JP2008088489A5 - - Google Patents

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本発明によれば、蒸着により被処理体を成膜処理する蒸着装置であって、被処理体を成膜処理する処理室と、成膜材料を蒸発させる蒸気発生室とを隣接させて配置し、前記処理室の内部と前記蒸気発生室の内部を減圧させる排気機構を設け、前記処理室の内部に向けて蒸気を噴出する蒸気噴出口を設け、前記蒸気発生室に、成膜材料を蒸発させる蒸気発生部と、成膜材料の蒸気の供給を制御する制御弁とを配置し、蒸気発生部で発生させた成膜材料の蒸気を、前記処理室と前記蒸気発生室の外部に出さずに、蒸気噴出口に供給させる流路を設けたことを特徴とする、蒸着装置が提供される。
また、前記蒸気発生部で蒸発させた成膜材料の蒸気を前記蒸気噴出口に供給させるためのキャリアガスを、前記蒸気発生部に供給するキャリアガス供給配管を有していても良い。この場合、前記蒸気発生部は、全体を一体的に加熱可能なヒータブロックを有し、前記ヒータブロックの内部に、成膜材料を充填可能な材料容器と、前記キャリアガス供給配管から供給されたキャリアガスを前記材料容器に通すキャリアガス経路を配置しても良い。
前記成膜材料は、例えば、有機ＥＬ素子の発光層の成膜材料である。また、前記制御弁は、例えば、ベローズ弁またはダイアフラム弁である。また、前記排気機構は、前記処理室と前記蒸気発生室にそれぞれ設けられていても良い。また、前記蒸気発生部で発生させた成膜材料の蒸気を前記蒸着ヘッドに供給する輸送路が設けられ、前記輸送路には、複数の蒸気発生部が取り付けられていても良い。また、前記流路にはヒータを備えなくても良い。

Claims (10)

  1. 蒸着により被処理体を成膜処理する蒸着装置であって、
    被処理体を成膜処理する処理室と、成膜材料を蒸発させる蒸気発生室とを隣接させて配置し、
    前記処理室の内部と前記蒸気発生室の内部を減圧させる排気機構を設け、
    前記処理室の内部に向けて蒸気を噴出する蒸気噴出口を設け、
    前記蒸気発生室に、成膜材料を蒸発させる蒸気発生部と、成膜材料の蒸気の供給を制御する制御弁とを配置し、
    前記蒸気発生部で発生させた成膜材料の蒸気を、前記処理室と前記蒸気発生室の外部に出さずに、前記蒸気噴出口に供給させる流路を設けたことを特徴とする、蒸着装置。
  2. 前記蒸気噴出口が任意の面に形成された蒸着ヘッドを有し、前記蒸気発生部と前記制御弁を、前記蒸着ヘッドに支持させたことを特徴とする、請求項１に記載の蒸着装置。
  3. 前記蒸気発生部で蒸発させた成膜材料の蒸気を前記蒸気噴出口に供給させるためのキャリアガスを、前記蒸気発生部に供給するキャリアガス供給配管を有することを特徴とする、請求項１または２に記載の蒸着装置。
  4. 前記蒸気発生部は、全体を一体的に加熱可能なヒータブロックを有し、前記ヒータブロックの内部に、成膜材料を充填可能な材料容器と、前記キャリアガス供給配管から供給されたキャリアガスを前記材料容器に通すキャリアガス経路を配置したことを特徴とする、請求項３に記載の蒸着装置。
  5. 前記蒸気噴出口が任意の面に形成された蒸着ヘッドを有し、前記蒸着ヘッドの前記蒸気噴出口が形成された面を前記処理室内に露出させた姿勢で、前記蒸着ヘッドを、前記処理室と前記蒸気発生室とを仕切る隔壁に支持したことを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の蒸着装置。
  6. 前記隔壁の少なくとも一部を断熱材としたことを特徴とする、請求項５に記載の蒸着装置。
  7. 前記制御弁は、ベローズ弁またはダイアフラム弁であることを特徴とする、請求項１〜６のいずれかに記載の蒸着装置。
  8. 前記排気機構は、前記処理室と前記蒸気発生室にそれぞれ設けられていることを特徴とする、請求項１〜７のいずれかに記載の蒸着装置。
  9. 前記蒸気噴出口が任意の面に形成された蒸着ヘッドを有し、前記蒸気発生部で発生させた成膜材料の蒸気を前記蒸着ヘッドに供給する輸送路が設けられ、前記輸送路には、複数の蒸気発生部が取り付けられていることを特徴とする、請求項１〜８のいずれかに記載の蒸着装置。
  10. 前記流路にヒータを備えないことを特徴とする、請求項１〜９のいずれかに記載の蒸着装置。
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