JP2008111777A - 顕微鏡用試料作成装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】試料の観察表面が変形したり、ダメージを受けたりせず、真空チャンバ内を排気する排気装置の負荷が増大しない顕微鏡用試料作成装置を提供することを課題とする。
【解決手段】真空チャンバ1内の試料5にイオンビームを照射するイオン銃(イオン照射手段)7と、真空チャンバ1内の試料5を観察可能な光学顕微鏡(観察手段)11と、イオン銃7が試料5にイオンを照射できる第1の状態,光学顕微鏡11が試料5を観察できる第2の状態を切り替える切り替え手段とを設ける。
【選択図】図1

Description

本発明は、真空チャンバ内の試料に広範囲にイオンビームを照射することにより、前記試料の加工を行う顕微鏡用試料作成装置に関する。
走査電子顕微鏡(SEM)や透過電子顕微鏡(TEM)で観察される試料を作製する装置として、下記特許文献1に記載されているような顕微鏡用試料作製装置が知られている。
このような顕微鏡用試料作製装置は、試料にイオンビームを照射して、研磨・ミーリングを行い、試料をSEMまたはTEM観察に適した形状に加工するイオン照射手段と、加工された試料を観察する観察手段とを有している。
又、下記特許文献2には、同一真空チャンバ内に設けた電子線照射機構と光学観察機構とに対して試料を移動させる機構が記載されている。
特開2005−037164号公報 特開2001−133417号公報
上述した特許文献1の顕微鏡用試料作成装置では、イオン照射は真空チャンバ内で行われるが、加工された試料の観察は真空チャンバ外でなされている。試料を観察するために、真空中で研磨やミーリングがなされた試料を大気中に戻すと、大気中の酸素により試料が酸化反応を生じ、試料の観察表面が変形したり、ダメージを受けたりする問題点がある。又、真空チャンバへの試料の出し入れ回数が多くなり、真空チャンバ内を排気する排気装置の負荷が増大する問題点もある。
又、特許文献2の顕微鏡用試料作成装置での試料を電子線照射機構と光学観察機構とに対して移動させる機構は、真空チャンバ内で、試料を移動させるので、機構が大型化し、重量も重く、コストも高くなる問題点がある。
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたもので、その課題は、試料の観察表面が変形したりダメージを受けたりしない顕微鏡用試料作成装置を提供することにある。
又、本発明の別の課題は、真空チャンバ内を排気する排気装置の負荷が増大しない顕微鏡用試料作成装置を提供することにある。
更に、本発明の別の課題は、小型、軽量、低コストの顕微鏡用試料作成装置を提供することにある。
上記課題を解決する請求項1に係る発明は、試料に対してイオンビームを照射して前記試料を加工するイオン照射手段と、加工された前記試料を観察する観察手段とを有する試料作成装置において、前記真空チャンバ内の試料にイオンビームを照射する前記イオン照射手段と、前記真空チャンバ内の試料を観察可能な前記観察手段と、前記イオン照射手段、前記観察手段を移動させて、前記イオン照射手段が前記試料にイオンを照射できる第1の状態,前記観察手段が前記試料を観察できる第2の状態を切り替える切り替え手段と、を設けたことを特徴とする顕微鏡用試料作成装置である。
切り替え手段を切り替えて第1の状態とすると、前記イオン照射手段を用いて、真空チャンバ内の前記試料にイオンを照射できる。
切り替え手段を切り替えて第2の状態とすると、前記観察手段を用いて、真空チャンバ内の前記試料を観察できる。
請求項2に係る発明は、前記切り替え手段は、前記試料と対向する前記真空チャンバの壁部に上に設けられた穴と、該穴に回転可能に設けられ、回転中心軸が通る箇所以外の箇所が前記試料と対向する円板であって、前記回転中心軸が通る箇所を中心とし、前記試料と対向する箇所を通る前記円板の円周上に、照射方向が前記回転中心軸と平行である前記イオン照射手段と、観察方向が前記回転中心軸と平行な前記観察手段とが設けられた円板であることを特徴とする請求項1記載の顕微鏡用試料作成装置である。
請求項3に係る発明は、前記切り替え手段は、前記試料と対向する前記真空チャンバの壁部上に設けられた穴と、該穴を塞ぎながら、前記穴上を直線移動可能に設けられた板であって、該板の前記試料上を通る軌跡上に前記イオン照射手段と、前記観察手段とが設けられた板であることを特徴とする請求項1記載の顕微鏡用試料作成装置である。
請求項4に係る発明は、試料に対してイオンビームを照射して前記試料を加工するイオン照射手段と、加工された前記試料を観察する観察手段とを有する試料作成装置において、前記真空チャンバ内の試料にイオンビームを照射する前記イオン照射手段と、前記真空チャンバ内の試料を観察可能な前記観察手段と、前記試料と対向する前記真空チャンバの壁部に上に設けられた穴と、該穴に回転可能に設けられ、回転中心軸が前記試料を通る円板であって、前記回転中心軸上に前記イオン照射手段が設けられ、回転中心軸が通る箇所以外の箇所に、観察方向が前記試料方向である前記観察手段が設けられた円板と、を設けたことを特徴とする顕微鏡用試料作成装置である。
請求項5に抱える発明は、前記観察手段は、光学顕微鏡像、二次電子像、反射電子像、二次イオン像及び透過X線像のうちの少なくとも一つを観察する手段であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の顕微鏡用試料作成装置である。
請求項1−5に係る発明によれば、前記真空チャンバ内の試料にイオンビームを照射する前記イオン照射手段と、前記真空チャンバ内の試料を観察可能な前記観察手段とを有することで、試料を大気中に戻すことがなくなり、試料の観察表面が変形したり、ダメージを受けたりしない。
又、真空チャンバへの試料の出し入れがなくなるので、真空チャンバ内を排気する排気装置の負荷が増大しない。
請求項1−3に係る発明によれば、前記真空チャンバ内の試料にイオンビームを照射する前記イオン照射手段と、前記真空チャンバ内の試料を観察可能な前記観察手段と、前記イオン照射手段、前記観察手段を移動させて、前記イオン照射手段が前記試料にイオンを照射できる第1の状態,前記観察手段が前記試料を観察できる第2の状態を切り替える切り替え手段とを設けたことにより、試料をイオン照射手段と観察手段とに対して移動させる機構より、機構が小型、軽量、低コストである。
請求項2に係る発明によれば、切り替え手段は、イオン照射手段と観察手段が設けられた円板であることにより、切り替え手段が小型となる。
請求項3に係る発明によれば、前記切り替え手段は、前記試料と対向する前記真空チャンバの壁部上に設けられた穴と、該穴を塞ぎながら、前記穴上を直線移動可能に設けられた板であって、該板の前記試料上を通る軌跡上に前記イオン照射手段と、前記観察手段とが設けられた板であることにより、構成が簡単である。
請求項4に係る発明によれば、イオン照射手段と観察手段とは円板に設けられているので、小型となる。又、回転中心軸が前記試料を通る円板であって、前記回転中心軸上に前記イオン照射手段が設けられ、回転中心軸が通る箇所以外の箇所に、観察方向が前記試料方向である前記観察手段が設けられたことにより、イオン照射手段で試料の作成を行いながら、観察手段で試料を観察できる。又、円板を回転させ、試料を5°〜10°異なる二つの方位に設定して写真を撮り、二枚の写真を左右の目で独立に観察して立体感を得る、いわゆるステレオ観察が可能となる。
(第1の形態例)
図1、図2を用いて説明する。図1は第1の形態例を説明する断面構成図、図2は図1のD方向矢視図である。これらの図において、真空チャンバ1内には、試料5が載置される試料ステージ3が設けられている。真空チャンバ1の上部には、真空チャンバ1内の試料5にイオンビーム(IB)を照射して、試料5を加工するイオン銃(イオン照射手段)7と、真空チャンバ1内の試料5を観察する光学顕微鏡(観察手段)11とが配置されている。
真空チャンバ1には、真空チャンバ1内を排気する排気装置12が設けられている。
本形態例では、イオン銃7としてガスイオン銃が用いられており、たとえばArガスを放電によりイオン化させてArイオンを放出させるガスイオン銃が用いられている。又、試料ステージ3の試料が載置される部分はx軸方向、y軸方向に移動可能に構成されている。
本形態例では、イオン照射手段としてのイオン銃7が試料5にイオンを照射できる第1の状態と、観察手段としての光学顕微鏡11が試料5を観察できる第2の状態(図1に示す状態)とを切り替える切り替え手段が設けられている。
本形態例の切り替え手段は、試料5と対向する真空チャンバ1の壁部1aに設けられた穴1bと、穴1bを塞ぎ、穴1bに回転可能に設けられた円板21とからなっている。
円板21の回転中心軸Bが通る箇所以外の箇所が、試料5と対向するようになっている。そして、円板21には、回転中心軸Bが通る箇所を中心とし、試料5と対向する箇所を通る円板21の円周C上に、照射方向Oiが回転中心軸B(z軸)と平行であるイオン銃7と、観察方向(光軸OL)が回転中心軸Bと平行な光学顕微鏡11とが設けられている。
次に、上記構成の作動を説明する。図1に示す状態は、光学顕微鏡11の光軸OLが試料5上を通り、光学顕微鏡11で試料5を観察できる第2の状態を示している。この状態から。円板21を180°回転させると、イオン銃7の照射方向Oiが試料5となり、イオン銃7のイオンビームIBで試料5を加工できる第1の状態となる。
このような構成によれば、以下のような効果を得ることができる。
(1)真空チャンバ1内で、試料5に対してイオンビームを照射して試料5を加工するイオン銃(イオン照射手段)7と、真空チャンバ1内で、加工された試料5を観察する光学顕微鏡(観察手段)11とを設けたことにより、試料5を大気中に戻すことがなくなり、試料5の観察表面が変形したり、ダメージを受けたりしない。
(2)真空チャンバ1内で、試料5に対してイオンビームを照射して試料5を加工するイオン銃(イオン照射手段)7と、真空チャンバ1内で、加工された試料5を観察する光学顕微鏡(観察手段)11と、イオン銃7、光学顕微鏡11とを移動させて、イオン銃7が試料5にイオンを照射できる第1の状態,光学顕微鏡11が試料5を観察できる第2の状態を切り替える切り替え手段(試料5と対向する真空チャンバ1の壁部1aに設けられた穴1bと、穴1bを塞ぎ、穴1bに回転可能に設けられた円板21)とを設けたことにより、試料5をイオン照射手段と観察手段とに対して移動させる機構より、機構が小型、軽量、低コストである。
(3)真空チャンバ1への試料5の出し入れがなくなるので、真空チャンバ1内を排気する排気装置12の負荷が増大しない。
(4)切り替え手段は、イオン銃7と光学顕微鏡11とが設けられた円板21であることにより、切り替え手段が小型となる。
(第2の形態例)
図3を用いて説明する。図3は第2の形態例を説明する断面構成図である。
図において、真空チャンバ31内には、試料35が載置される試料ステージ33が設けられている。真空チャンバ31の上部には、真空チャンバ31内の試料35にイオンビーム(IB)を照射して、試料35を加工するイオン銃(イオン照射手段)37と、真空チャンバ31内の試料35を観察する光学顕微鏡(観察手段)41とが配置されている。
真空チャンバ31には、真空チャンバ31内を排気する排気装置42が設けられている。
本形態例では、イオン銃37としてガスイオン銃が用いられており、たとえばArガスを放電によりイオン化させてArイオンを放出させるガスイオン銃が用いられている。又、試料ステージ33の試料が載置される部分はx軸方向、y軸方向に移動可能に構成されている。
本形態例では、イオン照射手段としてのイオン銃37が試料35にイオンを照射できる第1の状態と、観察手段としての光学顕微鏡41が試料35を観察できる第2の状態(図1に示す状態)とを切り替える切り替え手段が設けられている。
本形態例の切り替え手段は、試料35と対向する真空チャンバ31の壁部31aに設けられた穴31bと、穴31bを塞ぎながら、穴31b上を図において矢印E方向に直線移動可能に設けられた板45とからなっている。板45の試料35上を通る軌跡上にイオン銃37と、光学顕微鏡41とが設けられている。
次に、上記構成の作動を説明する。図3に示す状態は、光学顕微鏡41の光軸OLが試料35上を通り、光学顕微鏡41で試料35を観察できる第2の状態を示している。この状態から。板45を図において右方向に移動させると、イオン銃37の照射方向Oi上に試料35が移動し、イオン銃37のイオンビームIBで試料35を加工できる第1の状態となる。
このような構成によれば、以下のような効果を得ることができる。
(1)真空チャンバ31内で、試料35に対してイオンビームを照射して試料35を加工するイオン銃(イオン照射手段)37と、真空チャンバ31内で、加工された試料35を観察する光学顕微鏡(観察手段)41とを設けたことにより、試料35を大気中に戻すことがなくなり、試料35の観察表面が変形したりダメージを受けたりしない。
(2)真空チャンバ31内で、試料35に対してイオンビームを照射して試料35を加工するイオン銃(イオン照射手段)37と、真空チャンバ31内で、加工された試料35を観察する光学顕微鏡(観察手段)41と、イオン銃37、光学顕微鏡41とを移動させて、イオン銃37が試料35にイオンを照射できる第1の状態,光学顕微鏡41が試料35を観察できる第2の状態を切り替える切り替え手段(試料35と対向する真空チャンバ31の壁部31aに設けられた穴31bと、穴31bを塞ぎながら、穴31b上を図において矢印E方向に直線移動可能に設けられた板45)とを設けたことにより、試料35をイオン照射手段と観察手段とに対して移動させる機構より、機構が小型、軽量、低コストである。
(3)真空チャンバ31への試料35の出し入れがなくなるので、真空チャンバ31内を排気する排気装置42の負荷が増大しない。
(4)切り替え手段は、試料35と対向する真空チャンバ31の壁部31a上に設けられた穴31bと、穴31bを塞ぎながら、穴31b上を直線移動可能に設けられた板45であって、板45の試料35上を通る軌跡上にイオン銃37と、光学顕微鏡41とが設けられた板45であることにより、構成が簡単である。
(第3の形態例)
図4を用いて、説明する。図4は第3の形態例を説明する断面構成図である。
図において、真空チャンバ51内には、試料55が載置される試料ステージ53が設けられている。真空チャンバ51の上部には、真空チャンバ51内の試料55にイオンビーム(IB)を照射して、試料55を加工するイオン銃(イオン照射手段)57と、真空チャンバ51内の試料55を観察するCCDカメラ(観察手段)61とが配置されている。
真空チャンバ51には、真空チャンバ51内を排気する排気装置62が設けられている。
本形態例では、イオン銃75としてガスイオン銃が用いられており、たとえばArガスを放電によりイオン化させてArイオンを放出させるガスイオン銃が用いられている。又、試料ステージ53の試料が載置される部分はx軸方向、y軸方向に移動可能に構成されている。
本形態例では、試料55と対向する真空チャンバ51の壁部51aに穴51bが設けられている。穴51bを塞ぎ、穴51bに回転可能に円板71が設けられている。この円板71の回転中心軸は試料55を通るように、穴51bは形成されている。
円板71の回転中心軸G上には、イオン銃(イオン照射手段)57が設けられ、回転中心軸Gが通る箇所以外の箇所に、観察方向(光軸OL)が試料55方向であるCCDカメラ61が設けられている。
このような構成によれば、以下のような効果を得ることができる。
(1)真空チャンバ51内で、試料55に対してイオンビームを照射して試料55を加工するイオン銃(イオン照射手段)57と、真空チャンバ51内で、加工された試料55を観察するCCDカメラ(観察手段)61とを設けたことにより、試料55を大気中に戻すことがなくなり、試料55の観察表面が変形したりダメージを受けたりしない。
(2)真空チャンバ51への試料55の出し入れがなくなるので、真空チャンバ51内を排気する排気装置62の負荷が増大しない。
(3)イオン銃57と、CCDカメラ61とは、円板71上に設けられているので、小型となる。
(4)回転中心軸Gが試料55を通る円板71であって、回転中心軸G上にイオン銃57が設けられ、回転中心軸Gが通る箇所以外の箇所に、観察方向が試料55方向であるCCDカメラ61が設けられたことにより、イオン銃57で試料55の作成を行いながら、CCDカメラ61で試料を観察できる。
(5)円板71を回転させ、試料を5°〜10°異なる二つの方位に設定してCCDカメラ61で二枚の写真を撮り、この二枚の写真を左右の目で独立に観察して立体感を得る、いわゆるステレオ観察が可能となる。
尚、本発明は、上記第1−3の形態例に限定するものではない。例えば、上記第1−3の形態例では、観察手段として、光学顕微鏡像を観察する手段で説明を行ったが、他に、二次電子像、反射電子像、二次イオン像、透過X線像を観察する手段であってもよい。
第1の形態例を説明する断面構成図である。 図1のD方向矢視図である。 第2の形態例を説明する断面構成図である。 第3の形態例を説明する断面構成図である。
符号の説明
1 真空チャンバ
5 試料
7 イオン銃(イオン照射手段)
11 光学顕微鏡(観察手段)

Claims (5)

  1. 試料に対してイオンビームを照射して前記試料を加工するイオン照射手段と、加工された前記試料を観察する観察手段とを有する試料作成装置において、
    前記真空チャンバ内の試料にイオンビームを照射する前記イオン照射手段と、
    前記真空チャンバ内の試料を観察可能な前記観察手段と、
    前記イオン照射手段、前記観察手段を移動させて、前記イオン照射手段が前記試料にイオンを照射できる第1の状態,前記観察手段が前記試料を観察できる第2の状態を切り替える切り替え手段と、
    を設けたことを特徴とする顕微鏡用試料作成装置。
  2. 前記切り替え手段は、
    前記試料と対向する前記真空チャンバの壁部に設けられた穴と、
    該穴に回転可能に設けられ、回転中心軸が通る箇所以外の箇所が前記試料と対向する円板であって、前記回転中心軸が通る箇所を中心とし、前記試料と対向する箇所を通る前記円板の円周上に、照射方向が前記回転中心軸と平行である前記イオン照射手段と、観察方向が前記回転中心軸と平行な前記観察手段とが設けられた円板であることを特徴とする請求項1記載の顕微鏡用試料作成装置。
  3. 前記切り替え手段は、
    前記試料と対向する前記真空チャンバの壁部上に設けられた穴と、
    該穴を塞ぎながら、前記穴上を直線移動可能に設けられた板であって、該板の前記試料上を通る軌跡上に前記イオン照射手段と、前記観察手段とが設けられた板であることを特徴とする請求項1記載の顕微鏡用試料作成装置。
  4. 試料に対してイオンビームを照射して前記試料を加工するイオン照射手段と、加工された前記試料を観察する観察手段とを有する試料作成装置において、
    前記真空チャンバ内の試料にイオンビームを照射する前記イオン照射手段と、
    前記真空チャンバ内の試料を観察可能な前記観察手段と、
    前記試料と対向する前記真空チャンバの壁部に上に設けられた穴と、
    該穴に回転可能に設けられ、回転中心軸が前記試料を通る円板であって、前記回転中心軸上に前記イオン照射手段が設けられ、回転中心軸が通る箇所以外の箇所に、観察方向が前記試料方向である前記観察手段が設けられた円板と、
    を設けたことを特徴とする顕微鏡用試料作成装置。
  5. 前記観察手段は、光学顕微鏡像、二次電子像、反射電子像、二次イオン像及び透過X線像のうちの少なくとも一つを観察する手段であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の顕微鏡用試料作成装置。
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