JP2008133800A - 薬液供給装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ポンプ11はポンプ室17と駆動室18とを仕切る可撓性チューブ16を有し、駆動室18にはシリンダ12のシリンダ孔33内を往復動するピストン34によって非圧縮性媒体38が供給される。大径ピストン部34aとシリンダ12との間には第1のシール室63aを形成する第1のベローズカバー64aが設けられ、小径ピストン部34bとシリンダ12との間には第2のシール室63bを形成する第2のベローズカバー64bが設けられている。シール室63a,63b内に封入された非圧縮性媒体38aの圧力を検出するためにシリンダ12にはシール室圧力センサ81が取り付けられており、この圧力を検出することによってシール材79a,79bの劣化度が判断される。
【選択図】図1
Description
間の微細な隙間を通り難く、シール室63a,63bから駆動室36へ入り込む非圧縮性媒体38aの量は少なくなる。このように、液体等の非圧縮性媒体38aをシール室63a,63b内に封入することにより、ポンプ11からの薬液の吐出精度を長期間にわたり高精度に維持することができる。
11 ポンプ
12 シリンダ
16 可撓性チューブ(仕切り膜)
17 ポンプ室
18 駆動室(ポンプ側の駆動室)
33 シリンダ孔
34 ピストン
36 駆動室(ピストン側の駆動室)
38 非圧縮性媒体(駆動用)
38a 非圧縮性媒体(シール用)
48 モータ(駆動手段)
61a,61b 摺動面
62a,62b 摺動面
63a 第1のシール室
63b 第2のシール室
64a ベローズカバー
64b ベローズカバー
79,79a,79b シール材
81 シール室圧力センサ(シール室圧力検出手段)
82 駆動室圧力センサ(駆動室圧力検出手段)
Claims (6)
- 液体流入口および流出口に連通するポンプ室とポンプ側の駆動室とを仕切る弾性変形自在の仕切り膜が設けられたポンプと、
大径のシリンダ孔と小径のシリンダ孔とが形成され前記ポンプに連結されるシリンダと、
前記大径のシリンダ孔に嵌合する大径ピストン部および前記小径のシリンダ孔に嵌合する小径ピストン部を備え、前記シリンダの内部に軸方向に往復動自在に装着され、前記ポンプ側の駆動室に連通するピストン側の駆動室を前記シリンダ内に形成し、前記ポンプ側の駆動室に非圧縮性媒体を給排するピストンと、
前記大径ピストン部と前記シリンダとの間に設けられ、前記大径ピストン部の摺動面に連なる第1のシール室を形成するベローズカバーと、
前記小径ピストン部と前記シリンダとの間に設けられ、前記小径ピストン部の摺動面に連なるとともに前記第1のシール室に連通する第2のシール室を形成する弾性変形部材と、
前記第1および前記第2のシール室に封入される非圧縮性媒体と、
前記ピストンを軸方向に往復動し、前記ピストン側の駆動室と前記ポンプ側の駆動室内の前記非圧縮性媒体を介して前記ポンプ室を膨張収縮する駆動手段と、
前記シール室の圧力と前記駆動室の圧力の少なくともいずれか一方の圧力を検出する圧力検出手段とを有することを特徴とする薬液供給装置。 - 請求項1記載の薬液供給装置において、前記弾性変形部材はベローズカバーであることを特徴とする薬液供給装置。
- 大径外周面と小径外周面とを有するシリンダと、
前記シリンダ内に組み込まれ、液体流入口および流出口に連通するポンプ室と前記シリンダの内周面との間のポンプ側の駆動室とを仕切る可撓性チューブと、
前記大径外周面に摺動自在に嵌合する大径ピストン部、および前記小径外周面に摺動自在に嵌合する小径ピストン部を備え、前記ポンプ側の駆動室に連通するピストン側の駆動室を前記シリンダとの間に形成し、前記ポンプ側の駆動室に非圧縮性媒体を給排するピストンと、
前記シリンダの一端部側と前記ピストンの前記大径ピストン部との間に設けられ前記大径外周面との間で前記大径ピストン部の摺動面に連なる第1のシール室を形成する第1のベローズカバーと、
前記シリンダの他端部側と前記ピストンの小径ピストン部との間に設けられ前記小径外周面との間で前記小径ピストン部の摺動面に連なるとともに前記第1のシール室に連通する第2のシール室を形成する第2のベローズカバーと、
前記第1および前記第2のシール室に封入される非圧縮性媒体と、
前記ピストンを軸方向に往復動し、前記ピストン側の駆動室と前記ポンプ側の駆動室内の前記非圧縮性媒体を介して前記ポンプ室を膨張収縮する駆動手段と、
前記シール室の圧力と前記駆動室の圧力の少なくともいずれか一方の圧力を検出する圧力検出手段とを有することを特徴とする薬液供給装置。 - 液体流入口および流出口に連通するポンプ室と駆動室とを仕切る弾性変形自在の仕切り膜が設けられたポンプと、
前記駆動室に非圧縮性媒体を給排するピストンが往復動自在に組み付けられるシリンダと、
前記ピストンと前記シリンダとの間に設けられ、前記ピストンの摺動面に連なるとともに非圧縮性媒体が封入される第1のシール室を形成する軸方向に弾性変形自在のベローズカバーと、
前記第1のシール室に連通するとともに前記ピストンの往復動時における前記第1のシール室の容積変化に追従して非圧縮性媒体が流入しかつ排出される第2のシール室を形成する第2のベローズカバーと、
前記ピストンおよび前記第2のベローズカバーを軸方向に往復動し、前記非圧縮性媒体を介して前記ポンプ室を膨張収縮するとともに前記第1のシール室の収縮時に前記第2のシール室を膨張させ、第1のシール室の膨張時に前記第2のシール室を収縮させる駆動手段と、
前記シール室の圧力と前記駆動室の圧力の少なくともいずれか一方の圧力を検出する圧力検出手段とを有することを特徴とする薬液供給装置。 - 液体流入口および流出口に連通するポンプ室と駆動室とを仕切る弾性変形自在の仕切り膜が設けられたポンプと、
前記駆動室に非圧縮性媒体を給排するピストンが往復動自在に組み付けられるシリンダと、
前記ピストンと前記シリンダとの間に設けられ、前記ピストンの摺動面に連なるとともに非圧縮性媒体が封入される第1のシール室を形成する軸方向に弾性変形自在のベローズカバーと、
前記第1のシール室に連通するとともに前記ピストンの往復動時における前記第1のシール室の容積変化に追従して非圧縮性媒体が流入しかつ排出される第2のシール室を形成する弾性変形部材と、
前記ピストンを軸方向に往復動し、前記非圧縮性媒体を介して前記ポンプ室を膨張収縮する駆動手段と、
前記シール室の圧力と前記駆動室の圧力の少なくともいずれか一方の圧力を検出する圧力検出手段とを有することを特徴とする薬液供給装置。 - 請求項5記載の薬液供給装置において、前記弾性変形部材はダイヤフラムであることを特徴とする薬液供給装置。
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012005015A1 (ja) * | 2010-07-09 | 2012-01-12 | 株式会社コガネイ | 薬液供給装置 |
US8133042B2 (en) * | 2007-12-03 | 2012-03-13 | Koganei Corporation | Chemical liquid supplying apparatus and pump assembly |
JP2016142196A (ja) * | 2015-02-03 | 2016-08-08 | 東京応化工業株式会社 | ポンプおよび塗布装置 |
KR20170001023U (ko) * | 2015-09-09 | 2017-03-20 | 주식회사 디엠에스 | 약액토출장치 |
WO2020031628A1 (ja) * | 2018-08-10 | 2020-02-13 | 株式会社フジキン | 流体制御機器、流体制御機器の異常検知方法、異常検知装置、及び異常検知システム |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8264347B2 (en) * | 2008-06-24 | 2012-09-11 | Trelleborg Sealing Solutions Us, Inc. | Seal system in situ lifetime measurement |
US20090317028A1 (en) * | 2008-06-24 | 2009-12-24 | Larry Castleman | Seal assembly in situ lifetime measurement |
KR100998602B1 (ko) * | 2008-08-29 | 2010-12-07 | 씨앤지하이테크 주식회사 | 약액 이송장치 |
EP2531729B1 (en) * | 2010-02-02 | 2020-03-04 | Dajustco Ip Holdings Inc. | Diaphragm pump with hydraulic fluid control system |
JP5114527B2 (ja) * | 2010-04-20 | 2013-01-09 | 株式会社コガネイ | 液体供給装置 |
JP5535155B2 (ja) * | 2011-09-05 | 2014-07-02 | 株式会社コガネイ | 流路切換弁およびそれを用いた流動性材料の吐出制御装置 |
TWI626372B (zh) | 2015-04-13 | 2018-06-11 | 徐郁輝 | 一種具摺層構造之可浮性儲水袋 |
KR101732113B1 (ko) * | 2015-08-17 | 2017-05-04 | 이동민 | 진공 공정용 아이솔레이션 밸브 |
JP6709795B2 (ja) * | 2016-07-05 | 2020-06-17 | 株式会社コガネイ | チューブポンプ |
KR101879177B1 (ko) * | 2017-07-31 | 2018-07-17 | (주)포톤 | 약액 공급 장치 |
JPWO2020031629A1 (ja) | 2018-08-10 | 2021-08-10 | 株式会社フジキン | 流体制御装置、流体制御機器、及び動作解析システム |
CN111765061B (zh) * | 2020-07-07 | 2022-03-29 | 鹏城实验室 | 压差驱动式吸排机构 |
CN113303305B (zh) * | 2021-05-14 | 2022-02-11 | 北京百瑞盛田环保科技发展有限公司 | 一种施药监控方法、装置及系统 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4840169Y1 (ja) * | 1970-02-26 | 1973-11-26 | ||
JPS63130973A (ja) * | 1986-11-21 | 1988-06-03 | Takeshi Hoya | 弁装置構造 |
JPH03149371A (ja) * | 1989-11-02 | 1991-06-25 | Nippon Fuiidaa Kogyo Kk | ダイヤフラムポンプ |
JPH1122648A (ja) * | 1997-07-04 | 1999-01-26 | Nissan Motor Co Ltd | 燃料ポンプ |
JP2002242842A (ja) * | 2001-02-19 | 2002-08-28 | Nikkiso Co Ltd | ダイアフラムポンプ |
JP2006266250A (ja) * | 2005-02-28 | 2006-10-05 | Saginomiya Seisakusho Inc | 定量送液ポンプ |
JP2006291891A (ja) * | 2005-04-13 | 2006-10-26 | Koganei Corp | 薬液供給装置 |
JP2008008232A (ja) * | 2006-06-30 | 2008-01-17 | Saginomiya Seisakusho Inc | 定量送液ポンプおよびそれを用いた薬液塗布装置 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2613607A (en) * | 1949-10-27 | 1952-10-14 | Milton Roy Co | Bellows pump |
US2853015A (en) * | 1955-01-11 | 1958-09-23 | Pleuger Friedrich Wilhelm | Diaphragm pump |
US3318251A (en) * | 1965-06-21 | 1967-05-09 | Manton Gaulin Mfg Company Inc | Method and apparatus for pumping fluid bodies |
DE7303301U (de) * | 1973-01-30 | 1974-04-04 | Feluwa Schlesiger & Co Kg | Membran-Kolbenpumpe |
US4178133A (en) * | 1977-04-14 | 1979-12-11 | Binks Manufacturing Company | Double-acting flexible tube pump |
US4474540A (en) * | 1982-09-10 | 1984-10-02 | Pennwalt Corporation | Tubular diaphragm pump |
US5167837A (en) * | 1989-03-28 | 1992-12-01 | Fas-Technologies, Inc. | Filtering and dispensing system with independently activated pumps in series |
US5165869A (en) * | 1991-01-16 | 1992-11-24 | Warren Rupp, Inc. | Diaphragm pump |
JP3554115B2 (ja) * | 1996-08-26 | 2004-08-18 | 株式会社コガネイ | 薬液供給装置 |
JP3461725B2 (ja) | 1998-06-26 | 2003-10-27 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液供給装置及び処理液供給方法 |
JP2002089503A (ja) | 2000-09-18 | 2002-03-27 | Koganei Corp | アクチュエータ |
JP4197107B2 (ja) | 2002-07-18 | 2008-12-17 | 大日本印刷株式会社 | 塗工装置 |
JP5060766B2 (ja) | 2006-06-19 | 2012-10-31 | 株式会社コガネイ | 薬液供給装置 |
-
2006
- 2006-11-29 JP JP2006322235A patent/JP4547369B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-08-14 TW TW096129958A patent/TW200823367A/zh not_active IP Right Cessation
- 2007-08-28 CN CN200710147595A patent/CN100578016C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2007-08-28 KR KR1020070086566A patent/KR100904832B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2007-09-18 US US11/856,820 patent/US7841842B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4840169Y1 (ja) * | 1970-02-26 | 1973-11-26 | ||
JPS63130973A (ja) * | 1986-11-21 | 1988-06-03 | Takeshi Hoya | 弁装置構造 |
JPH03149371A (ja) * | 1989-11-02 | 1991-06-25 | Nippon Fuiidaa Kogyo Kk | ダイヤフラムポンプ |
JPH1122648A (ja) * | 1997-07-04 | 1999-01-26 | Nissan Motor Co Ltd | 燃料ポンプ |
JP2002242842A (ja) * | 2001-02-19 | 2002-08-28 | Nikkiso Co Ltd | ダイアフラムポンプ |
JP2006266250A (ja) * | 2005-02-28 | 2006-10-05 | Saginomiya Seisakusho Inc | 定量送液ポンプ |
JP2006291891A (ja) * | 2005-04-13 | 2006-10-26 | Koganei Corp | 薬液供給装置 |
JP2008008232A (ja) * | 2006-06-30 | 2008-01-17 | Saginomiya Seisakusho Inc | 定量送液ポンプおよびそれを用いた薬液塗布装置 |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8133042B2 (en) * | 2007-12-03 | 2012-03-13 | Koganei Corporation | Chemical liquid supplying apparatus and pump assembly |
WO2012005015A1 (ja) * | 2010-07-09 | 2012-01-12 | 株式会社コガネイ | 薬液供給装置 |
KR101414080B1 (ko) | 2010-07-09 | 2014-07-01 | 가부시키가이샤 고가네이 | 약액공급장치 |
US9054139B2 (en) | 2010-07-09 | 2015-06-09 | Koganei Corporation | Chemical liquid supplying apparatus |
JP2016142196A (ja) * | 2015-02-03 | 2016-08-08 | 東京応化工業株式会社 | ポンプおよび塗布装置 |
KR20170001023U (ko) * | 2015-09-09 | 2017-03-20 | 주식회사 디엠에스 | 약액토출장치 |
KR200483917Y1 (ko) | 2015-09-09 | 2017-07-11 | 주식회사 디엠에스 | 약액토출장치 |
WO2020031628A1 (ja) * | 2018-08-10 | 2020-02-13 | 株式会社フジキン | 流体制御機器、流体制御機器の異常検知方法、異常検知装置、及び異常検知システム |
JPWO2020031628A1 (ja) * | 2018-08-10 | 2021-08-26 | 株式会社フジキン | 流体制御機器、流体制御機器の異常検知方法、異常検知装置、及び異常検知システム |
JP7315963B2 (ja) | 2018-08-10 | 2023-07-27 | 株式会社フジキン | 流体制御機器、流体制御機器の異常検知方法、異常検知装置、及び異常検知システム |
US11988302B2 (en) | 2018-08-10 | 2024-05-21 | Fujikin Incorporated | Fluid control device, abnormality detection method of fluid control device, abnormality detection device, and abnormality detection system |
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