JP2010523378A5 - - Google Patents

Description

前記クリシェ形成用フィルムは、その厚さが７０μｍ以下であることが望ましい。また、前記クリシェ形成用フィルムは、その表面エネルギーが前記インクまたは樹脂の表面エネルギーより高いことが望ましい。また、使い捨てで使用されるので、フィルムの単価が低いことが望ましい。このような条件を満たすクリシェ形成用フィルムは、ポリエチレンフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム及びアルミニウムフィルムなどを挙げることができるが、必ずこれに限定されるのではない。

前記ハードモールド２１５は代表的に、ガラス、金属、金属酸化物及びプラスチックなどを用いて製造することができ、湿式食刻法、乾式食刻法、フォトリソグラフィー法及びレーザー成形法など多様な方法を利用して陰刻パターンを形成することができるが、これに限定されるのではない。前記クリシェ形成用フィルム２１４の厚さは、真空によってハードモールド２１５に正角接触（ｃｏｎｆｏｒｍａｌ ｃｏｎｔａｃｔ）できるようにモールド２１５のパターン段差より十分薄いことが望ましく、具体的に７０μｍ以下であることが望ましく、２０μｍ以下であることがさらに望ましい。

Claims (13)

1. （Ｓ１）陰刻にパターニングされたハードモールドにクリシェ形成用フィルムを密着させて使い捨てクリシェを製造する段階；
   （Ｓ２）弾性ブランケットシリンダーにインクまたは樹脂を塗布する段階；
   （Ｓ３）前記弾性ブランケットシリンダーを前記使い捨てクリシェに圧着して前記使い捨てクリシェの相対的に突出された陽刻部分と接する部分に塗布された前記弾性ブランケットシリンダー面のインクまたは樹脂を除去する段階；及び
   （Ｓ４）前記弾性ブランケットシリンダー面に残ったインクまたは樹脂を基材に転写させる段階；を含んでなることを特徴とする微細パターン形成方法。
2. 前記（Ｓ１）段階は、前記ハードモールドに空気吸入のためのホールを開け、前記ホールを通じて空気を吸入して前記クリシェ形成用フィルムを前記ハードモールドに真空密着させて使い捨てクリシェを製造することを特徴とする請求項１に記載の微細パターン形成方法。
3. 前記（Ｓ１）段階は、前記クリシェ形成用フィルムを前記ハードモールドと相補的なパターンを有する相補ハードモールド及び前記ハードモールドの間に置き、前記相補ハードモールド及び前記ハードモールドを圧着して嵌合させた後、前記相補ハードモールドを脱去させて使い捨てクリシェを製造することを特徴とする請求項１に記載の微細パターン形成方法。
4. 前記ハードモールドは、ガラス、金属、金属酸化物及びプラスチックからなる群より選択される物質を用いて製造されたことを特徴とする請求項１に記載の微細パターン形成方法。
5. 前記ハードモールドは、湿式食刻法、乾式食刻法、フォトリソグラフィー法及びレーザー成形法のうち選択された一つの方法によって陰刻パターニングされたことを特徴とする請求項１に記載の微細パターン形成方法。
6. 前記クリシェ形成用フィルムは、その厚さが７０μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の微細パターン形成方法。
7. 前記クリシェ形成用フィルムは、その表面エネルギーが前記インクの表面エネルギーより高いことを特徴とする請求項１に記載の微細パターン形成方法。
8. 前記クリシェ形成用フィルムは、ポリエチレンフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム及びアルミニウムフィルムのうち選択された一つのフィルムであることを特徴とする請求項７に記載の微細パターン形成方法。
9. 前記弾性ブランケットシリンダーは、円筒状ロールの外部に弾性ゴムがコートされて製造されたことを特徴とする請求項１に記載の微細パターン形成方法。
10. 前記弾性ブランケットシリンダーは、弾性ゴムを含んでなった平板パッドを円筒状ロールの外部に装着させて製造されたことを特徴とする請求項１に記載の微細パターン形成方法。
11. 前記弾性ゴムは、シリコーンゴムであることを特徴とする請求項９または請求項１０に記載の微細パターン形成方法。
12. 前記インクは、熱硬化型または光硬化型であることを特徴とする請求項１に記載の微細パターン形成方法。
13. 前記樹脂は、熱硬化型または光硬化型であることを特徴とする請求項１に記載の微細パターン形成方法。