JP2008087459A5 - - Google Patents
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- インキをインキ膜形成基材上に塗布してインキの膜を形成するインキ膜形成工程と、該インキ膜に対し所定形状の凸版を接触させて凸版の凸部に該インキ膜の不要部を転写して前記インキ膜形成基材から除去する除去工程と、前記インキ膜形成基材上に残った該インキ膜の要部を被印刷基板に転写する転写工程とを備える凸版反転オフセット印刷法に使用する凸版であって、該凸版の要部対応領域である凹部に撥インキ処理を施してあることを特徴とする凸版反転オフセット印刷用凸版。
- 前記撥インキ処理は撥インキ性のシランカップリング剤からなる分子膜であることを特徴とする請求項1記載の凸版反転オフセット印刷用凸版。
- 前記撥インキ性のシランカップリング剤はフルオロアルキル基、フルオロエーテル基、若しくはシロキサンであることを特徴とする請求項2記載の凸版反転オフセット印刷用凸版。
- 前記凸版の凸部の頂部に親インキ処理を施してあることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の凸版反転オフセット印刷用凸版。
- インキをインキ膜形成基材上に塗布してインキの膜を形成するインキ膜形成工程と、該インキ膜に対し所定形状の凸版を接触させて凸版の凸部に該インキ膜の不要部を転写してインキ膜形成基材から除去する除去工程と、該インキ膜形成基材上に残った該インキ膜の要部を被印刷基板に転写する転写工程とを備える凸版反転オフセット印刷法に使用する凸版の製造方法であって、凸版基材となる基板表面の凸部に対応する位置をパターン状にマスキングする工程、次に該基板表面のマスキングされていない領域をエッチングする工程、次に該基板表面のエッチングされた領域に撥インキ処理を施す工程、次にパターン状になされたマスキングを剥離する工程、を備えることを特徴とする請求項1に記載の凸版反転オフセット印刷用凸版の製造方法。
- 前記撥インキ処理は撥インキ性のシランカップリング剤による処理であることを特徴とする請求項5記載の凸版反転オフセット印刷用凸版製造方法。
- 前記撥インキ性のシランカップリング剤はフルオロアルキルシラン、フルオロアルキル基を含むオリゴマー、フルオロエーテル基含有ポリマー、もしくは加水分解性基を含むシロキサンであることを特徴とする請求項6記載の凸版反転オフセット印刷用凸版製造方法。
- 前記凸版反転オフセット印刷法に使用する凸版の製造方法であって、凸版基材となる基板表面の凸部に対応する位置をパターン状にマスキングする工程、次に該基板表面のマスキングされていない領域をエッチングする工程、次に該基板表面のエッチングされた領域に撥インキ処理を施す工程、次にパターン状になされたマスキングを剥離する工程、次に該基材上凸部の頂部に親インキ処理を施す工程、を備えることを特徴とする請求項5乃至7のいずれかに記載の凸版反転オフセット印刷用凸版の製造方法。
- 前記親インキ処理は親インキ性のシランカップリング剤による処理であることを特徴とする請求項8記載の凸版反転オフセット印刷用凸版製造方法。
- インキをインキ膜形成基材上に塗布してインキの膜を形成するインキ膜形成工程と、該インキ膜に対し所定形状の凸版を接触させて凸版の凸部に該インキ膜の不要部を転写してインキ膜形成基材から除去する除去工程と、該インキ膜形成基材上に残った該インキ膜の要部を被印刷基板に転写する転写工程とを備える凸版反転オフセット印刷法による印刷物の製造方法であって、請求項1乃至4のいずれかに記載の凸版反転オフセット印刷用凸版を凸版として用いたことを特徴とする印刷物の製造方法。
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