JP2008100983A - シクロアルカノール及び/又はシクロアルカノンの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】シクロアルカンを良好な転化率で酸化して、シクロアルカノール及び/又はシクロアルカノンを良好な選択率で製造しうる方法を提供すること。
【解決手段】周期表8族及び/又は9族の元素を含有し、リン原子の含有量がケイ素原子に対し0〜4モル%であるメソポーラスシリカの存在下、25〜140℃で、シクロアルカンを酸素で酸化することによりシクロアルカノール及び/又はシクロアルカノンを製造する。前記元素としてはコバルトが好ましく、前記メソポーラスシリカとしてはMCM−41型が好ましい。
【選択図】図1
【解決手段】周期表8族及び/又は9族の元素を含有し、リン原子の含有量がケイ素原子に対し0〜4モル%であるメソポーラスシリカの存在下、25〜140℃で、シクロアルカンを酸素で酸化することによりシクロアルカノール及び/又はシクロアルカノンを製造する。前記元素としてはコバルトが好ましく、前記メソポーラスシリカとしてはMCM−41型が好ましい。
【選択図】図1
Description
本発明は、シクロアルカンを酸素で酸化して、シクロアルカノール及び/又はシクロアルカノンを製造する方法に関する。
シクロアルカンを酸素で酸化してシクロアルカノール及び/又はシクロアルカノンを製造する方法において、ある種の金属元素を含有するメソポーラスシリカを触媒として用い、不均一系で上記酸化を行う方法が検討されている。例えば、非特許文献1には、金を含有するメソポーラスシリカを触媒として用い、140〜160℃で酸化する方法が、特許文献1には、メソポーラスな混合酸化物触媒、具体的にはクロムやバナジウムを含有する該混合酸化物触媒の存在下、200〜350℃で酸化する方法が記載されている。
また、非特許文献2には、リン原子がケイ素原子に対し約7モル%含まれているメソポーラスシリカにコバルトを含有させ、該メソポーラスシリカを触媒として用いる方法が記載されている。
しかしながら、非特許文献1及び特許文献1に記載の方法では、触媒の活性や選択性、すなわちシクロアルカンの転化率やシクロアルカノール及び/又はシクロアルカノンの選択率の点で、必ずしも満足できるものではなかった。
また、非特許文献2に記載された触媒は、シクロヘキサンを酸化するための触媒ではあるが、アジピン酸を製造することを目的として上記組成に調製された触媒であり、シクロアルカノール及び/又はシクロアルカノンを良好な選択性で製造するための触媒としては、満足のいくものではなかった。
そこで、本発明の目的は、シクロアルカンを良好な転化率で酸化し、シクロアルカノール及び/又はシクロアルカノンを良好な選択率で製造しうる方法を提供することにある。
本発明者は鋭意研究を行った結果、特定の金属元素を含有し、リン原子が含まれないか、含まれても所定量以下であるメソポーラスシリカの存在下、所定温度でシクロアルカンの酸素酸化を行うことにより、上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、周期表8族及び/又は9族の元素を含有し、リン原子の含有量がケイ素原子に対し0〜4モル%であるメソポーラスシリカの存在下、25〜140℃で、シクロアルカンを酸素で酸化することを特徴とするシクロアルカノール及び/又はシクロアルカノンの製造方法を提供するものである。
本発明によれば、シクロアルカンを良好な転化率で酸化し、シクロアルカノール及び/又はシクロアルカノンを良好な選択率で製造することができる。
以下、本発明を詳細に説明する。本発明ではシクロアルカンを原料に用い、これを所定のメソポーラスシリカの存在下に酸素(分子状酸素)で酸化して、対応するシクロアルカノール及び/又はシクロアルカノンを製造する。
原料のシクロアルカンとしては、例えば、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロデカン、シクロドデカン、シクロオクタデカンのような単環式で環上に置換基を有しないシクロアルカンの他、デカリンやアダマンタンのような多環式のシクロアルカン、メチルシクロペンタンやメチルシクロヘキサンのような環上に置換基を有するシクロアルカン等が挙げられ、必要に応じてそれらの2種以上を用いることもできる。本発明においては、中でも、シクロヘキサンを用いることが好ましい。
かかるシクロアルカンとしては、ガス状ものや、液状のものを用いることができ、好ましくは液状のものを用いることができる。液状のシクロアルカンを採用した場合、ガス状の場合と比べ、高濃度で反応を行うことができるため、生産性の面で有利である。
酸素源には通常、酸素含有ガスが用いられる。この酸素含有ガスは、例えば、空気であってもよいし、純酸素であってもよいし、空気又は純酸素を、窒素、アルゴン、ヘリウムのような不活性ガスで希釈したものであってもよい。また、空気に純酸素を添加した酸素富化空気を使用することもできる。
本発明においては、周期表8族及び/又は9族の元素を含有し、リン原子の含有量がケイ素原子に対し0〜4モル%であるメソポーラスシリカを触媒として用い、該メソポーラスシリカの存在下で酸化反応を行う。かかるメソポーラスシリカを採用することにより、シクロアルカンを良好な転化率で酸化し、シクロアルカノール及び/又はシクロアルカノンを良好な選択率で製造することができる。
周期表8族の元素としては、鉄、ルテニウム又はオスミウムが挙げられ、周期表9族の元素としては、コバルト、ロジウム又はイリジウムが挙げられる。また、必要に応じてそれらの2種以上を用いることもできる。本発明においては、中でもルテニウム、コバルトが好ましく、さらにコバルトがより好ましい。これら元素の原料としては、例えば、これら元素のハロゲン化物、硝酸塩、カルボン酸塩、オキソ酸塩等が挙げられる。
上記元素の含有率は、メソポーラスシリカに対する重量比で表して、通常0.01〜20%であり、好ましくは0.05〜10%であり、さらに好ましくは0.1〜5%である。
メソポーラスシリカにおけるリン原子の含有量は、ケイ素原子に対し0〜4モル%であり、好ましくは0〜2モル%であり、より好ましくは0〜1モル%であり、さらに好ましくは0〜0.5モル%である。リン原子の含有量が4モル%を超えると、酸化反応の転化率が低くなる。
本発明のおけるメソポーラスシリカは、通常2〜50nmのほぼ均一な大きさの細孔を有する、所謂メソポーラス構造を有するものであり、その表面積は通常600〜1500m2/g程度である。また、上記周期表8族及び/又は9族の元素やリン原子は、メソポーラス構造を構成するシリカ骨格中に組み込まれていてもよく、上記細孔中に組み込まれていてもよく、シリカ骨格表面に担持されていてもよい。かかるメソポーラスシリカの種類として、例えば、MCM−41型やMCM−48型等を挙げることができ、本発明においては、中でも、MCM−41型が好ましい。尚、メソポーラス構造の有無は、XRD(X線回折)測定における2θ=0.2〜4.0°のピークの有無で確認することができる。
かかるメソポーラスシリカは、非特許文献2や、ネイチャー(Nature)、(米国)、1992年、第359巻、p.710−712等に記載された公知の方法に準じて調製することができる。例えば、上記元素のハロゲン化物、硝酸塩、カルボン酸塩、オキソ酸塩の如き化合物、リン酸の如きリン化合物、オルトケイ酸エチルの如きオルトケイ酸アルキル、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミドの如き四級アンモニウム塩、水酸化ナトリウムの如きアルカリ金属水酸化物、及び水を混合し、該混合物を約80〜100℃で熱処理し、ろ過、乾燥後、約500〜600℃で焼成することで調製することができる。この際、これら原料物質の使用量は、上記組成になるように適宜選択することができる。尚、上記リン化合物の一部は、ろ過後、ろ液に分配されるが、焼成後のメソポーラスシリカをICP(誘導結合高周波プラズマ)分析し、メソポーラスシリカのケイ素原子に対するリン原子のモル数を測定することにより、所望の組成のメソポーラスシリカを選別・取得することができる。
シクロアルカンの酸化反応は、かくして得られるメソポーラスシリカの存在下、シクロアルカンと酸素とを接触させることにより行うことができる。メソポーラスシリカの使用量は、シクロアルカン100重量部に対し、通常0.01〜50重量部、好ましくは0.1〜10重量部である。
反応温度は通常25〜140℃、好ましくは80〜140℃、より好ましくは120〜140℃である。25℃より低い温度では転化率が十分でなく、140℃より高い温度では、シクロアルカノールやシクロアルカノンの選択率が低下する傾向がある。また、かかる比較的低めの温度で反応を行うことにより、より安全に反応を行うことができる。また、上述したとおり、液状のシクロアルカンを使用することで、高濃度で生産性よく、反応を行うことができる。
反応圧力は通常0.01〜10MPa、好ましくは0.1〜2MPaである。反応溶媒は必要に応じて用いることができ、例えば、アセトニトリルやベンゾニトリルのようなニトリル溶媒、酢酸やプロピオン酸のようなカルボン酸溶媒等を用いることができる。
酸化反応後の後処理操作については、特に限定されないが、例えば、反応混合物をろ過して触媒を分離した後、水洗し、次いで蒸留する方法等が挙げられる。反応混合物中に原料のシクロアルカンに対応するシクロアルキルヒドロペルオキシドが含まれる場合、アルカリ処理や還元処理等により、目的とするシクロアルカノールやシクロアルカノンに変換することができる。
以下、本発明の実施例を示すが、本発明はこれによって限定されるものではない。尚、反応液中のシクロヘキサン、シクロヘキサノン、シクロヘキサノール及びシクロヘキシルヒドロペルオキシドの分析はガスクロマトグラフィーにより行い、この分析結果から、シクロヘキサンの転化率、並びにシクロヘキサノン、シクロヘキサノール及びシクロヘキシルヒドロペルオキシドの各選択率を算出した。
参考例1(メソポーラスシリカの調製:リン原子含有量0.22モル%)
ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド(和光純薬株式会社)8.08g、水107.44g、水酸化ナトリウム(和光純薬株式会社)1.63g、オルトケイ酸エチル(和光純薬株式会社)30.48g、85%リン酸水溶液(和光純薬株式会社)0.28g、及び、酢酸コバルト(II)四水和物(和光純薬株式会社)1.84gを200mlビーカーに入れ、室温で1時間攪拌した後、90℃で7日間水熱合成した。得られた混合物をろ過し、ろ残を水で洗浄した後、100℃で12時間乾燥した。得られた乾燥物を、空気流通下、550℃で7時間焼成した。焼成して得られた粉体について、銅Kα線によるXRD測定を行った結果、2θ=2.3°付近にメソポーラス構造特有のピークが見られ、メソポーラスシリカが生成していることを確認した。そのXRDパターンを図1に示す。また、ICP分析により算出したところ、リン原子の含有量はケイ素原子に対し0.22モル%であった。
ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド(和光純薬株式会社)8.08g、水107.44g、水酸化ナトリウム(和光純薬株式会社)1.63g、オルトケイ酸エチル(和光純薬株式会社)30.48g、85%リン酸水溶液(和光純薬株式会社)0.28g、及び、酢酸コバルト(II)四水和物(和光純薬株式会社)1.84gを200mlビーカーに入れ、室温で1時間攪拌した後、90℃で7日間水熱合成した。得られた混合物をろ過し、ろ残を水で洗浄した後、100℃で12時間乾燥した。得られた乾燥物を、空気流通下、550℃で7時間焼成した。焼成して得られた粉体について、銅Kα線によるXRD測定を行った結果、2θ=2.3°付近にメソポーラス構造特有のピークが見られ、メソポーラスシリカが生成していることを確認した。そのXRDパターンを図1に示す。また、ICP分析により算出したところ、リン原子の含有量はケイ素原子に対し0.22モル%であった。
参考例2(メソポーラスシリカの調製:リン原子含有量0.072モル%)
ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド(和光純薬株式会社)8.08g、水107.44g、水酸化ナトリウム(和光純薬株式会社)1.63g、オルトケイ酸エチル(和光純薬株式会社)30.48g、85%リン酸水溶液(和光純薬株式会社)0.14g、及び、酢酸コバルト(II)四水和物(和光純薬株式会社)1.84gを200mlビーカーに入れ、室温で1時間攪拌した後、90℃で7日間水熱合成した。得られた混合物をろ過し、ろ残を水で洗浄した後、100℃で12時間乾燥した。得られた乾燥物を、空気流通下、550℃で7時間焼成した。焼成して得られた粉体について、銅Kα線によるXRD測定を行った結果、2θ=2.3°付近にメソポーラス構造特有のピークが見られ、メソポーラスシリカが生成していることを確認した。そのXRDパターンを図2に示す。また、ICP分析により算出したところ、リン原子の含有量はケイ素原子に対し0.072モル%であった。
ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド(和光純薬株式会社)8.08g、水107.44g、水酸化ナトリウム(和光純薬株式会社)1.63g、オルトケイ酸エチル(和光純薬株式会社)30.48g、85%リン酸水溶液(和光純薬株式会社)0.14g、及び、酢酸コバルト(II)四水和物(和光純薬株式会社)1.84gを200mlビーカーに入れ、室温で1時間攪拌した後、90℃で7日間水熱合成した。得られた混合物をろ過し、ろ残を水で洗浄した後、100℃で12時間乾燥した。得られた乾燥物を、空気流通下、550℃で7時間焼成した。焼成して得られた粉体について、銅Kα線によるXRD測定を行った結果、2θ=2.3°付近にメソポーラス構造特有のピークが見られ、メソポーラスシリカが生成していることを確認した。そのXRDパターンを図2に示す。また、ICP分析により算出したところ、リン原子の含有量はケイ素原子に対し0.072モル%であった。
参考例3(メソポーラスシリカの調製:リン原子含有量0モル%)
ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド(和光純薬株式会社)8.08g、水107.44g、水酸化ナトリウム(和光純薬株式会社)1.63g、オルトケイ酸エチル(和光純薬株式会社)30.48g、及び、酢酸コバルト(II)四水和物(和光純薬株式会社)1.84gを200mlビーカーに入れ、室温で1時間攪拌した後、90℃で7日間水熱合成した。得られた混合物をろ過し、ろ残を水で洗浄した後、100℃で12時間乾燥した。得られた乾燥物を、空気流通下、550℃で7時間焼成した。焼成して得られた粉体について、銅Kα線によるXRD測定を行った結果、2θ=2.3°付近にメソポーラス構造特有のピークが見られ、メソポーラスシリカが生成していることを確認した。そのXRDパターンを図3に示す。
ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド(和光純薬株式会社)8.08g、水107.44g、水酸化ナトリウム(和光純薬株式会社)1.63g、オルトケイ酸エチル(和光純薬株式会社)30.48g、及び、酢酸コバルト(II)四水和物(和光純薬株式会社)1.84gを200mlビーカーに入れ、室温で1時間攪拌した後、90℃で7日間水熱合成した。得られた混合物をろ過し、ろ残を水で洗浄した後、100℃で12時間乾燥した。得られた乾燥物を、空気流通下、550℃で7時間焼成した。焼成して得られた粉体について、銅Kα線によるXRD測定を行った結果、2θ=2.3°付近にメソポーラス構造特有のピークが見られ、メソポーラスシリカが生成していることを確認した。そのXRDパターンを図3に示す。
参考例4(メソポーラスシリカの調製:リン原子含有量4.2モル%)
ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド(和光純薬株式会社)8.20g、水108.70g、水酸化ナトリウム(和光純薬株式会社)1.64g、オルトケイ酸エチル(和光純薬株式会社)28.31g、85%リン酸水溶液(和光純薬株式会社)1.32g、及び、酢酸コバルト(II)四水和物(和光純薬株式会社)1.84gを200mlビーカーに入れ、室温で1時間攪拌した後、90℃で7日間水熱合成した。得られた混合物をろ過し、ろ残を水で洗浄した後、100℃で12時間乾燥した。得られた乾燥物を、空気流通下、550℃で7時間焼成した。焼成して得られた粉体について、銅Kα線によるXRD測定を行った結果、2θ=2.3°付近にメソポーラス構造特有のピークが見られ、メソポーラスシリカが生成していることを確認した。そのXRDパターンを図4に示す。また、ICP分析により算出したところ、リン原子の含有量はケイ素原子に対し4.2モル%であった。
ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド(和光純薬株式会社)8.20g、水108.70g、水酸化ナトリウム(和光純薬株式会社)1.64g、オルトケイ酸エチル(和光純薬株式会社)28.31g、85%リン酸水溶液(和光純薬株式会社)1.32g、及び、酢酸コバルト(II)四水和物(和光純薬株式会社)1.84gを200mlビーカーに入れ、室温で1時間攪拌した後、90℃で7日間水熱合成した。得られた混合物をろ過し、ろ残を水で洗浄した後、100℃で12時間乾燥した。得られた乾燥物を、空気流通下、550℃で7時間焼成した。焼成して得られた粉体について、銅Kα線によるXRD測定を行った結果、2θ=2.3°付近にメソポーラス構造特有のピークが見られ、メソポーラスシリカが生成していることを確認した。そのXRDパターンを図4に示す。また、ICP分析により算出したところ、リン原子の含有量はケイ素原子に対し4.2モル%であった。
実施例1
300mlオートクレーブに、シクロヘキサン100g及び参考例1で得られたメソポーラスシリカ0.1gを入れ、室温にて系内を窒素で0.93MPaまで昇圧した後、130℃に昇温し、次いで、酸素濃度5容量%のガスの流通下、8時間反応を行った。
300mlオートクレーブに、シクロヘキサン100g及び参考例1で得られたメソポーラスシリカ0.1gを入れ、室温にて系内を窒素で0.93MPaまで昇圧した後、130℃に昇温し、次いで、酸素濃度5容量%のガスの流通下、8時間反応を行った。
反応開始から8時間の時点で、シクロヘキサンの転化率は8.6%であり、シクロヘキサノンの選択率は39.7%、シクロヘキサノールの選択率は40.9%、シクロヘキシルヒドロペルオキシド選択率は2.1%であった(合計選択率82.7%)。
実施例2
参考例1で得られたメソポーラスシリカに代えて、参考例2で得られたメソポーラスシリカを用いた以外は、実施例1と同様の操作を行った。
参考例1で得られたメソポーラスシリカに代えて、参考例2で得られたメソポーラスシリカを用いた以外は、実施例1と同様の操作を行った。
反応開始から8時間の時点で、シクロヘキサンの転化率は8.8%であり、シクロヘキサノンの選択率は39.3%、シクロヘキサノールの選択率は41.4%、シクロヘキシルヒドロペルオキシド選択率は1.0%であった(合計選択率81.7%)。
実施例3
参考例1で得られたメソポーラスシリカに代えて、参考例3で得られたメソポーラスシリカを用いた以外は、実施例1と同様の操作を行った。
参考例1で得られたメソポーラスシリカに代えて、参考例3で得られたメソポーラスシリカを用いた以外は、実施例1と同様の操作を行った。
反応開始から8時間の時点で、シクロヘキサンの転化率は8.1%であり、シクロヘキサノンの選択率は39.8%、シクロヘキサノールの選択率は42.1%、シクロヘキシルヒドロペルオキシド選択率は1.9%であった(合計選択率83.8%)
実施例4
反応温度を140℃で行った以外は、実施例3と同様の操作を行った。
反応温度を140℃で行った以外は、実施例3と同様の操作を行った。
反応開始から8時間の時点で、シクロヘキサンの転化率は10.1%であり、シクロヘキサノンの選択率は39.8%、シクロヘキサノールの選択率は44.2%、シクロヘキシルヒドロペルオキシド選択率は0%であった(合計選択率84.0%)。
比較例1
参考例1で得られたメソポーラスシリカに代えて、参考例4で得られたメソポーラスシリカを用いた以外は、実施例1と同様の操作を行った。
参考例1で得られたメソポーラスシリカに代えて、参考例4で得られたメソポーラスシリカを用いた以外は、実施例1と同様の操作を行った。
反応開始から8時間の時点で、シクロヘキサンの転化率は3.4%であり、シクロヘキサノンの選択率は22.3%、シクロヘキサノールの選択率は21.0%、シクロヘキシルヒドロペルオキシド選択率は48.1%であった(合計選択率91.4%)。
比較例2
反応温度を150℃で行った以外は、実施例3と同様の操作を行った。
反応温度を150℃で行った以外は、実施例3と同様の操作を行った。
反応開始から8時間の時点で、シクロヘキサンの転化率は9.6%であり、シクロヘキサノンの選択率は35.5%、シクロヘキサノールの選択率は44.0%、シクロヘキシルヒドロペルオキシド選択率は1.1%であった(合計選択率80.7%)。
Claims (7)
- 周期表8族及び/又は9族の元素を含有し、リン原子の含有量がケイ素原子に対し0〜4モル%であるメソポーラスシリカの存在下、25〜140℃で、シクロアルカンを酸素で酸化することを特徴とするシクロアルカノール及び/又はシクロアルカノンの製造方法。
- リン原子の含有量がケイ素原子に対し0〜2モル%である請求項1に記載の方法。
- リン原子の含有量がケイ素原子に対し0〜1モル%である請求項1に記載の方法。
- リン原子の含有量がケイ素原子に対し0〜0.5モル%である請求項1に記載の方法。
- 前記元素がコバルトである請求項1〜4のいずれかに記載の方法。
- 前記メソポーラスシリカがMCM−41型である請求項1〜5のいずれかに記載の方法。
- シクロアルカンがシクロヘキサンである請求項1〜6のいずれかに記載の方法。
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