JP2008090881A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】炭素を主成分とする主マスク層の上に酸素系ガスを用いたドライエッチングに対して耐食性を有する副マスク層を設け、更に主マスク層と副マスク層との間に酸素系ガスを用いたドライエッチングに対して耐食性を有し、且つ、ハロゲン系ガスを用いたドライエッチングに対するエッチングレートが酸素系ガスを用いたドライエッチングに対するエッチングレートよりも高い中間マスク層を設け、副マスク層加工工程(S106)と中間マスク層加工工程(主マスク層加工工程)(S110)との間で樹脂層除去工程(S108)を実行し、樹脂層除去工程(S108)で酸素系ガスを用い、中間マスク層加工工程(主マスク層加工工程)(S110)でハロゲン系ガスを用いる。
【選択図】図3
Description
O2ガスの流量:50sccm
プラズマソース電力:2000W
加工時間:90秒
CF4ガスの流量:50sccm
プラズマソース電力:1000W
バイアス電力(被加工体10に印加):50W
加工時間:15秒
NH3ガスの流量:50sccm
プラズマソース電力:1000W
前段加工時間:15秒
前段加工時バイアス電力(被加工体10に印加):15W
後段加工時間:30秒
後段加工時バイアス電力:0W
上記実施例に対し、主マスク層22と副マスク層26との間に中間マスク層24を形成しなかった。又、樹脂層除去工程(S108)を省略した。他の条件は上記実施例と同様として磁気記録媒体30を作製した。
上記実施例に対し、主マスク層22と副マスク層26との間に中間マスク層24を形成しなかった。又、樹脂層除去工程(S108)において、エッチングの異方性を高めて主マスク層22の幅方向のエッチングを抑制するために被加工体10に約50Wのバイアス電力を印加した。又、樹脂層除去工程(S108)において、主マスク層22は副マスク層26に基いて凹凸パターンに加工された。従って、中間マスク層加工工程(主マスク層加工工程)(S110)は行わなかった。他の条件は上記実施例と同様として磁気記録媒体30を作製した。
12…基板
16…軟磁性層
18…配向層
20、32…記録層
22…主マスク層
24…中間マスク層
26…副マスク層
28…樹脂層
30…磁気記録媒体
32A…記録要素
34…凹部
36…充填材
38…保護層
40…潤滑層
S102…準備工程
S104…樹脂層加工工程
S106…副マスク層加工工程
S108…樹脂層除去工程
S110…中間マスク層加工工程(主マスク層加工工程)
S112…記録層加工工程
S114…主マスク層除去工程
S116…充填材成膜工程
S118…平坦化工程
S120…保護層成膜工程
S122…潤滑層成膜工程
Claims (5)
- 基板、磁性材料の連続膜の記録層、炭素を主成分とする主マスク層、酸素系ガスを用いたドライエッチングに対して耐食性を有し、且つ、ハロゲン系ガスを用いたドライエッチングに対するエッチングレートが前記酸素系ガスを用いたドライエッチングに対するエッチングレートよりも高い中間マスク層、前記酸素系ガスを用いたドライエッチングに対して耐食性を有し、且つ、前記中間マスク層よりも前記ハロゲン系ガスを用いたドライエッチングに対するエッチングレートが低い副マスク層及び前記酸素系ガスを用いたドライエッチングにより除去される性質を有する樹脂層を有し、これらの層がこの順で前記基板の上に形成された被加工体の出発体を準備する準備工程と、前記樹脂層を所定の凹凸パターンに加工する樹脂層加工工程と、ドライエッチングにより前記樹脂層に基づいて前記副マスク層を前記凹凸パターンに相当する凹凸パターンに加工する副マスク層加工工程と、前記酸素系ガスを用いたドライエッチングにより前記樹脂層のうち前記副マスク層上に残存する樹脂層を除去する樹脂層除去工程と、前記ハロゲン系ガスを用いたドライエッチングにより前記副マスク層に基づいて前記中間マスク層を前記凹凸パターンに相当する凹凸パターンに加工する中間マスク層加工工程と、ドライエッチングにより前記副マスク層及び前記中間マスク層の少なくとも一方に基づいて前記主マスク層を前記凹凸パターンに相当する凹凸パターンに加工する主マスク層加工工程と、ドライエッチングにより前記主マスク層に基づいて前記記録層を前記凹凸パターンに相当する凹凸パターンに加工して該凹凸パターンの凸部として記録要素を形成する記録層加工工程と、を含み、これらの工程をこの順で実行することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
- 基板、磁性材料の連続膜の記録層、炭素を主成分とする主マスク層、F及びClの一方の元素を含む第1のハロゲン系ガスを用いたドライエッチングに対して耐食性を有し、且つ、他方の元素を含む第2のハロゲン系ガスを用いたドライエッチングに対するエッチングレートが前記第1のハロゲン系ガスを用いたドライエッチングに対するエッチングレートよりも高い中間マスク層、前記第1のハロゲン系ガスを用いたドライエッチングに対して耐食性を有し、且つ、前記中間マスク層よりも前記第2のハロゲン系ガスを用いたドライエッチングに対するエッチングレートが低い副マスク層及び前記第1のハロゲン系ガスを用いたドライエッチングにより除去される性質を有する樹脂層を有し、これらの層がこの順で前記基板の上に形成された被加工体の出発体を準備する準備工程と、前記樹脂層を所定の凹凸パターンに加工する樹脂層加工工程と、ドライエッチングにより前記樹脂層に基づいて前記副マスク層を前記凹凸パターンに相当する凹凸パターンに加工する副マスク層加工工程と、前記第1のハロゲン系ガスを用いたドライエッチングにより前記樹脂層のうち前記副マスク層上に残存する樹脂層を除去する樹脂層除去工程と、前記第2のハロゲン系ガスを用いたドライエッチングにより前記副マスク層に基づいて前記中間マスク層を前記凹凸パターンに相当する凹凸パターンに加工する中間マスク層加工工程と、ドライエッチングにより前記副マスク層及び前記中間マスク層の少なくとも一方に基づいて前記主マスク層を前記凹凸パターンに相当する凹凸パターンに加工する主マスク層加工工程と、ドライエッチングにより前記主マスク層に基づいて前記記録層を前記凹凸パターンに相当する凹凸パターンに加工して該凹凸パターンの凸部として記録要素を形成する記録層加工工程と、を含み、これらの工程をこの順で実行することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
- 請求項1又は2において、
前記中間マスク層加工工程が前記主マスク層加工工程を兼ねており、該中間マスク層加工工程において前記副マスク層に基づいて前記中間マスク層及び前記主マスク層を加工することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 請求項1乃至3のいずれかにおいて、
前記記録層加工工程の後に、ドライエッチングにより前記主マスク層のうち前記記録要素上に残存する主マスク層を除去する主マスク層除去工程が設けられたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 請求項4において、
前記主マスク層除去工程において水素系ガスを用いたドライエッチングにより前記主マスク層のうち前記記録要素上に残存する主マスク層を除去することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
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