JP2008084661A - 電子エミッタの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本電子エミッタの製造方法は、チャンバ内部に配置された筒状電極の内部に基材を配置し、チャンバ内を真空排気すると共に該筒状電極内部に炭素含有化合物を含む処理ガスを供給し、筒状電極に直流負電圧を印加して筒状電極内にプラズマを発生させて上記処理ガスを分解、イオン化し、これによって上記基材表面に炭素膜を成膜する製造方法であり、筒状電極内に予め特定金属材を設けておくことにより、上記プラズマにより上記基材表面に炭素膜を成膜する1つの工程の実施と同時に、上記プラズマ中のイオンにより上記特定金属材をスパッタして該炭素膜の膜表面に特定金属材の炭化物を低仕事関数材として局所的に形成する。
【選択図】図1
Description
この炭素膜の代表例として特開2002−289086号公報等で開示されているカーボンナノチューブがある。
12 真空チャンバ
14 ガス導入装置
16 圧力制御装置
18 電源装置
20 筒状電極
22 ガスボンベ
24 調節回路
26 圧力制御弁
28 真空排気系
30 パルス電源
32 チタン材(特定金属材)
34 基材
36 プラズマ
38 炭素膜
40 炭化チタンの微粒子状膜(低仕事関数材)
Claims (4)
- チャンバ内部に配置された筒状電極の内部に基材を配置し、チャンバ内を真空排気すると共に該筒状電極内部に炭化水素ガスを含む処理ガスを供給し、筒状電極に直流負電圧を印加して筒状電極内にプラズマを発生させて上記処理ガスを分解、イオン化し、これによって上記基材表面に炭素膜を成膜する電子エミッタの製造方法であって、
上記筒状電極内に炭化により仕事関数が低下する特定金属材を予め設けておくことにより、上記プラズマにより上記基材表面に炭素膜を成膜する1つの工程の実施と同時に、上記プラズマ中のイオンにより上記特定金属材をスパッタして該炭素膜の膜表面に当該特定金属材の炭化物からなる低仕事関数材を局所的に形成する、ことを特徴とする電子エミッタの製造方法。 - 上記特定金属材がチタンである、ことを特徴とする請求項1に記載の電子エミッタの製造方法。
- チャンバと、上記チャンバ内に配置される筒状電極と、上記チャンバ内を真空排気する手段と、上記筒状電極内部に炭化水素ガスを含む処理ガスを導入する手段と、上記筒状電極に固定された、炭化により仕事関数が低下する特定金属材と、上記筒状電極および上記特定金属材とに直流負電圧を印加する手段と、を備えたことを特徴とする電子エミッタの製造装置。
- 上記特定金属材がチタンである、ことを特徴とする請求項3に記載の電子エミッタの製造装置。
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Citations (4)
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---|---|---|---|---|
JPH06131968A (ja) * | 1992-10-14 | 1994-05-13 | Ricoh Co Ltd | 電界放出型電子源およびアレイ状基板 |
JP2005307352A (ja) * | 2004-03-25 | 2005-11-04 | Dialight Japan Co Ltd | 炭素膜の製造装置およびその製造方法 |
JP2006049066A (ja) * | 2004-08-04 | 2006-02-16 | Dialight Japan Co Ltd | 電界電子放出素子およびその製造方法ならびに照明装置 |
WO2006022352A1 (ja) * | 2004-08-26 | 2006-03-02 | Dialight Japan Co., Ltd. | 液晶表示装置用バックライト |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06131968A (ja) * | 1992-10-14 | 1994-05-13 | Ricoh Co Ltd | 電界放出型電子源およびアレイ状基板 |
JP2005307352A (ja) * | 2004-03-25 | 2005-11-04 | Dialight Japan Co Ltd | 炭素膜の製造装置およびその製造方法 |
JP2006049066A (ja) * | 2004-08-04 | 2006-02-16 | Dialight Japan Co Ltd | 電界電子放出素子およびその製造方法ならびに照明装置 |
WO2006022352A1 (ja) * | 2004-08-26 | 2006-03-02 | Dialight Japan Co., Ltd. | 液晶表示装置用バックライト |
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