JP2008065317A - 光デバイスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光デバイスのコア層となるべき部位を有する第1の基板と光デバイスを集積させるための第2の基板を用意し、コア層上の一部に第1の電極を形成し、第1及び第2の基板の少なくとも一方の基板上面にSODを塗布し、第1の基板の第1の電極が形成された側と第2の基板とを接合し、接合した第1の基板と第2の基板とを加熱し、コア層及び第1の電極を残して第1の基板を除去し、コア層上の一部に第2の電極を形成し、コア層にエッチングにより複数の溝又は貫通孔を有する構造を形成し、エッチングにより第1の電極の一部を露出し、第1及び第2の電極に接続する電極配線を形成する、光デバイスの製造方法である。
【選択図】図9
Description
平田照二著、わかる半導体レーザの基礎と応用、CQ出版社、p.63、p.66、p.162。 H.-G. Park and et al.、"Characteristicsof Electrically Driven Two-Dimensional Photonic Crystal Lasers、" IEEE Journal of Quantum Electronics、Vol. 41、No. 9、pp. 1131-1141 (2005)。
(1)光デバイスのコア層となるべき部位を有する第1の基板と光デバイスを集積させるための第2の基板を用意する工程と、
コア層上の一部に第1の電極を形成する工程と、
第1及び第2の基板の少なくとも一方の基板上面にSODを塗布する工程と、
第1の基板の第1の電極が形成された側と第2の基板とを接合する工程と、
接合した第1の基板と第2の基板とを加熱する工程と、
コア層及び第1の電極を残して第1の基板を除去する工程と、
コア層上の一部に第2の電極を形成する工程と、
エッチングによりコア層に複数の溝又は貫通孔を有する構造を形成する工程と、
エッチングにより第1の電極の一部を露出させる工程と、
第1及び第2の電極に接続する電極配線を形成する工程
とを含む、光デバイスの製造方法。
(2)上記複数の溝又は貫通孔を有する構造が2次元フォトニック結晶スラブ構造であることを特徴とする上記(1)に記載の光デバイスの製造方法。
(3)上記複数の溝又は貫通孔を有する構造が1次元フォトニック結晶スラブ構造、擬結晶構造、CGSEL構造、細線導波路構造、リッジ導波路構造、リング共振器構造、又は、マイクロディスク構造のいずれかであることを特徴とする(1)に記載の光デバイスの製造方法。
(4)上記複数の溝又は貫通孔を有する構造を有するコア層の上面に低屈折率絶縁性材料を被着させる工程を含むことを特徴とする上記(1)乃至(3)のいずれかに記載の光デバイスの製造方法。
(5)上記複数の溝又は貫通孔を有する構造を有するコア層の上面に低屈折率絶縁性材料を被着させる工程において、SODを塗布する工程が含まれることを特徴とする上記(4)に記載の光デバイスの製造方法。
(6)上記コア層において、電極形成を行う所定の場所の少なくとも一部にコンタクト層が形成されていることを特徴とする上記(1)乃至(5)のいずれかに記載の光デバイスの製造方法。
(7)上記第2の基板には、電子回路が形成されていることを特徴とする上記(1)乃至(6)のいずれかに記載の光デバイスの製造方法。
(8)上記第2の基板には、光回路が形成されていることを特徴とする上記(1)乃至(7)のいずれかに記載の光デバイスの製造方法。
(9)上記第2の基板が、Si基板又はSOI基板であることを特徴とする上記(1)乃至(8)のいずれかに記載の光デバイスの製造方法。
(10)上記第1の基板が有する光デバイスのコア層となるべき部位が、化合物半導体からなることを特徴とする上記(1)乃至(9)のいずれかに記載の光デバイスの製造方法。
(11)上記光デバイス上に光素子を1つ以上積層する工程を含むことを特徴とする上記(1)乃至(10)のいずれかに記載の光デバイスの製造方法。
このとき、化合物半導体基板には、電極−半導体界面の電流−電圧特性を良好にするためのコンタクト層を導入しておくことが望ましい(図2)。コンタクト層を導入することにより、光デバイスの高効率化が実現される。コンタクト層は、コア層の上下面に導入しておく。例えば、コンタクト層の導入は、基板を結晶成長させる際に行うことが可能である。
そして、低屈折率絶縁性材料の原料を含有する溶液を用いて、電極が形成された化合物半導体基板とSi基板のウエハ接合を行う(図4)。
本明細書においては、低屈折率絶縁性材料の原料を含有する溶液のことを、SODと略称する。
また、上記実施例では、コア層の材料を化合物半導体としたが、本発明では、光デバイスとして用いられる任意の材料(例えば、不純物を添加したSi)を用いることが可能である。ここで、化合物半導体(例えば、GaAs、InP、GaN)は、レーザ等の能動光デバイスを実現するための代表的な材料である。
また、電極を有する2DPCスラブ光デバイスの上に、様々な機能素子(例えば、光素子)を積層してもよい。
本発明においては、上記実施例で示した以外の基板剥離法を用いることも、勿論、可能である。その場合、エッチストップ層を導入した基板を用意する必要はない。他の基板剥離法としては、例えば、CMP(Chemical Mechanical Polishing)法、水素イオン注入による剥離法、犠牲層を用いた剥離法が挙げられる。
また、上記実施例では、エッチストップ層に接してコンタクト層を導入した。しかしながら、エッチストップ層の上に、一旦、コア層の品質を高くする目的等でバッファ層を導入した後、コンタクト層及びコア層を導入することも可能である。その場合には、図5で示したエッチストップ層の除去工程後に、バッファ層を除去するための工程を追加すればよい。
例えば、CVD法による被膜により、凹凸を完全に平坦化させることが可能であれば、基板同士を、SODを用いることなくウエハ接合させることが可能となる。しかしながら、通常、SODを用いない直接ウエハ接合法が要求する高いレベルまで表面を平坦化することは難しい。よって、本発明では、ウエハ接合前に、各基板に低屈折率絶縁性材料を被覆した場合にも、最終的には、SODを少なくとも一方の基板表面に塗布し、ウエハ接合を行うことが望ましいと考える。これは、実用化の際の歩留まりを考えた場合、非常に重要である。
本発明では、勿論、図7に示すような電極構造に対して、他の任意の従来法を用いて電極配線を導入することも許される。例えば、図7の構造に対して、ワイヤボンディングを用いて直接電極配線を導入する方法も考えられるし、リフトオフ法を用いて電極配線を導入する方法も考えられる。
ここで、基板上部へのクラッド層の導入は、電極配線形成前に行ってもよいし、後に行ってもよい。例えば、LSI配線技術と同様の方法を用いる場合には、電極配線形成前の導入が容易である。一方、例えば、ワイヤボンディング、リフトオフ法を用いる場合には、電極配線形成後の導入の方が容易である。
但し、特殊な2DPCスラブ構造を用いることで、上下非対称性に起因する問題を回避することも可能であるので、そのような特殊な場合には、上下非対称構造を用いることも可能である。
図12は、実際に作製を行った2DPCスラブ構造の模式図である。光デバイスのコア層となるべき部位としては化合物半導体のGaAsを、第2の基板としてはSi基板を用いた。また、SODとしては有機ポリマー(CYCLOTENE樹脂)を用いた。
上記の構造に、電極構造を付加する工程を加えることで、図9で示した2DPCスラブ光デバイスが実現される。
Claims (11)
- 光デバイスのコア層となるべき部位を有する第1の基板と光デバイスを集積させるための第2の基板を用意する工程と、
コア層上の一部に第1の電極を形成する工程と、
第1及び第2の基板の少なくとも一方の基板上面にSODを塗布する工程と、
第1の基板の第1の電極が形成された側と第2の基板とを接合する工程と、
接合した第1の基板と第2の基板とを加熱する工程と、
コア層及び第1の電極を残して第1の基板を除去する工程と、
コア層上の一部に第2の電極を形成する工程と、
エッチングによりコア層に複数の溝又は貫通孔を有する構造を形成する工程と、
エッチングにより第1の電極の一部を露出させる工程と、
第1及び第2の電極に接続する電極配線を形成する工程
とを含む、光デバイスの製造方法。 - 上記複数の溝又は貫通孔を有する構造が2次元フォトニック結晶スラブ構造であることを特徴とする請求項1に記載の光デバイスの製造方法。
- 上記複数の溝又は貫通孔を有する構造が1次元フォトニック結晶スラブ構造、擬結晶構造、CGSEL構造、細線導波路構造、リッジ導波路構造、リング共振器構造、又は、マイクロディスク構造のいずれかであることを特徴とする請求項1に記載の光デバイスの製造方法。
- 上記複数の溝又は貫通孔を有する構造を有するコア層の上面に低屈折率絶縁性材料を被着させる工程を含むことを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の光デバイスの製造方法。
- 上記複数の溝又は貫通孔を有する構造を有するコア層の上面に低屈折率絶縁性材料を被着させる工程において、SODを塗布する工程が含まれることを特徴とする請求項4に記載の光デバイスの製造方法。
- 上記コア層において、電極形成を行う所定の場所の少なくとも一部にコンタクト層が形成されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の光デバイスの製造方法。
- 上記第2の基板には、電子回路が形成されていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の光デバイスの製造方法。
- 上記第2の基板には、光回路が形成されていることを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の光デバイスの製造方法。
- 上記第2の基板が、Si基板又はSOI基板であることを特徴とする請求項1乃至8のいずれかに記載の光デバイスの製造方法。
- 上記第1の基板が有する光デバイスのコア層となるべき部位が、化合物半導体からなることを特徴とする請求項1乃至9のいずれかに記載の光デバイスの製造方法。
- 上記光デバイス上に光素子を1つ以上積層する工程を含むことを特徴とする請求項1乃至10のいずれかに記載の光デバイスの製造方法。
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