未満である導電性ペーストと、この導電性ペーストをシリコン半導体の反射防止層上に印刷又は塗布した後に、焼成することで太陽電池を製造する方法が開示されている(例えば、特許文献2参照。)。上記特許文献2に示される導電性ペーストでは、この導電性ペーストを印刷又は塗布した基板を550〜850℃の温度で焼成して電極を形成することが好適である。特許文献2によれば、超微粒子の添加剤を均一に分散させたものであって、これを焼成することで、反射防止層を介して存在する半導体と導電性ペーストとの間に安定した高い導通性と優れた接着力を有する表面電極を形成することができる。
また、上記特許文献2に示される方法では、ガラスフリットの溶融が必要となることから、代表的なガラスフリットとして挙げられるホウケイ酸ガラスの軟化温度である300℃以上の温度で焼成する必要があり、特許文献2で好適とされる焼成温度も高く、例えば太陽電池用アモルファスシリコン基材へ接合する場合では、変換効率を悪化させるなどの悪影響を及ぼす問題がある。また、大半の樹脂類の耐熱温度を上回る焼成温度であることから、樹脂類をベースとする基材への適用が困難であった。
本発明の別の目的は、導電性に優れた電極を形成し得る、太陽電池の電極の形成方法を提供することにある。
本発明の更に別の目的は、可視光の反射率が高い電極を形成し得る、太陽電池の電極の形成方法を提供することにある。
請求項1に係る発明では、電極形成用組成物を上記基材上に塗工、焼成して電極を形成する前に、上記基材に対して下塗りを行うプライマー処理を施すことで、電極と基材との密着性を向上させることができる。
本発明の太陽電池の電極の形成方法は、電極形成用組成物を基材上に湿式塗工法で塗工して成膜する工程と、上面に成膜された基材を焼成する工程とを含む形成方法である。具体的には、電極形成用組成物を基材上に湿式塗工法で塗工して焼成後の厚さが0.1〜2.0μmの範囲内となるように成膜する工程と、上面に成膜された基材を130〜400℃で焼成する工程とを含む形成方法である。
(a) 銀ナノ粒子を化学修飾する保護剤の有機分子主鎖の炭素骨格の炭素数を3とする場合
先ず硝酸銀を脱イオン水等の水に溶解して金属塩水溶液を調製する。一方、クエン酸ナトリウムを脱イオン水等の水に溶解させて得られた濃度10〜40%のクエン酸ナトリウム水溶液に、窒素ガス等の不活性ガスの気流中で粒状又は粉状の硫酸第一鉄を直接加えて溶解させ、クエン酸イオンと第一鉄イオンを3:2のモル比で含有する還元剤水溶液を調製する。次に上記不活性ガス気流中で上記還元剤水溶液を撹拌しながら、この還元剤水溶液に上記金属塩水溶液を滴下して混合する。ここで、金属塩水溶液の添加量は還元剤水溶液の量の1/10以下になるように、各溶液の濃度を調整することで、室温の金属塩水溶液を滴下しても反応温度が30〜60℃に保持されるようにすることが好ましい。また上記両水溶液の混合比は、金属塩水溶液中の金属イオンの総原子価数に対する、還元剤水溶液中のクエン酸イオンと第一鉄イオンのモル比がいずれも3倍モルとなるようにする。金属塩水溶液の滴下が終了した後、混合液の撹拌を更に10〜300分間続けて金属コロイドからなる分散液を調製する。この分散液を室温で放置し、沈降した金属ナノ粒子の凝集物をデカンテーションや遠心分離法等により分離した後、この分離物に脱イオン水等の水を加えて分散体とし、限外ろ過により脱塩処理し、更に引き続いてアルコール類で置換洗浄して、金属(銀)の含有量を2.5〜50重量%にする。その後、遠心分離機を用いこの遠心分離機の遠心力を調整して粗粒子を分離することにより、金属ナノ粒子が一次粒径10〜50nmの範囲内の金属ナノ粒子を数平均で70%以上含有するように調製する、即ち数平均で全ての金属ナノ粒子100%に対する一次粒径10〜50nmの範囲内の金属ナノ粒子の占める割合が70%以上になるように調整する。なお、金属ナノ粒子と記載したが、この(a)の場合では、数平均で全ての銀ナノ粒子100%に対する一次粒径10〜50nmの範囲内の銀ナノ粒子の占める割合が70%以上になるように調整している。
還元剤水溶液を調製するときに用いたクエン酸ナトリウムをりんご酸ナトリウムに替えること以外は上記(a)と同様にして分散体を調製する。これにより銀ナノ粒子を化学修飾する有機分子主鎖の炭素骨格の炭素数が2である分散体(太陽電池の電極形成用組成物)が得られる。
(c) 銀ナノ粒子を化学修飾する保護剤の有機分子主鎖の炭素骨格の炭素数を1とする場合
還元剤水溶液を調製するときに用いたクエン酸ナトリウムをグリコール酸ナトリウムに替えること以外は上記(a)と同様にして分散体を調製する。これにより銀ナノ粒子を化学修飾する有機分子主鎖の炭素骨格の炭素数が1である分散体(太陽電池の電極形成用組成物)が得られる。
(d) 銀ナノ粒子以外の金属ナノ粒子を化学修飾する保護剤の有機分子主鎖の炭素骨格の炭素数を3とする場合
銀ナノ粒子以外の金属ナノ粒子を構成する金属としては、Au、Pt、Pd、Ru、Ni、Cu、Sn、In、Zn、Fe、Cr又はMnが挙げられる。金属塩水溶液を調製するときに用いた硝酸銀を、塩化金酸、塩化白金酸、硝酸パラジウム、三塩化ルテニウム、塩化ニッケル、硝酸第一銅、二塩化錫、硝酸インジウム、塩化亜鉛、硫酸鉄、硫酸クロム又は硫酸マンガンに替えること以外は上記(a)と同様にして分散体を調製する。これにより銀ナノ粒子以外の金属ナノ粒子を化学修飾する保護剤の有機分子主鎖の炭素骨格の炭素数が3である分散体(太陽電池の電極形成用組成物)が得られる。
