JP2008109573A - 薄膜圧電共振器 - Google Patents
薄膜圧電共振器 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008109573A JP2008109573A JP2006292622A JP2006292622A JP2008109573A JP 2008109573 A JP2008109573 A JP 2008109573A JP 2006292622 A JP2006292622 A JP 2006292622A JP 2006292622 A JP2006292622 A JP 2006292622A JP 2008109573 A JP2008109573 A JP 2008109573A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- piezoelectric
- thin film
- layer
- region
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
Abstract
【解決手段】圧電層2と上部電極12及び下部電極10とを有する圧電共振スタック14と、その下に形成された空隙4と、圧電共振スタックを支持する基板8とを含んでなる薄膜圧電共振器。圧電共振スタック14は、上部電極12と下部電極10とが圧電層2を介して互いに対向し且つ空隙4に対応して位置する振動領域20と、基板8に接する支持領域24と、振動領域20及び支持領域24の間に位置する緩衝領域22とからなる。緩衝領域22における圧電層2の厚みtと振動領域20における圧電層2の厚みTとがT/8≦t≦T/2の関係を満たし、基板8に平行な方向に存在する定在波の波長λとこの定在波の方向に関する緩衝領域20の寸法xとがλ/200≦x≦λ/20の関係を満たす。
【選択図】図2
Description
圧電層と該圧電層を挟んで対向するように形成された上部電極及び下部電極とを有する圧電共振スタックと、該圧電共振スタックの下に形成された空隙または音響反射層と、前記圧電共振スタックを支持する基板とを含んでなる薄膜圧電共振器であって、
前記圧電共振スタックは、前記上部電極と下部電極とが前記圧電層を介して互いに対向し且つ前記空隙または音響反射層に対応して位置する振動領域と、前記基板に接する支持領域と、前記振動領域及び支持領域の間に位置する緩衝領域とからなり、
前記緩衝領域における前記圧電層の厚みtと前記振動領域における前記圧電層の厚みTとがT/8≦t≦T/2の関係を満たし、前記基板に平行な方向に存在する定在波の波長λと該定在波の方向に関する前記緩衝領域の寸法xとがλ/200≦x≦λ/20の関係を満たすことを特徴とする薄膜圧電共振器、
が提供される。
振動領域20の平面内形状が長径210μmで短径122μmの楕円である図2〜図4の形態の薄膜圧電共振器を作製した。下部電極10はMoからなり厚みが300nmであり、圧電層2はAlNからなり振動領域20における厚みTが1200nmで且つ緩衝領域22での厚みtが200nm(実施例1:t=T/6)であり、上部電極12はMo層とAl層との積層膜からなり厚みが300nm(各層150nm)であった。また、緩衝領域22の幅xは、x=λ/40=8.0μmとした。ここで、振動領域20の平面内形状が楕円であるため、平面内方向での定在波の波長λは、λ=2(a×b)1/2=320μmとしている。
緩衝領域22の幅xを変えた(実施例4:x=λ/53.3=6.0μm、実施例5:x=λ/80=4.0μm、実施例6:x=λ/26.7=12.0μm、実施例7:x=λ/160=2.0μm、実施例8:x=λ/20=16.0μm、比較例4:x=0μm、比較例5:x=λ/16=20.0μm)ことを除いて、実施例1と同様にして薄膜圧電共振器を作製した。
4 振動空間
6 絶縁層
7 開口
8 半導体基板
9 凹部
9’ 貫通開口
10 下部電極
10A 下部電極主体部
10B 下部電極接続端子部
12 上部電極
12A 上部電極主体部
12B 上部電極接続端子部
14 圧電共振スタック
16 接続導体
18 貫通小孔
20 振動領域
22 緩衝領域
24 支持領域
26 下部誘電体層
28 上部誘電体層
30 音響反射層
Claims (4)
- 圧電層と該圧電層を挟んで対向するように形成された上部電極及び下部電極とを有する圧電共振スタックと、該圧電共振スタックの下に形成された空隙または音響反射層と、前記圧電共振スタックを支持する基板とを含んでなる薄膜圧電共振器であって、
前記圧電共振スタックは、前記上部電極と下部電極とが前記圧電層を介して互いに対向し且つ前記空隙または音響反射層に対応して位置する振動領域と、前記基板に接する支持領域と、前記振動領域及び支持領域の間に位置する緩衝領域とからなり、
前記緩衝領域における前記圧電層の厚みtと前記振動領域における前記圧電層の厚みTとがT/8≦t≦T/2の関係を満たし、前記基板に平行な方向に存在する定在波の波長λと該定在波の方向に関する前記緩衝領域の寸法xとがλ/200≦x≦λ/20の関係を満たすことを特徴とする薄膜圧電共振器。 - 前記緩衝領域の寸法xが0.5μm以上40μm以下の範囲内にあることを特徴とする、請求項1に記載の薄膜圧電共振器。
- 前記圧電層がAlNを主成分とする材料で構成されていることを特徴とする、請求項1〜2のいずれかに記載の薄膜圧電共振器。
