JP2008072153A - 半導体パッケージおよびその製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】熱放散および電磁妨害シールドを最適化する電子デバイス・キャリアの最適化さ
れたリッド実装を提供する。
【解決手段】半導体パッケージングの標準製造プロセス工程を用い、熱放散および電磁妨
害シールドを最適化する電子デバイス・キャリアの最適化されたリッド実装を開示する。
本発明によれば、導電性ブロックまたはスプリングは、これらの下面で、チップ・キャリ
アのグラウンド・パッドにハンダ付けされる。他の面で、これらの導電性ブロックまたは
スプリングは、シリコーン・ベースの材料のような導電性接着剤を用いてリッドに電気的
に接続される。さらに、リッドは、電気絶縁性接着剤で半導体チップに熱的に接続される
。
【選択図】図４

Description

本発明は、半導体パッケージングに関し、特に、熱放散および電磁妨害シールドを最適
化する、電子デバイス・キャリアの最適化されたリッド実装に関する。
集積回路（ＩＣ）は、最も一般的にシリコンで作られる半導体ダイ上に形成される。ダ
イは、簡便な取り扱い、使い易さおよび信頼性のために、保護モールド材料で封止される
ことが多い。モールド材料には、セラミック、プラスチックまたは樹脂を用いることがで
きる。ＩＣの信号ライン、電源ラインおよびグラウンド・ラインとの電気的インターフェ
ースを与えるために、ＩＣパッケージは、集積回路からパッケージの外へ延びる電気的コ
ネクタを有する。
ＩＣパッケージ設計の当業者に知られている１つのＩＣパッケージ・タイプは、ピン・
グリッド・アレイ（ＰＧＡ）パッケージである。ＰＧＡでは、複数のピンが、パッケージ
の下面から外へ延びている。ピンは、ＩＣパッケージと外部回路との間の電気的インター
フェースを与える。それらは、複数の行と列に配列されている。
ボール・グリッド・アレイ（ＢＧＡ）は、ＰＧＡと類似している。ＢＧＡとＰＧＡとの
相違は、ＢＧＡでは、導電性の球が、ＰＧＡで使用されるピンを置き換えることである。
導電性の球には、ハンダ・ボールが多く用いられる。
パッケージと外部回路との間の電気的インターフェースとして導電性の球を使用するこ
とは、ＢＧＡパッケージの表面実装を可能にする。導電性の球をプリント回路基板（ＰＣ
Ｂ）のパッドの上に配置して、パッケージは、ＰＣＢ上に配置される。どの導電性の球に
対しても、対応するパッドが基板上に存在する。球は、次に、パッドにハンダ付けされる
。
グリッド・アレイをベースにしたＩＣパッケージ、例えばＢＧＡの１つの重要な利点は
、ＩＣと、ＩＣが最終的に取り付けられるプリント回路基板との間の高密度相互接続を可
能にすることである。高密度相互接続、すなわち高いリード密度と大きいリード総数は、
電気的インターフェースの複数の行と列のためにＩＣ表面の領域の全部または一部を使用
することにより生じる。グリッド・アレイ・パッケージにおいて利用する領域が増大する
と、チップ設計者は、一定のパッケージの大きさに、より多くのリードを配置することが
できる。
ＢＧＡパッケージの大きいリード総数は、高くかつ絶えず増加するＩＣ回路密度を可能
にするために必要とされる。信号周波数の増加と結びついた高い回路密度は、熱放散、電
磁妨害および電磁妨害感受性の問題を深刻にしがちである。
熱放散に対処するために、多くは銅で作られ、補強材および熱拡散装置として使用され
るリッドは、熱伝導性材料を用いて集積回路の上に一般に実装される。一般にリッドは、
どの電位にも電気的に接続されず、これは銅片を“フローティング（ｆｌｏａｔｉｎｇ）
”の状態にする。図１は、基準ＩＣパッケージ１００において、リッドが、集積回路、即
ちチップの上に一般に実装される方法を示す図である。この例では、チップとチップ・キ
ャリアの間の相互接続は、広くフリップ−チップ・アタッチ（ＦＣＡ）として知られてい
る、制御された崩壊チップ接続（Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｃｏｌｌａｐｓｅ Ｃｈｉｐ
Ｃｏｎｎｅｃｔｉｏｎ：ＩＢＭ Ｃ４技術）で行われる。このような技術は、高いＩ／Ｏ
密度、均一なチップ電力配分、高い冷却能力および高い信頼性を与える。したがって、チ
ップ１１０は、Ｃ４ハンダ・ボール１３０を用いて多層チップ・キャリア１２０に電気的
に接続されている。チップ１１０とチップ・キャリア１２０との間に形成される空洞は、
チップとチップ・キャリアとの電気的な相互接続を補強するために、エポキシのような誘
電体材料で充填される。チップ・キャリア１２０は、上述したように、ＢＧＡハンダ・ボ
ール１５０によりＰＣＢ（明瞭にするために図示しない）に電気的に接続される。熱放散
に使用されるリッド１６０は、熱接着剤１７０によりチップ１１０に熱的に接続され、接
合される。パッケージの外部側では、リッドは、ピース１８０により保持される。ピース
１８０は、一般に誘電体材料で作られ、また補強材として使用される。あるいは、直接リ
ッド取付（Ｄｉｒｅｃｔ Ｌｉｄ Ａｔｔａｃｈｍｅｎｔ：ＤＬＡ）と呼ばれるＩＢＭプ
ロセスの場合には、リッドは、シリコンの裏面に直接に取り付けられ、積層板の上に補強
材を配置することなくチップの上に張り出した状態にされる。
ＥＭＩ問題を解決するために、導電性リッドは、リッドをチップ・キャリアに取り付け
るための従来の電気非伝導性接着剤を電気伝導性接着剤に置き換えることによって、接地
される。例えば、電気伝導性熱硬化シリコーン接着剤またはハンダは、電気伝導性接着剤
として使用できる。
電気伝導性熱硬化シリコーン接着剤は、一緒に結合および／または接合される種々の材
料の熱膨張率の違いによって発生するリッドとチップ・キャリアとの間の応力を低減する
バッファ機能を果たす。しかしながら、電気伝導性熱硬化シリコーン接着剤は、チップ・
キャリアとリッドとの間に良好な接着を生じさせない。対照的に、ハンダは、チップ・キ
ャリアとリッドとの間に優れた機械的取り付けを与える。しかしながら、ハンダは、応力
バッファとして充分に機能しない。すなわち、ハンダが用いられると、クラックまたは層
剥離が、熱応力によりリッドとチップ・キャリアとの間のインターフェースに生じること
がある。このようなクラックは、パッケージの熱除去能力を低下させ、さらにチップの電
気的性能を低下させる。必要な機械的特性を与える適切な電気的かつ熱的な伝導性材料を
捜し出すための開発努力が、極めて長期にわたる主要な努力となりそうであることが分か
る。
さらに、リッドの底面とチップ・キャリアの上面とのギャップは、大きなパッド領域を
必要とするので、一般に少なくとも０．７ｍｍあり、ペースト接着剤またはハンダは、そ
のギャップを充填することは困難である。この大きなパッド領域は、積層板とリッドとの
間のギャップに効果的に充填するのに十分でなければならない量の材料を収容することを
必要とし、その材料は、リッドが、付与された材料に接触して配置されるときに、リッド
表面がその材料によって濡れることを確実にするために適切な大きさおよび特性を有する
必要がある。リッド表面に良好な濡れがないと、信頼性のある接着を行うことは困難であ
る。
実際的および効果的なＥＭＩシールドを実現するために、米国特許出願第２００２／０
１１３３０６号明細書は、ファラデー箱の機能を実現するリッドを有する半導体パッケー
ジを開示する。図２に示すように、集積回路パッケージ２００は、基板またはチップ・キ
ャリア２１０、接合パッド２３０を有するチップ２２０、チップを覆うように基板の上面
に取り付けられたリッド２４０、およびリッド２４０を複数個のグラウンド・パターンに
電気的に接続する１つ以上の突起部２５０を備える。基板は、上面に基板パッドが形成さ
れており、基板パッドのうちの１つ以上は、グラウンド・パターンを形成するために広が
っている。チップ２２０は、基板２１０の上面に接合されている。接合パッドのうちの１
つ以上が、グラウンド接合パッドであり、接合パッドは、対応する基板パッドに電気的に
接続されている。電気伝非導性接着剤２６０は、基板２１０にリッド２４０を取り付ける
ために使用され、突起部２５０は、電気伝導性接着剤２７０によってグラウンド・パター
ンに接続されている。グラウンド突起部は、基板２１０とリッド２４０の間に形成される
空洞の４隅に置かれる。半導体パッケージ２００は、さらに、リッド２４０とチップ２２
０との間に挟まれた熱インターフェース材料２８０を備え、熱インターフェース材料２８
０は、チップ２２０によって発生した熱をリッド２４０に伝導する。
米国特許出願公開第２００２／０１１３３０６号明細書
しかしながら、このような解決法は、一般に、製造組み立てにおいて多大な時間とコス
トを付加するという欠点がある。まず、図３に示すように、突起部を有するリッドは、電
気的短絡を防ぐために正確に配置されなければならない。図３は、半導体チップ３１０が
配置される基板３００の上面の一部平面図を示している。グラウンド・パターン（ここに
はリッド突起部が接続される）に接続される基板パッド３２０の大きさが、リッドの大き
さと比較すると、非常に小さいので、このような正確な配置は、位置合わせのための適応
した製造ツールを必要とし、長いサイクル時間を要する。円３３０は、グラウンド・トラ
ックと信号トラックとの間を電気的に短絡するリッド突起部位置を示す。同様に、導電性
接着剤は、その性質および与えられる少ない分量のために、正確に配置され、付与されな
ければならない。さらに、製造プロセスは、例えば、種々の接着剤が同時に、かつ極めて
接近して使用されると、これらの接着剤が密接するので、複雑になる。
したがって、本発明の目的は、上述したように従来技術の欠点を改善することにある。
本発明の他の目的は、半導体パッケージングの標準製造プロセス工程に用いる、電子デ
バイス・キャリアの最適化されたリッド実装を提供することにある。
本発明の更に他の目的は、熱放散および電磁妨害シールドを最適化する、電子デバイス
・キャリアの最適化されたリッド実装を提供することにある。
本発明の更に他の目的は、リッドを電気的にフローティングのままにして、リッドと、
パワー・プレーンおよびボール・グリッド・アレイ・フットプリントのような積層チップ
・キャリア構造との間に熱的に強化された放散経路を形成する、電子デバイス・キャリア
の最適化されたリッド実装を提供することにある。
これらの目的および他の関係する目的の達成は、一方の面に少なくとも１つのグラウン
ド・パッドを有するチップ・キャリアと、前記チップ・キャリアの前記一方の面に接続さ
れる少なくとも１つの半導体チップと、前記少なくとも１つの半導体チップに熱的に接続
される導電性リッドと、少なくとも１つの導電性ブロックとを備え、前記少なくとも１つ
の導電性ブロックは、前記少なくとも１つのグラウンド・パッドおよび前記導電性リッド
に電気的に接続される半導体パッケージによって行われる。
また、上述した目的の達成は、少なくとも１つのグラウンド・パッドを有するチップ・
キャリアを備える半導体パッケージの製造方法であって、
前記少なくとも１つのチップ・キャリア・グラウンド・パッドに第１の電気伝導性接着
剤を付与する工程と、
前記電気伝導性接着剤に接触して少なくとも１つの導電性ブロックをピック・アンド・
プレイスする工程と、
前記チップ・キャリアの上に少なくとも１つの半導体チップをピック・アンド・プレイ
スする工程と、
前記少なくとも１つの導電性ブロックに第２の電気伝導性接着剤を付与する工程と、
前記少なくとも１つの半導体チップに電気絶縁性接着剤を付与する工程と、
前記第２の電気伝導性接着剤および前記電気絶縁性接着剤に接触して導電性リッドを配
置する工程と、
を含む方法によって行われる。
本発明の更なる利点は、図面の説明および詳細な記述により当業者に明らかになるであ
ろう。
本発明は、熱放散および電磁妨害シールドを可能にする導電性リッドを備え、このリッ
ドが、標準製造プロセスで実装される半導体パッケージを提供する。説明するために、Ｂ
ＧＡ／Ｃ４半導体パッケージに基づいて本発明を記述するが、本発明は、大部分の他の半
導体パッケージで実施できることは理解されなければならない。
チップ・キャパシタまたはチップ・レジスタのような個別部品は、チップ・キャリア面
にハンダ付けされると、リッドの底面とチップ・キャリアの上面との間の少なくとの０．
７ｍｍのギャップに隙間無く収まる。したがって、本発明の主要な原理は、ほぼ個別部品
の大きさを有し、チップ・キャリアのグラウンド・パッドと導電性リッドとの間を接続す
る導電性モジュールを用いることにある。このような導電性モジュールは、グラウンド・
パッドにハンダ付けされ、電気伝導性接着剤で導電性リッドに電気的に接続される。
図４は、本発明による半導体パッケージの第１の実施例を示す。図１の半導体パッケー
ジのように、本発明の半導体パッケージ１００’は、チップ・キャリア１２０’上に配置
され、Ｃ４ハンダ・ボール１３０により外部導電層の信号トラックおよびグラウンド・ト
ラックに電気的に接続される半導体チップ１１０を備える。上述したように、チップ１１
０とチップ・キャリア１２０’との間に形成される空洞は、チップとチップ・キャリアと
の電気的接続を補強するために、エポキシのような誘電体材料で充填される。チップ・キ
ャリア１２０’は、導電性ＢＧＡハンダ・ボール１５０を用いてＰＣＢ（明瞭にするため
に図示しない）に電気的に接続され、熱放散のために用いられるリッド１６０は、熱接着
剤１７０を用いてチップ１１０に熱的に接続され、接合される。
本発明の第１の実施例によれば、導電性リッド１６０は、例えば銅で作られる導電性ブ
ロック４００によりグラウンドに電気的に接続される。導電性ブロック４００は、その上
面で、電気伝導性接着剤４１０、例えばシリコーン・ベースの材料、または低い引張り応
力（ｍｏｄｕｌｕｓ）のエポキシ、ポリウレタンまたはアクリルのような同様に順応性の
ある接着剤を用いてリッド１６０に電気的に接続される。導電性ブロック４００は、その
下面で、チップ・キャリア１２０’に設けられ、グラウンド・トラックに接続されるパッ
ド４３０に、ハンダ４２０を用いてハンダ付けされ、または電気伝導性接着剤を用いて電
気的に接続される。導電性ブロック４００は、また、製造の際に位置ズレを防ぐために非
伝導性接着剤４４０を用いてチップ・キャリア１２０’に接合される。
導電性ブロック４００は、シリコーン・ベースの材料の接着性に良好に適合するために
、一方の面または両方の面がニッケル（Ｎｉ）メッキされている。同様に、銅で作られる
リッドもまた、ニッケル・メッキされている。さらに、当業者は、低くて安定な接触抵抗
を与える他の表面処理材が、ブロックまたはリッドのいずれかに対して使用できることを
知っているであろう。これらの表面処理材は、不活性化された銅、錫、錫−鉛、または金
、銀、パラジウム、銀−パラジウムまたはパラジウム−ニッケル合金のような貴金属を含
む。
上述したように、導電性ブロック４００は、製造プロセスが、標準ピック・アンド・プ
レイス作業を行えるように、一般的にチップ・キャリア上に配置される、標準の表面実装
技術（Ｓｕｒｆａｃｅ Ｍｏｕｎｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ：ＳＭＴ）の個別部品の大き
さを有することが好ましい。好ましい実施例では、リッド１６０は、半導体パッケージ１
００’の部分平面図を示す図５に示すように、導電性ブロック４００−１〜４００−４に
よりチップ・キャリア１２０’のグラウンド・トラックに電気的に接続される。さらに、
導電性ブロック４００は、図４において２つの別個のパッドにハンダ付けされるが、１つ
のパッドのみが、チップ・キャリア１２０’のグラウンド・トラックとリッド１６０を電
気的に接続することを必要とされる。
積層チップ・キャリア面に沿ってハンダ接合で取り付けられる銅ブロック、およびリッ
ド側の電気および熱の伝導性接着剤は、熱拡散装置（リッド）から積層チップ・キャリア
内のグラウンド・ネットワークへの理想的な熱放散経路として働き、電子パッケージの熱
放散特性を高める。同じ熱効率の利点は、非電気伝導性樹脂であるが、銅ブロックとリッ
ドとの間の特定のまたは最適化された熱伝導特性を有する樹脂を用いて実現できる。
図６は、本発明による半導体パッケージの第２の実施例を示す。半導体パッケージ１０
０”は、チップ・キャリア１２０’上に配置され、Ｃ４ハンダ・ボール１３０により外部
導電層の信号トラックおよびグラウンド・トラックに電気的に接続される半導体チップ１
１０を更に備える。チップ１１０とチップ・キャリア１２０’との間に形成される空洞は
、チップとチップ・キャリアとの電気的な相互接続を補強するために、エポキシのような
誘電体材料で充填される。同様に、チップ・キャリア１２０’は、導電性ＢＧＡハンダ・
ボール１５０を用いてＰＣＢ（明瞭にするために図示しない）に電気的に接続され、熱放
散のために用いられるリッド１６０は、熱接着剤１７０を用いてチップ１１０に熱的に接
続され、接合される。
本発明の第２の実施例によれば、図４の導電性ブロック４００は、例えばＣｕＢｅ（銅
ベリリュウム合金）であるスプリング６００によって置き換えられる。リッド１６０とチ
ップ・キャリア１２０’との間の接続部のスプリング形状は、銅リッドが例えばセラミッ
ク・キャリアに実装されるとき、または銅リッドが有機積層板に取り付けられるときに、
大型構成部品（リッドおよびキャリア）間の熱膨張係数（ＣＴＥ）の不一致を効果的に補
償することができる。ＣｕＢｅスプリングが、図５に示すように半導体パッケージの長い
対角線に沿って配置されるならば、大きな有益的効果が得られることに注目しなければな
らない。
上述したように、本発明は、製造現場で一般に利用可能な標準プロセス・フローおよび
装置セットの利用可能なプロセス能力に基づいている。例えば、導電性ブロック４００は
、金属リールから得られ、エンボス・テープに貼り付けられ、そのテープはピック・アン
ド・プレイス利用のためにリールに巻き取られる。
キャリアとリッドの間のギャップの９０％は、導電性ブロックまたはスプリングによっ
て占められ、電気伝導性材料で充填される薄いギャップのみを残す。その材料の付与は、
他のシリコーン・ベースの材料が、リッドとチップの裏面との間に付与されるときに、同
じ機械で同時間に行われる。リッド取り付け作業は、同じままである。発生する歪みと応
力は、シリコーンと、またはセラミックのような他の材料と比較するならば、導電性ブロ
ックの種々の特性のためにここでは影響しない。リッドとチップ・キャリアまたはリッド
と半導体との間のＣＴＥ不一致は、シリコーン接着剤の順応する性質のために影響しない
。導電性ブロックのハンダ付けは、一般に行われている製造プロセス・フローと充分に適
合性があり、得られるハンダ接合は、例えば接着剤ポストと比べて機械的に強い。
図７および図８は、本発明を実施できる、半導体パッケージングに用いられる製造プロ
セス・フローの主要な工程を示す。本発明を実施するための唯一の要件が、チップ・キャ
リアの表面層でリッド側に、グラウンド・トラックに接続されるパッドを設計することに
あるので、ベア・チップ・キャリアは、標準の設計ルールとプロセスにより製造される（
ステップ７００）。このようなパッド設計は、例えばチップ電気接続に用いられる標準作
業である。次に、チップを接続するために積層チップ・キャリアのＣ４受け取りパッドに
ハンダ合金を付着する標準工程の際に、ハンダは、チップ・キャリア・パッドにも付着さ
れ、個別部品と、チップ・キャリアとリッドを連結する導電性ブロックとは、チップ・キ
ャリア・パッドに配置されなければならない（ステップ７０５）。ハンダが与えられた後
、個別部品と、チップ・キャリアとリッドを連結する導電性ブロックとは、自動的にピッ
ク・アンド・プレイスされる（ステップ７１０）。上述したように、ほぼ同じ大きさを有
する個別部品および導電性ブロックは、両作業に使用される同じピック・アンド・プレイ
ス・ツールを容認する。当然のことながら、上述したように、少量の接着剤は、チップ・
キャリアと個別部品および導電性ブロックとの間に、これらが配置される前に、位置ズレ
を防ぐために配置される。同様に、半導体チップが、ピック・アンド・プレイスされる（
ステップ７１５）。これらのピック・アンド・プレイス工程に続いて、個別部品と、チッ
プ・キャリアとリッドを連結する導電性ブロックと、チップとをハンダ付けするためにリ
フロー作業に入る（ステップ７２０）。次に、ＢＧＡハンダ・ボールが、適切な位置に置
かれ、リフロー作業が行われ（ステップ７２５）、電気テストの後、半導体チップとチッ
プ・キャリアとの間にある空間は、硬化する誘電体材料で充填される（ステップ７３０）
。次に、樹脂のような接着剤が、半導体チップと、チップ・キャリアとリッドを連結する
導電性ブロックとの上に配置される（ステップ７３５）。半導体チップの上に配置される
接着剤は、絶縁性であり、チップ・キャリアとリッドを連結する導電性ブロックの上に配
置される接着剤は、導電性である。接着剤が付与されると、リッドが配置され、接着剤が
硬化する（ステップ７４０）。
プロセスは、導電性ブロックがチップ・キャリアとリッドを連結するために用いられる
第１の実施例に従って本発明を実施することを記述したが、導電性スプリングがチップ・
キャリアとリッドを連結するために用いられる第２の実施例を実施するプロセスは、正に
同じものである。
したがって、図７および図８から分かるように、本発明は、半導体チップ・パッケージ
製造の標準プロセス・フローに基づいており、製造コストを増加することなく、効果的な
熱放散および電磁妨害シールドを可能にする。
当然に、ＳＭＴ個別部品は、導電性ブロックまたはスプリングを置き換えるために使用
でき、特定の特徴、例えば大きさ、熱膨張係数、付着力を有する適応した導電性ブロック
を作ることを防ぐ。このような場合、ＳＭＴ個別部品は、チップ・キャリア・グラウンド
とリッドを接続するためだけに使用され、それらは、レジスタまたはキャパシタとして作
用しない。同様に、幾つかの機能を統合する他の部品を使用することは可能であり、その
１つの部品は、チップ・キャリア・グラウンドとリッドを電気的に接続するために使われ
、受動電子部品との電気的接触をとるための残りの２つの部品は、本来の個別部品の目的
に使われる。
当然に、固有および特有な要件を満足するために、当業者は、上述した解決法に、本発
明の保護の範囲内に含まれる多くの変形と変更を適用できる。
まとめとして、本発明の構成に関して以下の事項を開示する。
（１）一方の面に少なくとも１つのグラウンド・パッドを有するチップ・キャリアと、前
記チップ・キャリアの前記一方の面に接続される少なくとも１つの半導体チップと、前記
少なくとも１つの半導体チップに熱的に接続される導電性リッドと、少なくとも１つの導
電性ブロックとを備え、前記少なくとも１つの導電性ブロックは、前記少なくとも１つの
グラウンド・パッドおよび前記導電性リッドに電気的に接続される半導体パッケージ。
（２）前記少なくとも１つの導電性ブロックは、前記少なくとも１つのグラウンド・パッ
ドにハンダ付けされている上記（１）に記載の半導体パッケージ。
（３）前記少なくとも１つの導電性ブロックは、電気伝導性接着剤で前記少なくとも１つ
のグラウンド・パッドに電気的に接続される上記（１）または（２）に記載の半導体パッ
ケージ。
（４）前記少なくとも１つの導電性ブロックは、電気伝導性接着剤で前記導電性リッドに
電気的に接続される上記（１）〜（３）のいずれかに記載の半導体パッケージ。
（５）前記少なくとも１つの導電性ブロックは、電気絶縁性接着剤を用いて前記チップ・
キャリアに更に結合される上記（１）〜（４）のいずれかに記載の半導体パッケージ。
（６）前記少なくとも１つの導電性ブロックは、最適化された熱伝導性接着剤を用いて前
記チップ・キャリアに更に結合される上記（１）〜（５）のいずれかに記載の半導体パッ
ケージ。
（７）前記少なくとも１つの導電性ブロックは、導電性スプリングである上記（１）〜（
６）のいずれかに記載の半導体パッケージ。
（８）前記少なくとも１つの導電性ブロックは、ＳＭＴ個別部品である上記（１）〜（６
）のいずれかに記載の半導体パッケージ。
（９）少なくとも１つのグラウンド・パッドを有するチップ・キャリアを備える半導体パ
ッケージの製造方法であって、
前記少なくとも１つのチップ・キャリア・グラウンド・パッドに第１の電気伝導性接着
剤を付与する工程と、
前記電気伝導性接着剤に接触して少なくとも１つの導電性ブロックをピック・アンド・
プレイスする工程と、
前記チップ・キャリアの上に少なくとも１つの半導体チップをピック・アンド・プレイ
スする工程と、
前記少なくとも１つの導電性ブロックに第２の電気伝導性接着剤を付与する工程と、
前記少なくとも１つの半導体チップに電気絶縁性接着剤を付与する工程と、
前記第２の電気伝導性接着剤および前記電気絶縁性接着剤に接触して導電性リッドを配
置する工程と、
を含む方法。
（１０）前記第１の電気伝導性接着剤は、ハンダを含む上記（９）に記載の方法。
（１１）前記少なくとも１つの導電性ブロックは、導電性スプリングまたはＳＭＴ個別部
品である上記（９）または（１０）に記載の方法。
リッドが、基準集積回路パッケージおいて、半導体チップの上に一般に実装される方法を示す図である。 電磁妨害をシールドするためのリッド実装の従来技術の解決法を示す図である。 半導体チップが配置される基板の上面の一部平面図であり、図２に示される解決法を用いるときに如何に正確にリッドを配置しなければならないかを示す図である。 本発明の第１の実施例を示す半導体パッケージの一部断面図である。 図４の半導体パッケージの平面図である。 本発明の第２の実施例を示す半導体パッケージの一部断面図である。 本発明を実行する製造プロセス・フローが、いかにチップ・パッケージングの標準製造プロセス・フローを用いているかの例を示す図である。 本発明を実行する製造プロセス・フローが、いかにチップ・パッケージングの標準製造プロセス・フローを用いているかの例を示す図である。
符号の説明
１００，１００’，１００” 半導体パッケージ
１１０，２２０，３１０ チップ
１２０，１２０’ チップ・キャリア
１３０ Ｃ４ハンダ・ボール
１５０ ＢＧＡハンダ・ボール
１６０，２４０ リッド
１７０ 熱接着剤
１８０ ピース
２００ 集積回路パッケージ
２１０，３００ 基板
２３０ 接合パッド
２５０ 突起部
２６０，４４０ 電気非伝導性接着剤
２７０，４１０，６１０ 電気伝導性接着剤
２８０ 熱インターフェース材料
３２０ 基板パッド
３３０ 円
４００，４００−１，４００−２，４００−３，４００−４ 導電性ブロック
４２０，６２０ ハンダ
４３０，６３０ パッド
６００ スプリング

Claims (1)

  1. 一方の面に少なくとも１つのグラウンド・パッドを有するチップ・キャリアと、
    前記チップ・キャリアの前記一方の面に接続される少なくとも１つの半導体チップと、
    前記少なくとも１つの半導体チップに熱的に接続される導電性リッドと、
    少なくとも１つの導電性ブロックとを備え、前記少なくとも１つの導電性ブロックは
    前記少なくとも１つのグラウンド・パッドおよび前記導電性リッドに電気的に接続される、
    半導体パッケージであって、
    前記少なくとも１つの導電性ブロックは、導電性スプリングであり、かつ、
    前記半導体パッケージの対角線に沿って配置されている、
    半導体パッケージ。
JP2007316155A 2003-01-30 2007-12-06 半導体パッケージ Expired - Fee Related JP4805901B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

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