なお、銀ナノ粒子以外の金属ナノ粒子を化学修飾する保護剤の有機分子主鎖の炭素骨格の炭素数を1や2とする場合、金属塩水溶液を調製するときに用いた硝酸銀を、上記種類の金属塩に替えること以外は上記(b)や上記(c)と同様にして分散体を調製する。これにより、銀ナノ粒子以外の金属ナノ粒子を化学修飾する保護剤の有機分子主鎖の炭素骨格の炭素数が1や2である分散体(太陽電池の電極形成用組成物)が得られる。
先ず基材表面にプライマー処理を施す。基材へプライマー処理を施す際の塗布物の塗布方法は、スプレーコーティング法、ディスペンサコーティング法、スピンコーティング法、ナイフコーティング法、スリットコーティング法、インクジェットコーティング法、スクリーン印刷法、オフセット印刷法又はダイコーティング法のいずれかであることが特に好ましいが、これに限られるものではなく、あらゆる方法を利用できる。基材上に塗布した塗布物は20〜100℃で10秒間〜30分間保持して乾燥させる。若しくは20〜100℃の送風にて10秒〜30分間保持して乾燥させる。好ましくは40℃の送風にて15秒間保持して乾燥させる。プライマー処理を施し、その後に電極形成用組成物により電極を形成する本発明の特徴ある基材としては、シリコン、透明導電材料を含むセラミックス、高分子材料又は金属からなる基板のいずれか、又はシリコン、透明導電材料を含むセラミックス、高分子材料及び金属からなる群より選ばれた2種以上の積層体であるか、或いは、透明導電膜のいずれか1種を少なくとも含む基材や、透明導電膜を表面に成膜した基材である。透明導電膜としては、酸化インジウム系、酸化スズ系、酸化亜鉛系が挙げられる。酸化インジウム系としては、酸化インジウム、ITO(Indium Tin Oxide:インジウム錫酸化物)、IZO(Indium Zic Oxide)が挙げられる。酸化錫系としては、ネサ(酸化錫SnO2)、ATO(Antimony Tin Oxide:アンチモンドープ酸化錫)、フッ素ドープ酸化錫が挙げられる。酸化亜鉛系としては、酸化亜鉛、AZO(アルミドープ酸化亜鉛)、ガリウムドープ酸化亜鉛が挙げられる。基材は太陽電池素子又は透明電極付き太陽電池素子のいずれかであることが好ましい。透明電極としては、ITO、ATO、ネサ、IZO、AZO等などが挙げられる。高分子基板としては、ポリイミドやPET(ポリエチレンテレフタレート)等の有機ポリマーにより形成された基板が挙げられる。プライマー処理は太陽電池素子の光電変換半導体層の表面や、透明電極付き太陽電池素子の透明電極の表面等に施される。
<実施例1〜8>
次の表1に示す平均粒径が約20nmの金属ナノ粒子10重量部を水、エタノール及びメタノールの混合溶液に分散させた電極形成用組成物を用意した。なお、実施例1〜8で使用する電極形成用組成物は、銀ナノ粒子と銀以外の金属ナノ粒子の両方を使用しており、この場合、金属ナノ粒子中の銀ナノ粒子の含有率は95%である。また、金属ナノ粒子を化学修飾する有機分子の炭素骨格は炭素数3であり、金属ナノ粒子に含まれる一次粒径10〜50nmの範囲内の金属ナノ粒子の数平均は80%である。また表1に示す含有材料1重量部を水、エタノール及びメタノールの混合溶液に分散させたプライマー塗布物を用意した。また表1に示す基材を用意した。
次に、基材上にプライマー塗布物を次の表1にに示す塗布方法により塗布し、大気中で60℃、30分間乾燥させた。続いてこのプライマー塗布物の塗布を行った基材上に電極形成用組成物を焼成後の厚さが300nmとなるように次の表1に示す塗布方法により成膜した後に、表1に示す温度で30分間焼成することにより、基材上に電極を形成した。なお、次の表1中に示されるスプレーCはスプレーコーティングを、ディスペンサCはディスペンサコーティングを、インクジェットCはインクジェットコーティングを、スピンCはスピンコーティングを、ダイCはダイコーティングを、ナイフCはナイフコーティングを、スリットCはスリットコーティングをそれぞれ示す。
次の表1に示す平均粒径が約20nmの金属ナノ粒子10重量部を水、エタノール及びメタノールの混合溶液に分散させた電極形成用組成物を用意した。なお、比較例1〜5で使用する電極形成用組成物は、金属ナノ粒子中の銀ナノ粒子の含有率は100%である。また、金属ナノ粒子を化学修飾する有機分子の炭素骨格は炭素数3であり、金属ナノ粒子に含まれる一次粒径10〜50nmの範囲内の金属ナノ粒子の数平均は80%である。また表2に示す基材を用意した。
次に、基材に対してプライマー処理することなく、電極形成用組成物を基材上に300nmの膜厚となるように次の表1に示す塗布方法により成膜した後に、表1に示す温度で30分間焼成することにより、基材上に電極を形成した。
実施例1〜8及び比較例1〜5で得られた電極を形成した基材について、導電性及び基材への接着性を評価した。導電性は、四端子法により測定し算出した体積抵抗率(Ω・cm)として求めた。具体的には、電極の体積抵抗率は、先ず焼成後の電極の厚さをSEM(日立製作所社製の電子顕微鏡:S800)を用いて電極断面から電極の厚さを直接計測し、次に四端子法による比抵抗測定器(三菱化学製ロレスタGP)を用い、この測定器に上記実測した電極の厚さを入力して測定した。基材への密着性は、電極を形成した基材への接着テープ引き剥がし試験により定性的に評価し、『良好』とは、基材から接着テープのみが剥がれた場合を示し、『中立』とは、接着テープの剥がれと基材表面が露出した状態が混在した場合を示し、『不良』とは、接着テープ引き剥がしによって基材表面の全面が露出した場合を示す。その結果を表2に示す。
Claims (1)
- シリコンからなる基材上にプライマー塗布物を塗布して乾燥することによりプライマー処理を行い、続いて前記プライマー塗布物を塗布した前記基材上に電極形成用組成物を塗布して成膜した後、焼成することにより太陽電池の電極を形成する方法において、
前記プライマー処理がCuO、PdO、NiO、MoO 2 、Cr 2 O 3 、MnO 2 、又はZrOを水、エタノール及びメタノールの混合溶液に分散させたプライマー塗布物を前記基材に塗布することにより行われ、
前記電極形成用組成物が、銀ナノ粒子とCu、Pd、Ni、Mo、Cr、Mn又はZrのナノ粒子とを含む金属ナノ粒子を、水、エタノール及びメタノールの混合溶液に分散した組成物であって、
前記銀ナノ粒子が前記金属ナノ粒子100重量%に対して75重量%以上を含有し、
前記金属ナノ粒子は炭素骨格が炭素数3である有機分子主鎖の保護剤で化学修飾され、
前記金属ナノ粒子が一次粒径10〜50nmの範囲内の金属ナノ粒子を数平均で70%以上含有し、
前記プライマー処理並びに前記電極形成用組成物の塗布がスプレーコーティング法、ディスペンサコーティング法、スピンコーティング法、ナイフコーティング法、スリットコーティング法、インクジェットコーティング法、スクリーン印刷法又はダイコーティング法のいずれかの方法で行われ、
前記焼成する温度が130〜400℃であって、前記焼成後の電極の厚さが0.1〜2.0μmになるように成膜が行われることを特徴とする太陽電池の電極の形成方法。
Priority Applications (11)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006307307A JP5248006B2 (ja) | 2005-11-15 | 2006-11-14 | 太陽電池の電極の形成方法 |
CN201210443825.1A CN103117107B (zh) | 2006-06-30 | 2007-03-20 | 形成太阳能电池电极的组合物、方法和使用该电极的太阳能电池 |
DE112007001507T DE112007001507T5 (de) | 2006-06-30 | 2007-03-20 | Zusammensetzung für die Herstellung einer Elektrode einer Solarzelle, Verfahren zur Herstellung der Elektrode und Solarzelle, welche die durch dieses Verfahren erhältliche Elektrode umfasst |
PCT/JP2007/055649 WO2008001518A1 (fr) | 2006-06-30 | 2007-03-20 | Composition de fabrication d'une électrode dans une cellule solaire, procédé de fabrication de l'électrode, et cellule solaire utilisant une électrode obtenue par le procédé de fabrication |
TW096109518A TWI399759B (zh) | 2006-06-30 | 2007-03-20 | 形成太陽電池之電極用組成物及該電極之形成方法以及使用依該形成方法所得電極之太陽電池 |
KR1020147003065A KR101485304B1 (ko) | 2006-06-30 | 2007-03-20 | 태양 전지의 전극 형성용 조성물 및 그 전극의 형성 방법, 그리고 그 형성 방법에 의해 얻어진 전극을 사용한 태양 전지 |
KR1020087031479A KR101394704B1 (ko) | 2006-06-30 | 2007-03-20 | 태양 전지의 전극 형성용 조성물 및 그 전극의 형성 방법, 그리고 그 형성 방법에 의해 얻어진 전극을 사용한 태양 전지 |
CN2007800317645A CN101506994B (zh) | 2006-06-30 | 2007-03-20 | 太阳能电池用电极的形成方法以及使用该电极的太阳能电池 |
US12/306,884 US8816193B2 (en) | 2006-06-30 | 2007-03-20 | Composition for manufacturing electrode of solar cell, method of manufacturing same electrode, and solar cell using electrode obtained by same method |
US14/244,575 US9312404B2 (en) | 2006-06-30 | 2014-04-03 | Composition for manufacturing electrode of solar cell, method of manufacturing same electrode, and solar cell using electrode obtained by same method |