- 前記基板に平行な平面内における前記振動領域の形状が楕円であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の薄膜圧電共振器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006292622A JP4895323B2 (ja) | 2006-10-27 | 2006-10-27 | 薄膜圧電共振器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006292622A JP4895323B2 (ja) | 2006-10-27 | 2006-10-27 | 薄膜圧電共振器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008109573A true JP2008109573A (ja) | 2008-05-08 |
JP4895323B2 JP4895323B2 (ja) | 2012-03-14 |
Family
ID=39442537
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006292622A Expired - Fee Related JP4895323B2 (ja) | 2006-10-27 | 2006-10-27 | 薄膜圧電共振器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4895323B2 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010141570A (ja) * | 2008-12-11 | 2010-06-24 | Ube Ind Ltd | 圧電薄膜音響共振器およびその製造方法 |
JP2013179404A (ja) * | 2012-02-28 | 2013-09-09 | Seiko Epson Corp | 超音波アレイセンサーおよび超音波アレイセンサーの製造方法 |
JP2017536049A (ja) * | 2014-11-25 | 2017-11-30 | スナップトラック・インコーポレーテッド | 自己発熱が低減されたbaw共振器、共振器を備える高周波フィルタ、高周波フィルタを備えるデュプレクサ、及びその製造方法 |
CN110114971A (zh) * | 2019-03-28 | 2019-08-09 | 深圳市汇顶科技股份有限公司 | 晶体振荡器及其制作方法和设备 |
GB2578958A (en) * | 2018-09-14 | 2020-06-03 | Skyworks Solutions Inc | Positions of release ports for sacrificial layer etching |
WO2021120590A1 (zh) * | 2019-12-16 | 2021-06-24 | 中芯集成电路(宁波)有限公司 | 一种薄膜压电声波谐振器及其制造方法及滤波器 |
CN116760386A (zh) * | 2023-05-30 | 2023-09-15 | 无锡市好达电子股份有限公司 | 弹性波器件 |
JP7492821B2 (ja) | 2018-12-14 | 2024-05-30 | コーボ ユーエス,インコーポレイティド | 圧電デバイス内のバイポーラ境界領域 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1022771A (ja) * | 1996-06-28 | 1998-01-23 | Toyo Commun Equip Co Ltd | 超薄板圧電振動子 |
JP2002076823A (ja) * | 2000-08-31 | 2002-03-15 | Murata Mfg Co Ltd | 圧電共振子および圧電フィルタ |
JP2005159402A (ja) * | 2003-11-20 | 2005-06-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 音響共振器 |
-
2006
- 2006-10-27 JP JP2006292622A patent/JP4895323B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1022771A (ja) * | 1996-06-28 | 1998-01-23 | Toyo Commun Equip Co Ltd | 超薄板圧電振動子 |
JP2002076823A (ja) * | 2000-08-31 | 2002-03-15 | Murata Mfg Co Ltd | 圧電共振子および圧電フィルタ |
JP2005159402A (ja) * | 2003-11-20 | 2005-06-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 音響共振器 |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010141570A (ja) * | 2008-12-11 | 2010-06-24 | Ube Ind Ltd | 圧電薄膜音響共振器およびその製造方法 |
JP2013179404A (ja) * | 2012-02-28 | 2013-09-09 | Seiko Epson Corp | 超音波アレイセンサーおよび超音波アレイセンサーの製造方法 |
JP2017536049A (ja) * | 2014-11-25 | 2017-11-30 | スナップトラック・インコーポレーテッド | 自己発熱が低減されたbaw共振器、共振器を備える高周波フィルタ、高周波フィルタを備えるデュプレクサ、及びその製造方法 |
GB2578958A (en) * | 2018-09-14 | 2020-06-03 | Skyworks Solutions Inc | Positions of release ports for sacrificial layer etching |
JP7492821B2 (ja) | 2018-12-14 | 2024-05-30 | コーボ ユーエス,インコーポレイティド | 圧電デバイス内のバイポーラ境界領域 |
CN110114971A (zh) * | 2019-03-28 | 2019-08-09 | 深圳市汇顶科技股份有限公司 | 晶体振荡器及其制作方法和设备 |
WO2021120590A1 (zh) * | 2019-12-16 | 2021-06-24 | 中芯集成电路(宁波)有限公司 | 一种薄膜压电声波谐振器及其制造方法及滤波器 |
CN116760386A (zh) * | 2023-05-30 | 2023-09-15 | 无锡市好达电子股份有限公司 | 弹性波器件 |
CN116760386B (zh) * | 2023-05-30 | 2024-02-13 | 无锡市好达电子股份有限公司 | 弹性波器件 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4895323B2 (ja) | 2012-03-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5246454B2 (ja) | 薄膜圧電共振器およびそれを用いた薄膜圧電フィルタ | |
US7737806B2 (en) | Piezoelectric thin-film resonator and filter | |
JP4024741B2 (ja) | 圧電薄膜共振子及びフィルタ | |
JP4895323B2 (ja) | 薄膜圧電共振器 | |
US7884527B2 (en) | Piezoelectric thin-film resonator and filter using the same | |
JP5689080B2 (ja) | 圧電薄膜共振子、通信モジュール、通信装置 | |
JP4924993B2 (ja) | 薄膜圧電共振器とその製造方法 | |
JP4802900B2 (ja) | 薄膜圧電共振器およびその製造方法 | |
JP4775445B2 (ja) | 薄膜圧電共振器および薄膜圧電フィルタ | |
WO2007119556A1 (ja) | 圧電共振子及び圧電フィルタ | |
JP2008109414A (ja) | 圧電薄膜共振器およびフィルタ | |
JP2006311181A (ja) | 圧電薄膜共振器およびフィルタ | |
JP2007006501A (ja) | 交互配列の縁部構造を利用した音響共振器の性能向上 | |
JP2006270506A (ja) | 圧電共振素子およびその製造方法 | |
JP2008172494A (ja) | 圧電薄膜共振器、弾性波デバイスおよび弾性波デバイスの製造方法。 | |
JP2006319479A (ja) | 圧電薄膜共振子およびフィルタ | |
JP2008182543A (ja) | 薄膜圧電共振器とそれを用いた薄膜圧電フィルタ | |
JP2016096466A (ja) | 圧電薄膜共振器、フィルタおよびデュプレクサ | |
JP2007208728A (ja) | 圧電薄膜共振器、フィルタおよびその製造方法 | |
JP2011160232A (ja) | 薄膜圧電共振器およびそれを用いた薄膜圧電フィルタ | |
JP5040172B2 (ja) | 薄膜圧電共振器と薄膜圧電フィルタ | |
JP2015165659A (ja) | アルミニウムスカンジウム窒化物および温度補償要素を含む音響共振器 | |
JP2020099050A (ja) | 圧電デバイス内のバイポーラ境界領域 | |
JP5128077B2 (ja) | 薄膜圧電共振器とそれを用いた薄膜圧電フィルタ | |
JP2008172638A (ja) | 薄膜圧電共振器 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090730 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100510 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20110120 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20110120 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111205 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111218 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150106 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |