JP2008122613A - レーザ走査光学装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】複写機やプリンタなどの画像形成装置にプリントヘッドとして搭載されるマルチビームを用いたレーザ走査光学装置。複数のレーザビーム発光素子を備えたマルチビームレーザ1とコリメータレンズ2とポリゴンミラー3と走査レンズ4とで構成されている。一のビームに対してコリメータレンズ2を光軸上で移動させることで感光体ドラム102上でのビーム径の調整を行った後、レーザビーム発光素子のそれぞれに対してバイアス電流の調整、発光光量の調整及び/又は感光体ドラム上でのビームの相対位置の調整を行う。
【選択図】図2
Description
一のビームに対してそのビーム径を調整する単一のビーム径調整手段と、
複数のレーザビーム発生源のそれぞれに対してバイアス電流を調整するバイアス電流調整手段と、を備え、
前記ビーム径調整手段にてビーム径の調整を行った後、前記バイアス電流調整手段にてそれぞれのレーザビーム発生源に対して個々にバイアス電流を調整すること、
を特徴とする。
一のビームに対してそのビーム径を調整する単一のビーム径調整手段と、
複数のレーザビーム発生源のそれぞれに対して発光光量を調整する光量調整手段と、を備え、
前記ビーム径調整手段にてビーム径の調整を行った後、前記光量調整手段にてそれぞれのレーザビーム発生源に対して個々に発光光量を調整すること、
を特徴とする。
一のビームに対してそのビーム径を調整する単一のビーム径調整手段と、
複数のビームのそれぞれに対して被走査面上での相対位置を調整する位置調整手段と、を備え、
前記ビーム径調整手段にてビーム径の調整を行った後、前記位置調整手段にてそれぞれのビームの相対位置を調整すること、
を特徴とする。
一のビームに対してそのビーム径を調整する単一のビーム径調整手段と、
一のビームを用いて主走査同期信号を得る主走査同期信号発生手段と、を備え、
前記ビーム径調整手段にてビーム径の調整が行われる一のビームと、前記主走査同期信号発生手段で用いられる一のビームが同一ビームであること、
を特徴とする。
図1に示す画像形成装置は、電子写真方式によるカラープリンタであって、いわゆるタンデム式で4色(C:シアン、M:マゼンタ、Y:イエロー、K:ブラック)の画像を形成するように構成したものである。画像は、各画像形成ステーション101で形成され、中間転写ベルト112上で合成される。なお、各図面において、参照数字に付されているC,M,Y,Kの文字はそれぞれシアン、マゼンタ、イエロー、ブラック用の部材であることを意味している。
図2に示すように、各レーザ走査光学ユニット103は、マルチビームレーザ1と、コリメータレンズ2と、所定の速度で回転駆動されるポリゴンミラー3と、fθ機能を有する走査レンズ4と、SOSセンサ6とで構成されている。マルチビームレーザ1から放射されたビーム(発散光)は、コリメータレンズ2によって副走査方向Zにほぼ平行に集光され、ポリゴンミラー3に導かれる。このビームはポリゴンミラー3の回転に基づいて主走査方向Xに等角速度で偏向され、走査レンズ4を透過することで必要な収差を補正され、感光体ドラム102上で結像する。
ここで、SOSセンサ6による合焦調整について説明する。図5に示すように、受光素子PD1の前面にはナイフエッジ10が設置されており、ビームが通過すると、受光素子PD1からは、合焦時には図6(A)に示す信号波形が出力され、デフォーカス時には図7(A)に示す信号波形が出力される。
次に、画像形成装置の制御部の構成を図9を参照して説明する。この制御部は、概略、CPU30と駆動用クロック発生回路31と画像メモリ34とで構成されている。CPU30は、ポリゴンモータの制御を行い、SOSセンサ6に入射したビームが光電変換され、CPU30に入力される。CPU30はこの信号をデジタル化して主走査同期信号HSYNCを生成し、及びアナログ信号から前記微分値を導き出し、ビームのデフォーカス量を算出する。
次に、前記CPU30による制御手順を説明する。図10は制御のメインルーチンを示し、電源が投入されると、まず、CPU30に内蔵されているRAMやタイマを初期化し(ステップS1)、内部タイマをセットする(ステップS2)。その後、順次、プリント前調整(ステップS3)、画像メモリ処理(ステップS4)、プリント処理(ステップS5)、温度制御や紙詰まり検出などのその他の処理(ステップS6)を実行し、内部タイマの終了を待って(ステップ7でYES)ステップS2へ戻る。
以上説明した実施例においては、コリメータレンズ2を光軸上で移動させることで一のビームに対してそのビーム径の調整を行った後に、バイアス電流の調整、発光光量の調整及び感光体ドラム102上でのビーム集光点の相対位置の調整を行うようにしたため、ビーム相互間の関係が良好になり、単一のビーム径調整手段(コリメータレンズ2とステッピングモータ8)を備えるのみであっても高画質での描画が可能になる。なお、ビーム径の調整の後に行われるバイアス電流の調整、発光光量の調整及び集光点の相対位置の調整は、少なくともいずれか1項目の調整のみであってもよい。
なお、本発明に係るレーザ走査光学装置は前記実施例に限定するものではなく、その要旨の範囲内で種々に変更できる。
2…コリメータレンズ
8…ステッピングモータ
13…サーミスタ
17…ステッピングモータ
30…CPU
101…画像形成ステーション
102…感光体ドラム(被走査面)
103…レーザ走査光学ユニット
C1,C2…発光素子
Claims (6)
- 複数のレーザビーム発生源から放射されたそれぞれのビームを用いて被走査面上をライン状に走査するレーザ走査光学装置において、
一のビームに対してそのビーム径を調整する単一のビーム径調整手段と、
複数のレーザビーム発生源のそれぞれに対してバイアス電流を調整するバイアス電流調整手段と、を備え、
前記ビーム径調整手段にてビーム径の調整を行った後、前記バイアス電流調整手段にてそれぞれのレーザビーム発生源に対して個々にバイアス電流を調整すること、
を特徴とするレーザ走査光学装置。 - 複数のレーザビーム発生源から放射されたそれぞれのビームを用いて被走査面上をライン状に走査するレーザ走査光学装置において、
一のビームに対してそのビーム径を調整する単一のビーム径調整手段と、
複数のレーザビーム発生源のそれぞれに対して発光光量を調整する光量調整手段と、を備え、
前記ビーム径調整手段にてビーム径の調整を行った後、前記光量調整手段にてそれぞれのレーザビーム発生源に対して個々に発光光量を調整すること、
を特徴とするレーザ走査光学装置。 - 複数のレーザビーム発生源から放射されたそれぞれのビームを用いて被走査面上をライン状に走査するレーザ走査光学装置において、
一のビームに対してそのビーム径を調整する単一のビーム径調整手段と、
複数のビームのそれぞれに対して被走査面上での相対位置を調整する位置調整手段と、を備え、
前記ビーム径調整手段にてビーム径の調整を行った後、前記位置調整手段にてそれぞれのビームの相対位置を調整すること、
を特徴とするレーザ走査光学装置。 - 前記ビーム径調整手段は光軸上で移動可能に配置されたコリメータレンズであることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれかに記載のレーザ走査光学装置。
- 前回の調整処理時の温度と現在の温度との差に基づいて調整タイミングを決定することを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれかに記載のレーザ走査光学装置。
- 複数のレーザビーム発生源から放射されたそれぞれのビームを用いて被走査面上をライン状に走査するレーザ走査光学装置において、
一のビームに対してそのビーム径を調整する単一のビーム径調整手段と、
一のビームを用いて主走査同期信号を得る主走査同期信号発生手段と、を備え、
前記ビーム径調整手段にてビーム径の調整が行われる一のビームと、前記主走査同期信号発生手段で用いられる一のビームが同一ビームであること、
を特徴とするレーザ走査光学装置。
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