US14/995,035 US9620668B2 (en) | 2006-06-30 | 2016-01-13 | Composition for manufacturing electrode of solar cell, method of manufacturing same electrode, and solar cell using electrode obtained by same method |
Applications Claiming Priority (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005329953 | 2005-11-15 | ||
JP2005329953 | 2005-11-15 | ||
JP2006181818 | 2006-06-30 | ||
JP2006181818 | 2006-06-30 | ||
JP2006288529 | 2006-10-24 | ||
JP2006288529 | 2006-10-24 | ||
JP2006307307A JP5248006B2 (ja) | 2005-11-15 | 2006-11-14 | 太陽電池の電極の形成方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012160131A Division JP5435088B2 (ja) | 2005-11-15 | 2012-07-19 | 太陽電池の電極を形成する方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008135417A JP2008135417A (ja) | 2008-06-12 |
JP5248006B2 true JP5248006B2 (ja) | 2013-07-31 |
Family
ID=39560089
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006307307A Expired - Fee Related JP5248006B2 (ja) | 2005-11-15 | 2006-11-14 | 太陽電池の電極の形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5248006B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010165769A (ja) * | 2009-01-14 | 2010-07-29 | Konica Minolta Holdings Inc | 有機エレクトロニクス素子の製造方法、有機エレクトロニクス素子、有機光電変換素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子 |
JP5589668B2 (ja) * | 2009-08-20 | 2014-09-17 | 三菱マテリアル株式会社 | サブストレート型薄膜太陽電池の反射電極層及びその製造方法 |
JP5258707B2 (ja) * | 2009-08-26 | 2013-08-07 | 株式会社東芝 | 半導体発光素子 |
KR101836551B1 (ko) | 2010-11-12 | 2018-03-08 | 미쓰비시 마테리알 가부시키가이샤 | 발광 소자용 반사막용 조성물, 발광 소자, 및 발광 소자의 제조 방법 |
JP2013125655A (ja) * | 2011-12-14 | 2013-06-24 | Hitachi Chemical Co Ltd | 導電性接着材、導電性積層体、導電性積層体の製造方法、配線基板、表示装置及び太陽電池モジュール |
JP2014175175A (ja) * | 2013-03-08 | 2014-09-22 | Univ Of Tokyo | 電極基板、電極基板を用いた電池、および電極基板の製造方法 |
JP5774650B2 (ja) * | 2013-08-13 | 2015-09-09 | 株式会社東芝 | 半導体発光素子 |
KR101710421B1 (ko) * | 2015-09-25 | 2017-03-13 | 제주대학교 산학협력단 | 산화구리 나노막대/산화아연 나노가지로 구성된 광전극과 그 형성방법 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06196728A (ja) * | 1992-12-25 | 1994-07-15 | Sanyo Electric Co Ltd | 光起電力素子およびその製造方法 |
JPH07106617A (ja) * | 1993-09-30 | 1995-04-21 | Canon Inc | 透明電極及びその形成方法並びに該透明電極を用いた太陽電池 |
JP3429958B2 (ja) * | 1996-08-28 | 2003-07-28 | 三井金属鉱業株式会社 | 銀コロイド液の製造方法 |
JP3402215B2 (ja) * | 1998-09-16 | 2003-05-06 | 三菱マテリアル株式会社 | 導電膜形成用塗布液および導電膜 |
JP2001325831A (ja) * | 2000-05-12 | 2001-11-22 | Bando Chem Ind Ltd | 金属コロイド液、導電性インク、導電性被膜及び導電性被膜形成用基底塗膜 |
JP3796476B2 (ja) * | 2002-10-25 | 2006-07-12 | バンドー化学株式会社 | 導電性インク |
-
2006
- 2006-11-14 JP JP2006307307A patent/JP5248006B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008135417A (ja) | 2008-06-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5309440B2 (ja) | 太陽電池の電極形成用組成物及び該電極の形成方法並びに該形成方法により得られた電極を用いた太陽電池の製造方法 | |
US9620668B2 (en) | Composition for manufacturing electrode of solar cell, method of manufacturing same electrode, and solar cell using electrode obtained by same method | |
JP5248006B2 (ja) | 太陽電池の電極の形成方法 | |
JP5309521B2 (ja) | 電極形成用組成物及びその製造方法並びに該組成物を用いた電極の形成方法 | |
KR20090115854A (ko) | 금속 나노 입자 분산액 및 그 제조 방법 그리고 금속 나노 입자의 합성 방법 | |
JP2009197325A (ja) | 金属ナノ粒子分散液及びその製造方法 | |
JP5326647B2 (ja) | 太陽電池の電極形成用組成物の製造方法 | |
JP5417900B2 (ja) | 導電性塗膜の形成方法 | |
JP5070808B2 (ja) | 太陽電池の電極形成用組成物及び該電極の形成方法並びに該形成方法により得られた電極を用いた太陽電池 | |
JP2011222953A (ja) | 透明導電膜形成用組成物及び太陽電池用の複合膜の形成方法並びに該方法により形成された複合膜 | |
JP2010137220A (ja) | スプレーによる薄膜形成方法及びこの薄膜を用いた電極形成方法 | |
JP5435063B2 (ja) | 太陽電池の電極形成用組成物の製造方法及び該電極の形成方法 | |
JP5151229B2 (ja) | 太陽電池の電極形成用組成物及び該電極の形成方法並びに該形成方法により得られた電極を用いた太陽電池の製造方法 | |
JP5435088B2 (ja) | 太陽電池の電極を形成する方法 | |
JP2011109069A (ja) | 導電性反射膜及びその製造方法 | |
JP5407989B2 (ja) | 太陽電池用複合膜の形成方法 | |
JP2012009840A (ja) | 太陽電池用の複合膜の形成方法及び該方法により形成された複合膜 | |
JP2011192802A (ja) | 太陽電池の製造方法 | |
JP2011204972A (ja) | 太陽電池の製造方法 | |
JP2011192804A (ja) | 太陽電池の製造方法 | |
JP2011192799A (ja) | 太陽電池の製造方法 | |
JP2011192798A (ja) | 太陽電池の製造方法 | |
JP2011192805A (ja) | 太陽電池の製造方法 | |
JP2011192803A (ja) | 太陽電池の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090331 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120131 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120312 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20120508 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120719 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20120726 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20120803 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130312 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130410 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160419 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |