JP5952046B2 - 複合荷電粒子ビーム装置 - Google Patents
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Description
本発明に係る復号荷電粒子ビーム装置は、試料室と、試料を保持する試料台と、前記試料に電子ビームを照射するための電子ビーム鏡筒と、前記試料にイオンビームを照射し、エッチング加工するためのイオンビーム鏡筒と、前記試料から発生する荷電粒子を検出する検出器と、前記検出器からの検出信号から荷電粒子像を形成する像形成部と、前記試料台を前記電子ビームの照射軸方向に移動させる試料台駆動部と、前記試料の前記電子ビームが照射される位置に前記イオンビームを照射できるように前記イオンビーム鏡筒を前記試料室に対し相対的に移動させる鏡筒調整部と、を有し、前記イオンビーム鏡筒の照射軸は、前記電子ビーム鏡筒の照射軸と前記試料上で直交し、前記鏡筒調整部は、前記電子ビームの照射方向と平行な方向に前記イオンビーム鏡筒を移動させる。
複合荷電粒子ビーム装置は、図1に示すように、電子ビーム鏡筒1と、イオンビーム鏡筒2と、試料室3を備えている。試料室3内に収容された試料7に電子ビーム鏡筒1から電子ビーム8を、イオンビーム鏡筒2からイオンビーム9を照射する。電子ビーム鏡筒1とイオンビーム鏡筒2とは、それぞれの照射軸が試料7上で互いに直交するように配置されている。
2…イオンビーム鏡筒
2a…接触部
3…試料室
3a…壁面
4…二次電子検出器
5…透過電子検出器
6…試料台
7…試料
8…電子ビーム
9…イオンビーム
10…入力部
11…制御部
12…電子ビーム制御部
13…イオンビーム制御部
14…像形成部
15…試料台駆動部
16…試料台制御部
17…表示部
18…WD調整部
21…照射軸
22a、22b…照射軸
D1、D2、D3…距離
Claims (3)
- 試料室と、
試料を保持する試料台と、
前記試料に電子ビームを照射するための電子ビーム鏡筒と、
前記試料にイオンビームを照射し、エッチング加工するためのイオンビーム鏡筒と、
前記試料から発生する荷電粒子を検出する検出器と、
前記検出器からの検出信号から荷電粒子像を形成する像形成部と、
前記試料台を前記電子ビームの照射軸方向に移動させる試料台駆動部と、
前記試料の前記電子ビームが照射される位置に前記イオンビームを照射できるように前記イオンビーム鏡筒を前記試料室に対し相対的に移動させる鏡筒調整部と、を有し、
前記イオンビーム鏡筒の照射軸は、前記電子ビーム鏡筒の照射軸と前記試料上で直交し、
前記鏡筒調整部は、前記電子ビームの照射方向と平行な方向に前記イオンビーム鏡筒を移動させる複合荷電粒子ビーム装置。 - 前記試料室は、前記イオンビーム鏡筒の径よりも大きな径のポートを有し、
前記鏡筒調整部は、前記ポートの径の範囲内で前記イオンビーム鏡筒を移動させる請求
項1に記載の複合荷電粒子ビーム装置。 - 前記鏡筒調整部により前記イオンビーム鏡筒を移動させ、かつ、
前記試料台を、前記イオンビーム鏡筒の移動量と同じ量を移動させる制御部を有する請求項1または2に記載の複合荷電粒子ビーム装置。
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