JP2008130891A - Iii族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法、及びiii族窒化物化合物半導体発光素子、並びにランプ - Google Patents
Iii族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法、及びiii族窒化物化合物半導体発光素子、並びにランプ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008130891A JP2008130891A JP2006315497A JP2006315497A JP2008130891A JP 2008130891 A JP2008130891 A JP 2008130891A JP 2006315497 A JP2006315497 A JP 2006315497A JP 2006315497 A JP2006315497 A JP 2006315497A JP 2008130891 A JP2008130891 A JP 2008130891A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group iii
- iii nitride
- layer
- nitride compound
- compound semiconductor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 233
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 90
- -1 nitride compound Chemical class 0.000 title claims abstract description 90
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 58
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 67
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 claims abstract description 45
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 39
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims abstract description 24
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 97
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 64
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 26
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 claims description 21
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 13
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 claims description 10
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 8
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 claims description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 20
- 238000002156 mixing Methods 0.000 abstract description 10
- 238000010030 laminating Methods 0.000 abstract description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 284
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 33
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 27
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 23
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 21
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 15
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 12
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 11
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 9
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 7
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- 229910018134 Al-Mg Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910018467 Al—Mg Inorganic materials 0.000 description 4
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 4
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000001552 radio frequency sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 3
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 3
- AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N digallium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Ga+3].[Ga+3] AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001195 gallium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910021478 group 5 element Inorganic materials 0.000 description 2
- AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)manganese;manganese Chemical compound [Mn].O[Mn]=O.O[Mn]=O AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 2
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- 229910018125 Al-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N Aluminum nitride Chemical compound [Al]#N PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018520 Al—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910005793 GeO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052774 Proactinium Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNQKDQAVIXDKAG-UHFFFAOYSA-N aluminum gallium Chemical compound [Al].[Ga] RNQKDQAVIXDKAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSWGDDYIUCWADU-UHFFFAOYSA-N aluminum magnesium oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Mg++].[Al+3] GSWGDDYIUCWADU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZMPWQGNGPZWRV-UHFFFAOYSA-N aluminum strontium lanthanum(3+) oxygen(2-) tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[Ta+5].[Al+3].[Sr+2].[La+3] HZMPWQGNGPZWRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 238000007385 chemical modification Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000001784 detoxification Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- YQNQTEBHHUSESQ-UHFFFAOYSA-N lithium aluminate Chemical compound [Li+].[O-][Al]=O YQNQTEBHHUSESQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 229910003465 moissanite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017464 nitrogen compound Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002830 nitrogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 1
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 230000009103 reabsorption Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005478 sputtering type Methods 0.000 description 1
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000010408 sweeping Methods 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N trimethylaluminium Chemical compound C[Al](C)C JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N trimethylgallium Chemical compound C[Ga](C)C XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 238000010005 wet pre-treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- AXWLFOKLQGDQFR-UHFFFAOYSA-N zinc iron(2+) manganese(2+) oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Fe+2].[Zn+2].[Mn+2].[O-2].[O-2] AXWLFOKLQGDQFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/005—Processes
- H01L33/0062—Processes for devices with an active region comprising only III-V compounds
- H01L33/0066—Processes for devices with an active region comprising only III-V compounds with a substrate not being a III-V compound
- H01L33/007—Processes for devices with an active region comprising only III-V compounds with a substrate not being a III-V compound comprising nitride compounds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y20/00—Nanooptics, e.g. quantum optics or photonic crystals
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02367—Substrates
- H01L21/0237—Materials
- H01L21/0242—Crystalline insulating materials
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02436—Intermediate layers between substrates and deposited layers
- H01L21/02439—Materials
- H01L21/02455—Group 13/15 materials
- H01L21/02458—Nitrides
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02518—Deposited layers
- H01L21/02521—Materials
- H01L21/02538—Group 13/15 materials
- H01L21/0254—Nitrides
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02518—Deposited layers
- H01L21/0257—Doping during depositing
- H01L21/02573—Conductivity type
- H01L21/02579—P-type
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02612—Formation types
- H01L21/02617—Deposition types
- H01L21/02631—Physical deposition at reduced pressure, e.g. MBE, sputtering, evaporation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32245—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/45144—Gold (Au) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48257—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a die pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
- H01L2224/491—Disposition
- H01L2224/49105—Connecting at different heights
- H01L2224/49107—Connecting at different heights on the semiconductor or solid-state body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/301—Electrical effects
- H01L2924/3011—Impedance
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/301—Electrical effects
- H01L2924/3011—Impedance
- H01L2924/30111—Impedance matching
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/02—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
- H01L33/26—Materials of the light emitting region
- H01L33/30—Materials of the light emitting region containing only elements of Group III and Group V of the Periodic Table
- H01L33/32—Materials of the light emitting region containing only elements of Group III and Group V of the Periodic Table containing nitrogen
- H01L33/325—Materials of the light emitting region containing only elements of Group III and Group V of the Periodic Table containing nitrogen characterised by the doping materials
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S2304/00—Special growth methods for semiconductor lasers
- H01S2304/04—MOCVD or MOVPE
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/30—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region
- H01S5/34—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising quantum well or superlattice structures, e.g. single quantum well [SQW] lasers, multiple quantum well [MQW] lasers or graded index separate confinement heterostructure [GRINSCH] lasers
- H01S5/343—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising quantum well or superlattice structures, e.g. single quantum well [SQW] lasers, multiple quantum well [MQW] lasers or graded index separate confinement heterostructure [GRINSCH] lasers in AIIIBV compounds, e.g. AlGaAs-laser, InP-based laser
- H01S5/34333—Structure or shape of the active region; Materials used for the active region comprising quantum well or superlattice structures, e.g. single quantum well [SQW] lasers, multiple quantum well [MQW] lasers or graded index separate confinement heterostructure [GRINSCH] lasers in AIIIBV compounds, e.g. AlGaAs-laser, InP-based laser with a well layer based on Ga(In)N or Ga(In)P, e.g. blue laser
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Biophysics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Led Devices (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Abstract
【解決手段】III族窒化物半導体から各々なるn型半導体層14、発光層15、p型半導体層16が積層されてなる半導体層20を有するIII族窒化物化合物半導体発光素子を製造する方法であり、半導体層20の少なくとも一部をスパッタ法によって形成する工程を含み、p型半導体層14をスパッタ法によって成膜する際、スパッタターゲットとして、Ga元素を含有するGaターゲット、及び、前記p型半導体層に含有される元素の内、結晶組成の小さな元素とドーパント元素とが混合されてなるドーパントターゲットをスパッタターゲットとして用い、これらGaターゲット及びドーパントターゲットに対して同時にパワーを印加する。
【選択図】図1
Description
また、電子デバイスに用いた場合でも、III族窒化物半導体は、従来のIII−V族化合物半導体を用いた場合に比べ、優れた特性を有する電子デバイスが得られる。
一般に、上述のような大きな格子不整合が存在する場合、基板上に結晶を直接エピタキシャル成長させることが困難となり、また、成長させた場合であっても結晶性の良好な結晶が得られないという問題がある。
また、DCマグネトロンスパッタリング法を用いて、基板上にAlNを成膜する方法が提案されている(例えば、非特許文献2)。
しかしながら、特許文献3に記載の方法では、安定して良好な結晶を得ることができないという問題がある。
しかしながら、特許文献4、5に記載の方法では、スパッタ法によってバッファ層を成膜しているので、成膜速度が速い反面、成膜条件によっては、結晶性に劣るバッファ層となる場合がある。このような結晶性の低いバッファ層上に、MOCVD法によってGaN層を成長させると、GaN層の結晶性が大幅に低下する虞がある。
また、カソードと固体状のターゲットとを向かい合わせ、基板とターゲットとの間にメッシュを入れた装置を用いてGaN層を成膜する方法が提案されている(例えば、非特許文献4)。
また、例えば、III族窒化物層としてMgドープのAlGaN等を成膜する場合には、Alの組成に応じて結晶内に取り込まれるMgの量が変化するため、Al組成が低い場合にはMgが入りやすいものの、Al組成が高いときにはMgが入りにくいという問題がある。
また、非特許文献5の方法では、スパッタ装置内においてGa元素とドーパント元素を混合する場合、装置が複雑になるとともに工程時間が長くなってしまい、さらに、ターゲット量に対する収率が低下するという問題があった。
即ち、本発明は以下に関する。
[2] 前記ドーパントターゲットは、ドーパント元素がMgであり、前記結晶組成の小さな元素がAlであることを特徴とする[1]に記載のIII族窒化物化合物半導
[3] 前記p型半導体層を成膜する際にスパッタターゲットに印加するパワーを、高周波方式、又はパルスDC方式によって印加することを特徴とする[1]又は[2]に記載のIII族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法。
[4] 前記p型半導体層を成膜する際、スパッタターゲットに対し、磁場を回転させるか、又は磁場を揺動させることを特徴とする[1]〜[3]の何れかに記載のIII族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法。
[5] 窒化物原料をリアクタ内に流通させるリアクティブスパッタ法によって前記p型半導体層を成膜することを特徴とする[1]〜[4]の何れかに記載のIII族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法。
[6] 前記窒化物原料として窒素を用いることを特徴とする[5]に記載のIII族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法。
[8] 前記バッファ層を、III族元素としてAlを含有するIII族窒化物化合物で形成することを特徴とする[7]に記載のIII族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法。
[9] 前記バッファ層を、AlNで形成することを特徴とする[8]に記載のIII族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法。
[10] 前記バッファ層を、前記基板の表面の少なくとも90%以上を覆うように形成することを特徴とする[7]〜[9]の何れかに記載のIII族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法。
[11] 前記バッファ層を構成する柱状結晶のグレインの幅が0.1〜100nmの範囲であることを特徴とする[7]〜[10]の何れかに記載のIII族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法。
[12] 前記バッファ層の膜厚が10〜500nmの範囲であることを特徴とする[7]〜[11]の何れかに記載のIII族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法。
[13] 前記基板にサファイアを用いることを特徴とする[7]〜[12]の何れかに記載のIII族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法。
[15] 上記[11]に記載のIII族窒化物化合物半導体発光素子が用いられてなるランプ。
従って、基板上に、結晶性の良好なIII族窒化物化合物からなる半導体層を効率良く成長させることができ、生産性に優れ安価であるとともに、優れた発光特性を備えたIII族窒化物化合物半導体発光素子が得られる。
そして、本実施形態の積層半導体10は、図2及び図3に示す例のように、p型半導体層16上に透光性正極17が積層され、その上に正極ボンディングパッド18が形成されるとともに、n型半導体層14のn型コンタクト層14bに形成された露出領域14dに負極19が積層されてなる発光素子1を構成することができる。
以下、本実施形態の発光素子の製造方法、及び発光素子について詳述する。
本実施形態の発光素子の製造方法は、上述したように、半導体層をスパッタ法によって成膜する際、図5に示すようなチャンバ41内に設けられたGaスパッタターゲット47a及びAlMgターゲット47bを用いるとともに、これらGaスパッタターゲット47a及びAlMgターゲット47bに対して同時にパワーを印加する方法である。また、本実施形態では、図1に示す半導体層20の内、p型半導体層16を構成するp型クラッド層16a及びp型コンタクト層16bの各層を、上述のようなスパッタ法によって成膜する方法としている。
本実施形態のスパッタ装置40は、チャンバ41内において、Ga元素からなるGaターゲット47a、及び、半導体層の従組成であるAlとドーパント元素のMgとを混合したAlMgターゲット47bの各々が電極43a、43b上に各々載置されて設けられている。
上述のマッチングボックス46a、46b、及び45は、スパッタ装置40内部と、高周波の電源48とのインピーダンスのマッチングをとるために設けられる。
そして、基板11が加温された状態で電極43a、43bに電流を供給し、Gaターゲット47a及びAlMgターゲット47bの各々に同時にパワーを印加するとともに、ヒータ台44に電流を供給して、基板11にバイアスを印加する。
この際、Ga元素からなるGaターゲット47a、及びAl−MgからなるAlMgターゲット47bの両方が、アルゴンガス及び窒素ガスのプラズマに曝され、Gaターゲット47aからはGaの粒子が、AlMgターゲット47bからはAl−Mgの粒子が、同時に飛び出す。これらの粒子が、ヒータ台44に取り付けられた基板11、又は該基板11上に積層された膜の表面にぶつかるように供給されることにより、基板11上に半導体層が成膜される。
Gaターゲット47a及びAlMgターゲット47bに印加するパワーを上記範囲とすることにより、大きなパワーの反応種を生成し、また、この反応種を高い運動エネルギーで基板11へ供給できるので、基板11上におけるマイグレーションが活発になり、転位をループ化させるのが容易になる。
また、各スパッタターゲットの大きさの比率や、各スパッタターゲットに印加するパワーの比率或いはオン/オフ時間比率等を適宜設定することでも、成膜される半導体層の組成やドーピング比率を調整することが可能である。
また、一般に、後述するリアクティブスパッタ法を用いた場合には、成膜レートを容易にコントロールできる点から、RFスパッタ法を用いることがより好ましい。
また、DCスパッタ法において、リアクティブスパッタ法を用いる場合、DCで電場を連続してかけた状態にするとスパッタターゲットがチャージアップしてしまい、成膜レートを高くすることが困難になるため、パルス的にバイアスを与えるパルス式DCスパッタ法とすることが好ましい。
特に、RFスパッタを用いた場合、均一な膜厚を得る方法として、マグネットの位置をターゲット(スパッタターゲット)内で移動させつつ成膜することが好ましい。具体的なマグネットの運動方法は、スパッタ装置の種類によって適宜選択することができ、例えば、マグネットを揺動させたり、又は回転運動させたりすることができる。
アンモニアは分解効率が良好であり、高い成長速度で成膜することが可能であるが、反応性や毒性が高いため、除害設備やガス検知器が必要となり、また、反応装置に使用する部材の材料を化学的に安定性の高いものにする必要がある。
また、窒素(N2)を原料として用いた場合には、装置としては簡便なものを用いることができるが、高い反応速度は得られない。しかしながら、窒素を電界や熱等により分解してから装置に導入する方法とすれば、アンモニアよりは低いものの工業生産的に利用可能な程度の成膜速度を得ることができるため、装置コストとの兼ね合いを考えると、最も好適な窒素源である。
また、基板11は、スパッタ装置40のチャンバ41中に導入した後、バッファ層12を形成する前に、スパッタ法等の方法を用いて前処理を行うことができる。具体的には、基板11をArやN2のプラズマ中に曝す事によって表面を整えることができる。例えば、ArガスやN2ガスなどのプラズマを基板11表面に作用させることで、基板11表面に付着した有機物や酸化物を除去することができる。この場合、基板11とチャンバとの間に電圧を印加すれば、プラズマ粒子が効率的に基板11に作用する。
基板11の温度が上記下限未満だと、基板11上でのマイグレーションが抑制され、結晶性の良いIII族窒化物化合物半導体結晶を成膜することができない。基板11の温度が上記上限を超えると、III族窒化物化合物半導体結晶が分解する虞がある。
なお、本発明で説明する室温とは、工程の環境等にも影響される温度であるが、具体的な温度としては、0〜30℃の範囲である。
スパッタターゲット47に施す前処理としては、例えば、スパッタターゲット47を加熱することにより、ガス成分を気相中に排出させる方法とすることができ、また、チャンバ41内の気相中に水素ガス等を流通させることにより、金属を還元させることで不純物を除去する方法とすることもできる。
以下、上述のように、チャンバ内に設けられたGaターゲット及びAlMgターゲットを用いるとともに、これらGaターゲット及びAlMgターゲットに対して同時にパワーを印加する方法により、基板11上に、III族元素としてGaを含むIII族窒化物化合物半導体からなる半導体層を成膜する、本実施形態の製造方法で得られる発光素子1の構成について詳述する。
本実施形態において、基板11に用いることができる材料としては、III族窒化物化合物半導体結晶が表面にエピタキシャル成長される基板材料であれば、特に限定されず、各種材料を選択して用いることができる。例えば、サファイア、SiC、シリコン、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化マンガン、酸化ジルコニウム、酸化マンガン亜鉛鉄、酸化マグネシウムアルミニウム、ホウ化ジルコニウム、酸化ガリウム、酸化インジウム、酸化リチウムガリウム、酸化リチウムアルミニウム、酸化ネオジウムガリウム、酸化ランタンストロンチウムアルミニウムタンタル、酸化ストロンチウムチタン、酸化チタン、ハフニウム、タングステン、モリブデン等が挙げられる。
また、一般的に、スパッタ法は基板の温度を低く抑えることが可能なので、高温で分解してしまう性質を持つ材料からなる基板を用いた場合でも、基板11にダメージを与えることなく基板上への各層の成膜が可能である。
本実施形態の積層半導体10は、基板11上に、III族窒化物化合物からなるバッファ層12が成膜されている。バッファ層12は、基板11を高温における化学反応から守る目的や、基板11の材料と後述の半導体層20との格子定数の違いを緩和する目的、あるいは、結晶成長のための核生成を促すための層として形成される。
また、バッファ層12は、基板11の表面11aに加え、側面を覆うようにして形成しても良く、さらに、基板11の裏面を覆うようにして形成しても良い。
III族窒化物化合物半導体の結晶は、六方晶系の結晶構造を有し、六角柱を基本とした集合組織を形成しやすい。特に、プラズマ化した金属材料を用いる成膜方法によって形成された膜は柱状結晶となりやすい。このような、柱状結晶からなるバッファ層12を基板11上に成膜した場合、バッファ層12のバッファ機能が有効に作用するため、その上に成膜されたIII族窒化物化合物半導体は良好な結晶性を持つ結晶膜となる。
なお、本発明で説明する柱状結晶とは、隣接する結晶粒との間に結晶粒界を形成して隔てられており、自身は縦断面形状として柱状になっている結晶のことをいう。
また、上述したグレインの幅とは、バッファ層12が柱状グレインの集合体である場合は、結晶の界面と界面の距離のことをいい、グレインが島状に点在する場合には、結晶グレインが基板面に接する面の最も大きいさし渡しの長さを言う。
バッファ層12の膜厚が10nm未満だと、上述したようなバッファ機能が充分でなくなる。また、500nmを超える膜厚でバッファ層12を形成し場合、バッファ層としての機能には変化が無いのにも関わらず、成膜処理時間が長くなり、生産性が低下する虞がある。
バッファ層12は、Alを含んだ組成とすることが好ましく、中でも、GaAlNとすることが好ましい。この際、Alの組成が50%以上とされていることが好ましい。
また、バッファ層12は、AlNからなる構成とすることにより、効率的に柱状結晶集合体とすることができるので、より好ましい。
図1に示すように、本実施形態の積層半導体10は、基板11上に、上述のようなバッファ層12を介して、窒化物系化合物半導体からなり、n型半導体層14、発光層15及びp型半導体層16からなる半導体層20が積層されている。
そして、n型半導体層14には、III族窒化物化合物半導体からなる下地層14a及びn型コンタクト層14bが備えられており、バッファ層12上に下地層14aが積層されている。
n型半導体層14は、通常、前記バッファ層12上に積層され、下地層14a、n型コンタクト層14b及びn型クラッド層14cから構成される。なお、n型コンタクト層は、下地層、及び/又は、n型クラッド層を兼ねることが可能であるが、下地層が、n型コンタクト層、及び/又は、n型クラッド層を兼ねることも可能である。
本実施形態の下地層14aはIII族窒化物化合物半導体からなる。
下地層14aの材料としては、必ずしも基板11上に成膜されたバッファ層12と同じである必要はなく、異なる材料を用いても構わないが、AlXGa1―XN層(0≦x≦1、好ましくは0≦x≦0.5、さらに好ましくは0≦x≦0.1)から構成されることが好ましい。また、本発明者等が実験したところ、下地層14aに用いる材料として、Gaを含むIII族窒化物化合物、即ちGaN系化合物半導体が好ましいことが明らかとなった。
基板11が導電性である場合には、下地層14aにドーパントをドープして導電性とすることにより、発光素子の上下に電極を形成することができる。一方、基板11に絶縁性の材料を用いる場合には、発光素子の同じ面に正極及び負極の各電極が設けられたチップ構造をとることになるので、下地層14aはドープしない結晶とした方が、結晶性が良好となるので好ましい。n型不純物としては、特に限定されないが、例えば、Si、GeおよびSn等が挙げられ、好ましくはSiおよびGeが挙げられる。
本実施形態のn型コンタクト層14bはIII族窒化物化合物半導体からなる。
n型コンタクト層14bとしては、下地層14aと同様にAlXGa1―XN層(0≦x≦1、好ましくは0≦x≦0.5、さらに好ましくは0≦x≦0.1)から構成されることが好ましい。また、n型不純物がドープされていることが好ましく、n型不純物を1×1017〜1×1019/cm3、好ましくは1×1018〜1×1019/cm3の濃度で含有すると、負極との良好なオーミック接触の維持、クラック発生の抑制、良好な結晶性の維持の点で好ましい。n型不純物としては、特に限定されないが、例えば、Si、GeおよびSn等が挙げられ、好ましくはSiおよびGeである。また、上述したように、n型コンタクト層14bは、下地層を兼ねた構成とすることもできる。
上述のn型コンタクト層14bと後述の発光層15との間には、n型クラッド層14cを設けることが好ましい。n型クラッド層14cには、後述の発光層15への電子供給、格子定数差の緩和、などの効果を持たせることができる。n型クラッド層14cは、AlGaN、GaN、GaInN等により成膜することが可能であり、また、これらの構造のヘテロ接合や複数回積層した超格子構造としてもよい。n型クラッド層14cをGaInNから成膜する場合には、発光の再吸収を防止する点から、発光層15のGaInNのバンドギャップよりも大きくすることが望ましいことは言うまでもない。
p型半導体層16は、通常、p型クラッド層16a及びp型コンタクト層16bから構成される。また、p型コンタクト層がp型クラッド層を兼ねる構成としてもよい。
p型クラッド層16aとしては、詳細を後述する発光層15のバンドギャップエネルギーより大きくなる組成であり、発光層15へのキャリアの閉じ込めができるものであれば特に限定されないが、好ましくは、AldGa1−dN(0<d≦0.4、好ましくは0.1≦d≦0.3)のものが挙げられる。p型クラッド層16aが、このようなAlGaNからなると、発光層15へのキャリアの閉じ込めの点で好ましい。
p型クラッド層16aのp型ドープ濃度は、1×1018〜1×1021/cm3の範囲とされていることが好ましく、より好ましくは1×1019〜1×1020/cm3である。p型ドープ濃度が上記範囲であると、結晶性を低下させることなく良好なp型結晶が得られる。
p型コンタクト層16bとしては、少なくともAleGa1−eN(0≦e<0.5、好ましくは0≦e≦0.2、より好ましくは0≦e≦0.1)を含んでなる窒化ガリウム系化合物半導体層である。Al組成が上記範囲であると、良好な結晶性の維持およびpオーミック電極(後述の透光性電極17を参照)との良好なオーミック接触の点で好ましい。
また、p型ドーパントを1×1018〜1×1021/cm3の範囲の濃度で含有していると、良好なオーミック接触の維持、クラック発生の防止、良好な結晶性の維持の点で好ましく、より好ましくは5×1019〜5×1020/cm3の範囲である。
p型不純物としては、特に限定されないが、例えば、好ましくはMgが挙げられる。
発光層15は、n型半導体層14上に積層されるとともにp型半導体層16がその上に積層される層である。発光層15は、多重量子井戸構造、単一井戸構造、バルク構造等の各構造を採ることができる。
図1に示す例では、発光層15は、6層の障壁層15aと5層の井戸層15bとが交互に繰り返して積層され、発光層15の最上層及び最下層に障壁層15aが配され、各障壁層15a間に井戸層15bが配される多重量子井戸構造とされている。
また、井戸層15bには、インジウムを含有する窒化ガリウム系化合物半導体として、例えば、Ga1−sInsN(0<s<0.4)等の窒化ガリウムインジウムを用いることができる。
透光性正極17は、上述のようにして作製される積層半導体10のp型半導体層16上に形成される透光性の電極である。
透光性正極17の材質としては、特に限定されず、ITO(In2O3−SnO2)、AZO(ZnO−Al2O3)、IZO(In2O3−ZnO)、GZO(ZnO−GeO2)等の材料を、この技術分野でよく知られた慣用の手段で設けることができる。また、その構造も、従来公知の構造を含めて如何なる構造のものも何ら制限なく用いることができる。
正極ボンディングパッド18は、上述の透光性正極17上に形成される電極である。
正極ボンディングパッド18の材料としては、Au、Al、NiおよびCu等を用いた各種構造が周知であり、これら周知の材料、構造のものを何ら制限無く用いることができる。
正極ボンディングパッド18の厚さは、100〜1000nmの範囲内であることが好ましい。また、ボンディングパッドの特性上、厚さが大きい方が、ボンダビリティーが高くなるため、正極ボンディングパッド18の厚さは300nm以上とすることがより好ましい。さらに、製造コストの観点から500nm以下とすることが好ましい。
このため、負極19を形成する際は、p型半導体層16、発光層15、及びn型半導体層14の一部を除去してn型コンタクト層14bの露出領域14dを形成し、この上に負極19を形成する。
負極19の材料としては、各種組成および構造の負極が周知であり、これら周知の負極を何ら制限無く用いることができ、この技術分野でよく知られた慣用の手段で設けることができる。
従って、基板11上に、結晶性の良好なIII族窒化物化合物からなる半導体層を効率良く成長させることができ、生産性に優れ安価であるとともに、優れた発光特性を備えたIII族窒化物化合物半導体発光素子が得られる。
以上説明したような、本発明に係るIII族窒化物化合物半導体発光素子と蛍光体とを組み合わせることにより、当業者周知の手段によってランプを構成することができる。従来より、発光素子と蛍光体と組み合わせることによって発光色を変える技術が知られており、このような技術を何ら制限されることなく採用することが可能である。
例えば、蛍光体を適正に選定することにより、発光素子より長波長の発光を得ることも可能となり、また、発光素子自体の発光波長と蛍光体によって変換された波長とを混ぜることにより、白色発光を呈するランプとすることもできる。
また、ランプとしては、一般用途の砲弾型、携帯のバックライト用途のサイドビュー型、表示器に用いられるトップビュー型等、何れの用途にも用いることができる。
図1に、本実験例で作製したIII族窒化物化合物半導体発光素子の積層半導体の断面模式図を示す。
本例では、サファイアからなる基板11のc面上に、バッファ層12としてRFスパッタ法を用いてAlNからなる柱状結晶の集合体を形成し、その上に、n型半導体層14として、下地層14a及びn型コンタクト層14bを、RFスパッタ法を用いて成膜し、また、n型コンタクト層14b上に、n型クラッド層14cをMOCVD法によって成膜した。そして、この上に、MOCVD法によって発光層15を成膜し、該発光層15上に、p型半導体層16として、p型クラッド層16a及びp型コンタクト層16bを、スパッタ法を用いてこの順で積層した。
そして、スパッタ装置内で基板11を750℃まで加熱し、窒素ガスのみを15sccmの流量で導入した後、チャンバ内の圧力を0.08Paに保持し、基板11側に50Wの高周波バイアスを印加し、窒素プラズマに晒すことによって基板11表面を洗浄した。
ターゲット内のマグネットは、基板11の洗浄時、及び成膜時の何れにおいても回転させた。
そして、予め測定した成膜速度(0.12nm/s)に従い、規定した時間の処理の後、50nmのAlN(バッファ層12)を成膜後、プラズマ動作を停止し、基板11の温度を低下させた。
このような工程により、サファイアからなる基板11上に、柱状構造を有し、AlNからなるバッファ層12を形成し、その上に、アンドープで6μmの膜厚のGaN層(下地層14a)、及び1×1019cm−3の電子濃度を持つ2μmのSiドープGaN層(n型コンタクト層14b)を形成した試料を作製した。この試料は、無色透明のミラー状を呈した。
まず、上述のようにして成膜したn型コンタクト層14b上に、1×1018cm−3の電子濃度を持つ20nmのIn0.1Ga0.9N型クラッド層(n型クラッド層14c)、を成膜した。そして、この上に、GaN障壁層に始まりGaN障壁層に終わる積層構造であって、層厚を16nmとしたGaNからなる6層の障壁層15aと、層厚を3nmとしたノンドープのIn0.2Ga0.8Nからなる5層の井戸層15bとが交互に積層されてなる発光層(多重量子井戸構造)15を成膜した。
このような工程により、最終的に、図1に示すようなIII族窒化物化合物半導体発光素子用のエピタキシャル層構造を有するエピタキシャルウェーハ(積層半導体10)を作製した。
まず、作製したウェーハ(積層半導体10)について、公知のフォトリソグラフィーによってMgドープAl0.02Ga0.98Nからなるp型コンタクト層16bの表面上に、ITOからなる透光性正極17と、その上に透光性正極17表面側から順にチタン、アルミニウム、金を積層した構造を有する正極ボンディングパッド18を形成した。また、ウェーハの一部にドライエッチングを施し、n型コンタクト層14b上の露出領域14dを露出させ、この部分にNi、Al、Ti、及びAuの4層よりなる負極19を作製した。これらの工程により、ウェーハ上に、図2及び3に示すような形状を持つ各電極を作製した。
本例では、p型半導体層16の成膜に用いるスパッタ装置として、Ga元素、Al並びにMgが同一ターゲット内で混合されてなるスパッタターゲットが備えられた装置を用いた点を除き、実施例1と同様にして、サファイアからなる基板のc面上に、スパッタ法でAlNからなる柱状結晶の集合体からなるバッファ層を形成し、その上に、スパッタ法で下地層及びn型コンタクト層を成膜し、この上にMOCVD法を用いてn型クラッド層を成膜した後、該n型クラッド層上にMOCVD法を用いて発光層15を成膜し、さらにこの上に、スパッタ法を用いてp型クラッド層及びp型コンタクト層をこの順で成膜した。そして、反応装置からウェーハを取り出したところ、ウェーハの表面が鏡面であることが確認できた。
比較例1の発光素子は、発光特性に関しては、実施例1の発光素子と比べ、特に大きく劣るものではなかったが、上述の比較例1の方法により、同構造のウェーハを643枚作製したところ、Mgのドープ量が安定せず、全643枚のウェーハ中32枚のウェーハが、順方向電圧Vfが高いという不具合が生じた。このため、実施例1の発光素子の製造方法に比べ、歩留まりの低い方法であることが明らかとなった。
本例では、MOCVD装置を用いてp型半導体層16の成膜を行なった点を除き、実施例1と同様にしてウェーハ(積層半導体)を作製した。そして、反応装置からウェーハを取り出したところ、ウェーハの表面が鏡面であることが確認できた。
比較例2の発光素子は、発光特性に関しては、実施例1の発光素子と比べ、特に大きく劣るものではなかったが、上述の比較例2の方法は大掛かりで高価なMOCVD装置を用いる方法であるため、工程スペースを占有するとともにメンテナンスに工数を要した。このため、実施例1の製造方法で作製した発光素子に比べ、作製コスト面で高価となり、比較例2の方法で発光素子を量産した場合には、さらにコスト差が広がることが明らかとなった。
従って、優れた発光特性を有する発光ダイオード、レーザダイオード、或いは電子デバイス等の半導体素子を作製することが可能となる。
Claims (15)
- III族窒化物半導体層を有するIII族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法であって、
前記半導体層の少なくとも一部をスパッタ法によって形成する工程を含み、
前記p型半導体層をスパッタ法によって成膜する際、スパッタターゲットとして、Ga元素を含有するGaターゲット、及び、前記p型半導体層に含有される元素の内、結晶組成の小さな元素とドーパント元素とが混合されてなるドーパントターゲットを用い、前記Gaターゲット及び前記ドーパントターゲットに対して同時にパワーを印加することを特徴とするIII族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法。 - 前記ドーパントターゲットは、ドーパント元素がMgであり、前記結晶組成の小さな元素がAlであることを特徴とする請求項1に記載のIII族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法。
- 前記p型半導体層を成膜する際にスパッタターゲットに印加するパワーを、高周波方式、又はパルスDC方式によって印加することを特徴とする請求項1又は2に記載のIII族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法。
- 前記p型半導体層を成膜する際、スパッタターゲットに対し、磁場を回転させるか、又は磁場を揺動させることを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載のIII族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法。
- 窒化物原料をリアクタ内に流通させるリアクティブスパッタ法によって前記p型半導体層を成膜することを特徴とする請求項1〜4の何れか1項に記載のIII族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法。
- 前記窒化物原料として窒素を用いることを特徴とする請求項5に記載のIII族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法。
- 基板上に柱状結晶からなるバッファ層を形成し、該バッファ層上に前記半導体層を形成することを特徴とする請求項1〜6の何れか1項に記載のIII族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法。
- 前記バッファ層を、III族元素としてAlを含有するIII族窒化物化合物で形成することを特徴とする請求項7に記載のIII族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法。
- 前記バッファ層を、AlNで形成することを特徴とする請求項8に記載のIII族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法。
- 前記バッファ層を、前記基板の表面の少なくとも90%以上を覆うように形成することを特徴とする請求項7〜9の何れか1項に記載のIII族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法。
- 前記バッファ層を構成する柱状結晶のグレインの幅が0.1〜100nmの範囲であることを特徴とする請求項7〜10の何れか1項に記載のIII族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法。
- 前記バッファ層の膜厚が10〜500nmの範囲であることを特徴とする請求項7〜11の何れか1項に記載のIII族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法。
- 前記基板にサファイアを用いることを特徴とする請求項7〜12の何れか1項に記載のIII族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法。
- 請求項1〜13の何れか1項に記載の製造方法で得られるIII族窒化物化合物半導体発光素子。
- 請求項14に記載のIII族窒化物化合物半導体発光素子が用いられてなるランプ。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006315497A JP4912843B2 (ja) | 2006-11-22 | 2006-11-22 | Iii族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法 |
US11/944,306 US7585690B2 (en) | 2006-11-22 | 2007-11-21 | Process for producing group III nitride compound semiconductor light emitting device, group III nitride compound semiconductor light emitting device and lamp |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006315497A JP4912843B2 (ja) | 2006-11-22 | 2006-11-22 | Iii族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008130891A true JP2008130891A (ja) | 2008-06-05 |
JP4912843B2 JP4912843B2 (ja) | 2012-04-11 |
Family
ID=39416057
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006315497A Active JP4912843B2 (ja) | 2006-11-22 | 2006-11-22 | Iii族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7585690B2 (ja) |
JP (1) | JP4912843B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008153619A (ja) * | 2006-11-24 | 2008-07-03 | Showa Denko Kk | Iii族窒化物化合物半導体発光素子の製造装置、iii族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法、及びiii族窒化物化合物半導体発光素子、並びにランプ |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008109084A (ja) * | 2006-09-26 | 2008-05-08 | Showa Denko Kk | Iii族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法、及びiii族窒化物化合物半導体発光素子、並びにランプ |
JP4714712B2 (ja) * | 2007-07-04 | 2011-06-29 | 昭和電工株式会社 | Iii族窒化物半導体発光素子及びその製造方法、並びにランプ |
JP5272390B2 (ja) * | 2007-11-29 | 2013-08-28 | 豊田合成株式会社 | Iii族窒化物半導体の製造方法、iii族窒化物半導体発光素子の製造方法、及びiii族窒化物半導体発光素子、並びにランプ |
KR101159995B1 (ko) * | 2008-03-13 | 2012-06-25 | 쇼와 덴코 가부시키가이샤 | Ⅲ족 질화물 반도체 소자 및 그 제조 방법, ⅲ족 질화물 반도체 발광 소자 및 그 제조 방법, 및 램프 |
TWI415295B (zh) * | 2008-06-24 | 2013-11-11 | Advanced Optoelectronic Tech | 半導體元件的製造方法及其結構 |
CN101777616A (zh) * | 2010-01-29 | 2010-07-14 | 上海大学 | 氧化锌基透明电极发光二极管及其制作方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001035805A (ja) * | 1999-07-19 | 2001-02-09 | Sony Corp | Iii族ナイトライド化合物半導体薄膜およびその形成方法、並びに半導体素子およびその製造方法 |
JP2005167859A (ja) * | 2003-12-04 | 2005-06-23 | Murata Mfg Co Ltd | 弾性波素子の製造方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3026087B2 (ja) | 1989-03-01 | 2000-03-27 | 豊田合成株式会社 | 窒化ガリウム系化合物半導体の気相成長方法 |
JPH088217B2 (ja) | 1991-01-31 | 1996-01-29 | 日亜化学工業株式会社 | 窒化ガリウム系化合物半導体の結晶成長方法 |
US5290393A (en) | 1991-01-31 | 1994-03-01 | Nichia Kagaku Kogyo K.K. | Crystal growth method for gallium nitride-based compound semiconductor |
JP3063289B2 (ja) | 1991-09-30 | 2000-07-12 | 前田建設工業株式会社 | 梁を連設した鋼管柱の構築方法 |
JP3700492B2 (ja) | 1999-09-21 | 2005-09-28 | 豊田合成株式会社 | Iii族窒化物系化合物半導体素子 |
US6713789B1 (en) * | 1999-03-31 | 2004-03-30 | Toyoda Gosei Co., Ltd. | Group III nitride compound semiconductor device and method of producing the same |
JP3440873B2 (ja) | 1999-03-31 | 2003-08-25 | 豊田合成株式会社 | Iii族窒化物系化合物半導体素子の製造方法 |
-
2006
- 2006-11-22 JP JP2006315497A patent/JP4912843B2/ja active Active
-
2007
- 2007-11-21 US US11/944,306 patent/US7585690B2/en active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001035805A (ja) * | 1999-07-19 | 2001-02-09 | Sony Corp | Iii族ナイトライド化合物半導体薄膜およびその形成方法、並びに半導体素子およびその製造方法 |
JP2005167859A (ja) * | 2003-12-04 | 2005-06-23 | Murata Mfg Co Ltd | 弾性波素子の製造方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008153619A (ja) * | 2006-11-24 | 2008-07-03 | Showa Denko Kk | Iii族窒化物化合物半導体発光素子の製造装置、iii族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法、及びiii族窒化物化合物半導体発光素子、並びにランプ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20080116478A1 (en) | 2008-05-22 |
US7585690B2 (en) | 2009-09-08 |
JP4912843B2 (ja) | 2012-04-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5272390B2 (ja) | Iii族窒化物半導体の製造方法、iii族窒化物半導体発光素子の製造方法、及びiii族窒化物半導体発光素子、並びにランプ | |
JP4644754B2 (ja) | Iii族窒化物半導体素子及びiii族窒化物半導体発光素子 | |
JP4191227B2 (ja) | Iii族窒化物半導体発光素子の製造方法及びiii族窒化物半導体発光素子並びにランプ | |
JP5049659B2 (ja) | Iii族窒化物半導体の製造方法、iii族窒化物半導体発光素子の製造方法、及びiii族窒化物半導体発光素子、並びにランプ | |
TWI491064B (zh) | Iii族氮化物半導體發光元件及該製造方法、以及燈 | |
JP5262206B2 (ja) | Iii族窒化物半導体層の製造方法及びiii族窒化物半導体発光素子の製造方法 | |
EP2200099A1 (en) | Group iii nitride semiconductor light-emitting device, method for manufacturing the same, and lamp | |
JP2008153603A (ja) | Iii族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法、及びiii族窒化物化合物半導体発光素子、並びにランプ | |
JPWO2008136504A1 (ja) | Iii族窒化物半導体発光素子の製造方法 | |
JP2008109084A (ja) | Iii族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法、及びiii族窒化物化合物半導体発光素子、並びにランプ | |
JP2009295753A (ja) | Iii族窒化物半導体発光素子の製造方法及びiii族窒化物半導体発光素子、並びにランプ | |
JP2008047762A (ja) | Iii族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法、及びiii族窒化物化合物半導体発光素子、並びにランプ | |
JP4912843B2 (ja) | Iii族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法 | |
JP2011082570A (ja) | Iii族窒化物半導体発光素子の製造方法 | |
JP5041883B2 (ja) | Iii族窒化物半導体層の製造方法、iii族窒化物半導体発光素子の製造方法 | |
JP2008047763A (ja) | Iii族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法、及びiii族窒化物化合物半導体発光素子、並びにランプ | |
JP2008106316A (ja) | Iii族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法、及びiii族窒化物化合物半導体発光素子、並びにランプ | |
JP4982259B2 (ja) | Iii族窒化物化合物半導体発光素子の製造方法 | |
JP2008135463A (ja) | Iii族窒化物半導体の製造方法、iii族窒化物半導体発光素子の製造方法、及びiii族窒化物半導体発光素子、並びにランプ | |
JP2009161434A (ja) | Iii族窒化物半導体結晶の製造方法及びiii族窒化物半導体結晶 | |
JP2008294449A (ja) | Iii族窒化物半導体発光素子の製造方法及びiii族窒化物半導体発光素子並びにランプ | |
JP2009155672A (ja) | Iii族窒化物半導体の製造方法、iii族窒化物半導体発光素子の製造方法、iii族窒化物半導体製造装置、iii族窒化物半導体及びiii族窒化物半導体発光素子、並びにランプ | |
JP5179055B2 (ja) | Iii族窒化物半導体の製造方法、iii族窒化物半導体発光素子の製造方法、及びiii族窒化物半導体発光素子、並びにランプ | |
JP2008159954A (ja) | Iii族窒化物半導体の製造方法、iii族窒化物半導体発光素子の製造方法、及びiii族窒化物半導体発光素子、並びにランプ | |
JP2008198705A (ja) | Iii族窒化物半導体発光素子の製造方法、及びiii族窒化物半導体発光素子、並びにランプ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090803 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110906 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110907 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111024 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120110 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120118 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4912843 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150127 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150127 Year of fee payment: 3 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150127 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |