JP2008051698A - 双方向光モジュールおよびこれを用いた光パルス試験器 - Google Patents

双方向光モジュールおよびこれを用いた光パルス試験器 Download PDF

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Abstract

【課題】小型で、かつ測定精度の高い、双方向光モジュールおよびこれを用いた光パルス試験器を提供する。
【解決手段】本発明の双方向光モジュール100は、光ファイバ71に入射する光を発光する1または2以上の発光素子110、130と、光ファイバ71から出射された光を受光する受光素子190と、光ファイバ71から出射された光を受光素子190に導く合分岐素子160と、を備え、合分岐素子160と受光素子190との間に、受光素子190に入射させる光が通過する開口部186が形成された迷光遮蔽部材185を備える。迷光遮蔽部材185を設けることにより、迷光100bを遮蔽し、一方で、光ファイバ71から出射された光100aは迷光遮蔽部材185に形成された開口部186を通過して受光素子190の受光面191に結合する。これにより、戻り光レベルや反射点位置の検出誤差の増加を防ぐことができる。
【選択図】図1

Description

本発明は、双方向光モジュールに関し、より詳細には、光ファイバ通信網の破断点測定等に用いられる光パルス試験器に用いる双方向光モジュールに関する。
光通信システムや、光を用いた例えば光ファイバセンサ等の測定機器は、光を出射する光源および光を受光する受光部とを備える。また、光通信システムの保守・管理等に用いられる測定機器は、被測定光ファイバに測定用の光を出射する光源および被測定光ファイバによって伝送された光を受光する受光部を備えている。
例えば、光信号によりデータ通信等を行う光通信システムでは、光信号を伝送する光ファイバの状態を監視するため、光ファイバの敷設や保守等において、例えばOTDR(Optical Time Domain Reflectometer)と呼ばれる光パルス試験器が用いられる。OTDRは、被測定光ファイバに対してパルス光を繰り返し入力し、被測定光ファイバからの反射光および後方散乱光のレベルと受光時間とを測定することで、被測定光ファイバの断線や損失等の状態を測定する。
光パルス試験器は、送信部および受信部を同一のケースに収め、ひとつにモジュール化した双方向光モジュールやBIDI(Bi−Directional)モジュール等を備える。これらのモジュールは、近年のFTTH(Fiber To The Home)の普及に伴い低価格となり、OTDRに限らず、その他の測定機器や光通信システムにも多く使用されている。
例えば、特許文献1および特許文献2には、双方向光モジュールを用いたOTDRの構成が開示されている。例えば図7に示すように、OTDRは、双方向光モジュール10と、LD駆動部20と、サンプリング部30と、信号処理部40と、表示部50とを備える。
双方向光モジュール10は、測定コネクタ60を介して被測定光ファイバ73にパルス光を出力し、被測定光ファイバ73からの戻り光を受光するモジュールである。LD駆動部20は、双方向光モジュール10内の光源を駆動する駆動部である。サンプリング部30は、双方向光モジュール10内の受光部からの電気信号(光電流)を電圧に変換してサンプリングする機能部である。信号処理部40は、LD駆動部20を介して双方向光モジュール10にパルス光を出力させ、また、サンプリング部30にサンプリングを行わせる機能部である。さらに、信号処理部40は、サンプリング部30によるサンプリング結果の電気信号の演算処理を行う。表示部50は、信号処理結果を表示する機能部であり、例えばディスプレイ等を用いることができる。
従来の双方向光モジュール10は、例えば図8に示すように、光を発光する発光素子11、13と、光を平行光にするレンズ12、14と、複数の光を1つの光に合波する合分波素子15と、光を集光するレンズ17、18と、光を分岐する合分岐素子16と、光を受光する受光素子19とを備える(例えば、特許文献1〜3)。
双方向光モジュール10において、例えば、発光素子11は波長λの光を出射し、発光素子13は波長λの光を出射する。発光素子11、13から出射された波長λ、λの光は、それぞれレンズ12、14によって平行光とされて、合分波素子15により合波される。合分波素子15により合波された光は、レンズ17により集光されて光ファイバ71に入射した後、測定コネクタ60により光ファイバ71と接続された被測定光ファイバ73に入射する。
被測定光ファイバ73に入射した光は、被測定光ファイバ73内の破断点または接続点で反射し、その戻り光が再び被測定光ファイバ73をたどって、測定コネクタ60により接続された光ファイバ71を介して双方向光モジュール10に入射する。この戻り光は、レンズ17によって平行光とされた後、合分岐素子16によって戻り光の一部または全部が受光素子19へ導かれる。合分岐素子16により受光素子19側へ反射された光は、レンズ18により集光されて、受光素子19に入射する。
また、双方向光モジュールとして、図9に示すような光ファイバカプラを用いることもできる(例えば、特許文献4)。光ファイバカプラ型の双方向光モジュール10’は、発光素子11’、13’と、合分波光カプラ15’と、光分岐カプラ16’と、受光素子19’とを備える。2つの発光素子11’、13’から出射された光は、合分波光カプラ15’に入射して合波される。合波された光は、光分岐カプラ16’を介して、測定コネクタ60により接続された被測定光ファイバ73へ入射する。
被測定光ファイバ73に入射した光は、被測定光ファイバ73内の破断点または接続点で反射し、その戻り光が再び被測定光ファイバ73をたどって双方向光モジュール10に入射する。この戻り光は、光分岐カプラ16’により分岐されて、受光素子19’に入射する。なお、合分波光カプラ15’の一方の出力端aと、光分岐カプラ16’の一方の出力端bは、無反射端となるように処理がなされている。
特開2001−305017号公報 特開平4−296812号公報 特開平8−166526号公報 特開平10−336106号公報
しかし、従来の双方向光モジュールにおいて、図8に示す構成の双方向光モジュール10では、光学部品や、金属ケース等の部品の面において反射・散乱した光である迷光が減衰を繰り返す現象が生じる。ここで、受光素子19の受光面19cは、受光面19cの中心に位置する第1の受光エリア19aと、第1の受光エリア19aの周囲に設けられる第2の受光エリア19bとからなり、第1の受光エリア19aは、第2の受光エリア19bと比べて周波数特性のよい領域であるとする。このような受光素子19に、例えば、図10に示すように、戻り光10aが受光素子19の第1の受光エリア19aに入射するのに対して、迷光10bの大部分は、光10aとは異なる角度からレンズ18に入射する。このとき、迷光10bは、レンズ18により第2の受光エリア19bに集光される。
ここで、双方向光モジュール10を用いた光パルス試験器1により、被測定光ファイバ73内の破断点または接続点を測定すると、図11に示すような形状の波形が得られる。光パルス試験器1は、破断点または接続点を検出すると戻り光の信号レベルが高くなり、図11のA点のように突出した波形(フレネル反射波形)が現れる。このとき、受光素子19が迷光10bを受光すると、戻り光レベルや反射点位置の検出誤差が増加してしまう。
特に、第2の受光エリア19bでの迷光10bの受光が多いと、被測定光ファイバ73の破断点または接続点において反射された光の測定結果を示す波形の、アッテネーションデッドゾーンと呼ばれる裾引きを大きくしてしまうという問題がある。迷光10bには、発光素子11、13から出射された光に起因するものと、被測定光ファイバ73からの戻り光に起因するものとがある。前者は、被測定光ファイバ73からの戻り光よりも早く受光素子19に受光されるため、主に、機器に近い地点での反射点を検出する場合に問題となる。一方後者は、本来の戻り光レベルに迷光成分が加算されて戻り光レベルのレベル誤差を生じさせるだけでなく、裾引きが大きくなることによって近接する2つの反射点の識別が困難となり、損失を識別することが困難となる。
一方、光ファイバカプラ型の双方向光モジュール10’において光ファイバは、極めて細い導波路であるために、戻り光をレンズにより意図的に結合して導波する反面、戻り光と異なる角度で散乱する迷光に対してはピンホールのように進路を制限するように作用してしまう。このように、光ファイバカプラ型の双方向光モジュール10’は光学系内部で発生する不要な反射光や散乱光である迷光が受光素子19’に入射しにくい構造となっている。このため、光ファイバカプラ型の双方向光モジュール10’は、被測定光ファイバ73内の破断点において反射された光の測定結果を示す波形の裾引きは小さいが、部品コストが高く、ファイバフォーミングが光ファイバの最小曲げ径により決定されるためモジュールのサイズを小型化することが困難である。
そこで、本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的とするところは、小型であり、かつ測定精度の高い、新規かつ改良された双方向光モジュールおよびこれを用いた光パルス試験器を提供することにある。
上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、光ファイバに入射する光を発光する1または2以上の発光素子と、光ファイバから出射された光を受光する受光素子と、光ファイバから出射された光を受光素子に導く合分岐素子と、を備え、合分岐素子と受光素子との間に、受光素子に入射させる光が通過する開口部が形成された迷光遮蔽部材を備える、双方向光モジュールが提供される。
受光素子の受光面には、光ファイバから出射された光の他に、双方向光モジュール内で反射・散乱した光である迷光が入射する可能性がある。迷光は、戻り光レベルや反射点位置の検出誤差を増加させる要因となる。そこで、本発明は、迷光遮蔽部材を設けることにより、迷光を遮蔽し、一方で、光ファイバから出射された光は迷光遮蔽部材に形成された開口部を通過して受光素子の受光面に結合する。これにより、戻り光レベルや反射点位置の検出誤差が増加するのを防ぎ、双方向光モジュールの測定精度を高めることができる。
ここで、受光素子の受光面は、第1の受光エリアと、第1の受光エリアより周波数特性の低い第2の受光エリアとからなる。そこで、迷光遮蔽部材と受光素子との間に、開口部を通過した光を第1の受光エリアに集光する第1の集光素子をさらに備えてもよい。これにより、開口部を通過した光を確実に周波数特性のよい第1の受光エリアに結合させることができる。
また、開口部の面積は、受光素子の第1の受光エリアの面積以下である。周波数特性が受光面上の位置によって異なる場合、周波数特性のよい位置で光を受光することにより、精度よく検出することができる。そこで、開口部を通過する光を受光素子の受光面のうち周波数特性のよい第1の受光エリアで検出し易くするために、受光素子の第1の受光エリアの面積よりも開口部の面積を狭くする。
さらに、合分岐素子と迷光遮蔽部材との間に、合分岐素子により分岐された光を迷光遮蔽部材の開口部に集光する第2の集光素子を備えることもできる。第2の集光素子によって集光した光を、集光点と同等の微小な開口部で遮蔽することで、開口部を発光点とみなし、迷光遮蔽部材と受光素子との間に設けた第1の集光素子で確実に第1の受光エリアに結合することができる。
また、迷光遮蔽部材は、第2の受光エリアを覆うように設けてもよい。これにより、周波数特性の悪い第2の受光エリアでの受光を防止することができる。このとき、迷光遮蔽部材は、例えば光を反射する反射膜を第2の受光エリアに積層させたり、反射部材を第2の受光エリアを覆うように接着させる等の方法により、受光素子と一体化させることができる。
このような双方向光モジュールにおいて、受光素子は、例えば発光素子が出射した光の戻り光を光ファイバから受光することにより、光ファイバの損失特性を検出するように用いたり、外部機器から発光された光を光ファイバから受光することにより、外部機器との通信情報を検出するために用いたりすることもできる。
また、上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、光ファイバの損失特性を試験する光パルス試験器が提供される。かかる光パルス試験器は、光ファイバに光を出射し、光ファイバから戻り光が入射される双方向光モジュールと、光を所定のタイミングで発生させるように双方向光モジュールを駆動する双方向光モジュール駆動部と、双方向光モジュールに入射した光を電気信号に変換する電気信号変換部と、電気信号変換部にて変換された電気信号に基づいて、光ファイバの損失特性を算出する信号処理部と、を備える。ここで、双方向光モジュールは、光ファイバに入射される光を発光する1または2以上の発光素子と、光ファイバから出射された光を受光する受光素子と、光ファイバから出射された光を受光素子に導く合分岐素子と、を備え、合分岐素子と受光素子との間に、受光素子に入射させる光が通過する開口部が形成された迷光遮蔽部材を備えることを特徴とする。
本発明にかかる光パルス試験器の双方向光モジュールの受光素子の受光面には、光ファイバから出射された光の他に、双方向光モジュール内で反射・散乱した光である迷光が入射する可能性がある。迷光は、戻り光レベルや反射点位置の検出誤差を増加させる要因となる。そこで、本発明は、迷光遮蔽部材を設けることにより、迷光を遮蔽し、一方で、光ファイバから出射された光は迷光遮蔽部材に形成された開口部を通過して受光素子の受光面に結合する。これにより、戻り光レベルや反射点位置の検出誤差が増加するのを防ぎ、光パルス試験機の測定精度を高めることができる。
以上説明したように本発明によれば、小型であり、かつ測定精度の高い、双方向光モジュールおよびこれを用いた光パルス試験器を提供することができる。
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
(第1の実施形態)
まず、図1および図2に基づいて、本発明の第1の実施形態にかかる双方向光モジュール100について説明する。なお、図1は、本実施形態にかかる双方向光モジュール100の構成を示す構成概略図である。図2は、受光素子の受光状態を説明するための説明図である。
<双方向光モジュールの構成>
本実施形態にかかる光双方向モジュール100は、例えば図7に示す光パルス試験器1に用いることができる。上述したように、光パルス試験器1は、信号によりデータ通信等を行う光通信システムにおいて、被測定光ファイバに対してパルス光を繰り返し入力し、被測定光ファイバからの反射光および後方散乱光のレベルと受光時間とを測定することで、被測定光ファイバの断線や損失等の状態を測定する機器である。かかる光パルス試験器1に、本実施形態にかかる双方向光モジュール100を備えることにより、光パルス試験器1による測定精度を高めることができ、従来の光ファイバカプラ型の双方向光モジュール10’を用いた場合と比べて機器を小型化することができる。以下、本実施形態にかかる双方向光モジュール100の構成と、これを用いた光パルス試験器の動作について詳細に説明する。
本実施形態にかかる双方向光モジュール100は、図1に示すように、光を発光する発光素子110、130と、光を平行光にするレンズ120、140と、複数の光を1つの光に合波する合分波素子150と、光を集光するレンズ170、180と、光を分岐する合分岐素子160と、迷光遮蔽部材185と、光を受光する受光素子190とを備える。
発光素子110、130は、光ファイバ71に入射される光を発光する素子であり、例えばレーザダイオード(Laser Diode)を用いることができる。なお、本実施形態にかかる双方向光モジュール100は、2つの発光素子110、130を備えているが、1または2以上の発光素子を設けることができる。
レンズ120、140は、光を平行光にするためのレンズであり、例えばコリメータレンズ等を用いることができる。レンズ120は発光素子110から出射された光を、レンズ140は発光素子130から出射された光を平行光にする。
合分波素子150は、レンズ120、140を介して入射した光を合波するフィルタであり、例えばプリズム等を用いることができる。合分波素子150によって合波された光は、光ファイバ71に向かって出射される。
合分岐素子160は、光ファイバ71からの戻り光を受光素子190に導くための光学素子である。合分岐素子160には、例えばハーフミラー等のビームスプリッタを用いることができる。合分岐素子160は、入射した光の一部または全部を反射して、戻り光を受光素子190に入射させる。
レンズ170、180は、光を集光するためのレンズであり、例えば平凸レンズ等を用いることができる。レンズ170は、合分波素子150を介して光ファイバ71に入射する光を集光し、レンズ180は、合分岐素子160により分岐されて受光素子190に入射する光を集光する。
迷光遮蔽部材185は、受光素子190の受光面191に迷光100bが結合するのを防ぐための部材であり、特に、受光面191の中で周波数特性の悪い受光エリアにおいて結合する光を遮蔽する。迷光遮蔽部材185は、光を遮蔽する遮蔽部187と、受光素子190に受光させる光を通過させる開口部186とからなる。迷光遮蔽部材185は、例えば図2に示すように、光を遮蔽するニッケル合金等の金属板に、光を通過させる開口部186としてピンホールを形成することにより構成することができる。ピンホールは、例えば断面が略円形状の貫通孔であり、電気鋳造により形成することができる。このため、迷光遮蔽部材185の基板には、光を透過せず、精密な加工の可能な材質を用いるのがよい。また、他の構成の迷光遮蔽部材185として、ガラス基板に光を反射する薄膜を形成した後、エッチング加工により薄膜を除去して開口部186を形成したフォトマスクを用いてもよい。なお、開口部186の形状は、開口部186を通過した光が後述する受光素子190の第1の受光エリア191aで受光されるように、第1の受光エリア191aの形状に応じて決定することが望ましい。
受光素子190は、光を受光する素子であり、例えば、アバランシェフォトダイオード(Avalanche PhotoDiode;以下、「APD」とする。)を用いることができる。APDは、雪崩増幅効果を利用した受光素子であり、微弱な光も高感度に検出することができる。このため、APD(特に、小口径のAPD)は、微弱な戻り光を高い距離分解能で検出しなければならないOTDR等の受光素子に適している。受光素子190の受光面191は、図2に示すように、受光面191の中心に位置する第1の受光エリア191aと、第1の受光エリア191aの周囲に設けられる第2の受光エリア191bとからなる。ここで、第1の受光エリア191aは、第2の受光エリア191bと比べて周波数特性のよい領域である。第1の受光エリア191aの形状は、図2に示すように略円形であってもよく、楕円形や多角形であってもよい。
以上、本実施形態にかかる双方向光モジュール100の構成について説明した。次に、本実施形態にかかる双方向光モジュール100の機能を、この双方向光モジュール100を備えた光パルス試験器の動作とともに説明する。ここで、光パルス試験器の構成は図7と同様であり、双方向光モジュール10の代わりに本実施形態にかかる双方向光モジュール100が適用されているとする。
<双方向光モジュールを備えた光パルス試験器の動作>
まず、光パルス試験器の光パルス試験器40の信号処理部40により、LD駆動部20に対してあらかじめパルス光のパルス幅を設定する。次いで、信号処理部40内のタイミング発生手段(図示せず。)により、所定の間隔でタイミング信号をLD駆動部20に送信する。タイミング信号を受信したLD駆動部20は、タイミング信号に同期するように、双方向光モジュール100の発光素子110または発光素子130にパルス光を出力させる。
発光素子110から発光された波長λのパルス光は、レンズ120により平行光とされ、発光素子130から発光された波長λのパルス光は、レンズ140により平行光とされて、合分波素子150に入射する。合分波素子150は、発光素子110から出射された波長λの光を透過し、一方、発光素子130から出射された波長λの光は反射して、ともに合分岐素子160へ向かうように光を導く。そして、発光素子110から出射された波長λの光と発光素子130から出射された波長λの光は合分岐素子160を透過して、レンズ170に入射する。レンズ170は、入射した光を集光し、光ファイバ71に入射させる。
光ファイバ71の一端に入射した光は、光ファイバ71の他端と接続された測定コネクタ60を介して、断線や損失等の測定対象である被測定光ファイバ73に入射する。ここで、被測定光ファイバ73内部では、レイリー散乱が発生することがある。この散乱した光の一部はパルス光の進行方向とは逆方向に進み、後方散乱光として光パルス試験器1に戻る。また、被測定光ファイバ73の接続点や破断点では双方向光モジュール100から入射された光がフレネル反射し、その反射光も光パルス試験器1に戻る。
被測定光ファイバ73からのこれらの戻り光は、測定コネクタ60、光ファイバ71を介して双方向光モジュール100内に入射する。戻り光は、レンズ170により平行光とされた後、合分岐素子160によって受光素子190に入射するように分岐される。合分岐素子160により分岐された光は、レンズ180により集光される。集光された光は、迷光遮蔽部材185のピンホールを通過して、受光素子190の第1の受光エリア191aに入射する。
ここで、本実施形態にかかる双方向光モジュール100は、戻り光が受光素子190に入射する前に、迷光遮蔽部材185を設けることにより、双方向光モジュール100内で散乱等した迷光が受光素子190に入射するのを低減させることができる。すなわち、図2に示すように、被測定光ファイバ73からの戻り光100aは、レンズ180に対して垂直に入射して集光された後、迷光遮蔽部材185のピンホールを通過して、受光素子190の受光面191の第1の受光エリア191aに入射する。
一方、双方向光モジュール100内で反射・散乱した迷光100bは、その大部分が、減衰を繰り返す中で戻り光100aと異なる入射角度でレンズ180に入射する。このため、迷光100bは、迷光遮蔽部材185の遮蔽部187に集光される。ここで、迷光遮蔽部材185の遮蔽部187は光を透過しない材質で形成されているため、迷光100bは迷光遮蔽部材185を通過することができず、受光素子190の受光面191に入射することがない。このように、光パルス試験器の測定精度を低下させる原因となる受光素子190の不要な光の受光を防止することができる。
ここで、レンズ180は、戻り光100aの集光点の位置がピンホールの位置となるように戻り光100aを集光する位置に設けられるのがよい。これにより、ピンホールによって遮断される戻り光100aを低減することができる。
また、迷光遮蔽部材185の開口部186の面積は、受光素子190の第1の受光エリア191aの面積よりも小さいことが望ましい。これにより、開口部186を通過した光を周波数特性のよい第1の受光エリア191aで受光し易くすることができ、光パルス試験器の測定精度を高めることができる。
次いで、受光素子190は、戻り光を受光すると、戻り光の光パワーに応じた電気信号(光電流)に変換し、電気信号をサンプリング部30に出力する。そして、サンプリング部30は、内部のIV変換回路(図示せず。)により受光素子190からの光電流を電圧に変換した後、内部の多段のアンプ(図示せず。)によってこの電気信号を増幅する。さらに、サンプリング部30のAD変換回路(図示せず。)によって、信号処理部50のタイミング信号を時間的基準として、増幅された電気信号をアナログ信号である電気信号をデジタル信号にAD変換して、信号処理部50に出力する。
その後、信号処理部50は、タイミング信号を出力したタイミングおよびサンプリング部30から受け取ったデジタル信号に基づいて、発光素子110、130にパルス光を出射させてから戻り光を受光素子190にて受光するまでの時間を算出する。さらに、信号処理部50は、被測定光ファイバ73の測定距離、戻り光の光信号レベル測定を行い、距離と戻り光の光信号レベルの関係を測定結果として、表示部50に表示させる。なお、戻り光の光信号レベルは非常に微弱であるため、パルス光を繰り返し被測定光ファイバ73に出力し、信号処理部50にて複数回の測定値を平均化することにより、ノイズの低減を図ることができる。
ここで、図3に、本実施形態にかかる双方向光モジュール100を用いた光パルス試験器によって、被測定光ファイバ73の破断点または接続点を測定したときの波形を示す。図5において、実線は本実施形態にかかる双方向光モジュール100を用いた光パルス試験器による測定結果を示し、破線は従来の双方向光モジュール10を用いた光パルス試験器による測定結果を示す。
本実施形態にかかる双方向光モジュール100を用いた光パルス試験器は、被測定光ファイバ73の破断点または接続点での反射光を検出すると、図3における実線の波形のように、従来の光パルス試験器と同様、一部が突出した波形(フレネル反射波形)を示す。このとき、本実施形態にかかる双方向光モジュール100を用いた光パルス試験器が示す波形(実線)は、従来の光パルス試験器が示す波形(破線)と比較して、裾引きが小さい。これは、本実施形態にかかる双方向光モジュール100が、迷光100bを迷光遮蔽部材185の遮蔽部187により遮蔽し、受光素子190の第2の受光エリア191bに結合する迷光100bを低減することによる。このように、光パルス試験器に本実施形態の双方向光モジュール100を適用することにより、例えば近接した2つの反射点における反射も、後の反射波の突出部が前の反射波の裾引きと重なって埋もれてしまうことがなく、従来の光パルス試験器と比較して測定精度の高い光パルス試験器を提供することができる。
以上、第1の実施形態にかかる双方向光モジュール100と、これを用いた光パルス試験器の動作について説明した。第1の実施形態にかかる双方向光モジュール100は、迷光100bが受光素子190に入射することを防止するために、合分岐素子160と受光素子190との間に迷光遮蔽部材185を設ける。これにより、受光素子190に入射する光100aは、迷光遮蔽部材185の開口部186を通過して受光素子190の第1の受光エリア191aに結合し、迷光100bは、迷光遮蔽部材185の遮蔽部187により遮蔽される。このように、迷光100bが第1の受光エリア191aより周波数特性が悪い第2の受光エリア191bに結合する前に、迷光遮蔽部材185により除去されるため、裾引きも小さくなり、双方向光モジュール100の測定精度を高めることができる。さらに、光ファイバカプラ型の双方向光モジュールと比べて、双方向光モジュール100のサイズを小型化することができる。
なお、第1の実施形態にかかる双方向光モジュール100において、迷光遮蔽部材185を受光素子190に近接または接触させて設けるようにしてもよい。このとき、迷光遮蔽部材185の開口部186と受光素子190の第1の受光エリア191aの形状および面積は略同一であることが望ましい。例えば、第2の受光エリア191b全体を覆うように、受光面191の表面に迷光遮蔽部材185として金属膜または誘電体多層膜等の反射膜を積層させたり、誘電体からなる反射部材を第2の受光エリア191bに接触して設ける等の方法により、迷光遮蔽部材185と受光素子190とを一体に形成することができる。これにより、受光素子190の受光面191のうち第2の受光エリア191bが迷光遮蔽部材185により覆われるので、第2の受光エリア191bにおいて迷光100bを受光することを防ぐことができる。
(第2の実施形態)
次に、図4および図5に基づいて、本発明の第2の実施形態にかかる双方向光モジュールについて説明する。本実施形態の双方向光モジュール200は、第1の実施形態の双方向光モジュール100と比較して、迷光遮蔽部材185と受光素子190との間にレンズ295を設けた点で相違する。なお、図4は、第2の実施形態にかかる双方向光モジュール200の構成を示す構成概略図である。図5は、本実施形態にかかる受光素子190の受光状態を説明するための説明図である。
本実施形態にかかる双方向光モジュール200は、図4に示すように、光を発光する発光素子110、130と、光を平行光にするレンズ120、140と、複数の光を1つの光に合波する合分波素子150と、光を集光するレンズ170、180、295と、光を分岐する合分岐素子160と、迷光遮蔽部材185と、光を受光する受光素子190とを備える。
レンズ295は、迷光遮蔽部材185の開口部186を通過した光100aを、受光素子190の第1の受光エリア191aに集光するために設けられる。迷光遮蔽部材185の開口部186は、戻り光110aとは異なる角度で入射する迷光100bがなるべく通過しないように小径に形成される。このため、戻り光100aが開口部186を通過するときの損失を小さくするよう、レンズ180による戻り光100aの集光点がほぼ開口部186に位置することが望ましい。しかし、集光した光は徐々に広がるように進行する。そこで、図5に示すように、レンズ295によって迷光遮蔽部材185を通過した光100aを受光素子190の第1の受光エリア191aに集光することにより、戻り光100aを確実に第1の受光エリア191aに結合させて、双方向光モジュール100の測定精度をより高めることができる。
このとき、例えば、迷光遮蔽部材185の開口部186の形状が略円形であり、受光素子190の第1の受光エリア191aの形状も略円形であるとすると、レンズ295の像倍率mと、迷光遮蔽部材185の開口部186の直径d1および受光素子190の第1の受光エリア191aの直径d2との間に、以下の数式1の関係が成り立つように双方向光モジュール100は構成される。
≦d/m ・・・(数式1)
ここで、レンズ295の像倍率mは、下記の数式2で表される。
m=L/L ・・・(数式2)
なお、Lは迷光遮蔽部材185の開口部186からレンズ295までの距離、Lはレンズ295から受光面191までの距離を表す。
例えば、像倍率m=1のレンズ295を用いた場合、数式1より、迷光遮蔽部材185の開口部186の直径d1は受光素子190の第1の受光エリア191aの直径d2以下となるように形成すればよい。
また、レンズ295は、低収差のレンズを使用することがよい。レンズは、通常、集光点のずれ等の性能的な誤差(収差)を生じる。本実施形態にかかる双方向光モジュール200のレンズ295に低収差のレンズを用いることにより、光100aが、受光素子190の第1の受光エリア191aから外れて第2の受光エリア191bに集光することを防止することができる。
本実施形態にかかる双方向光モジュール200を用いた光パルス試験器も、第1の実施形態と同様、被測定光ファイバ73の破断点または接続点での反射光を検出すると、図3における実線の波形のように一部が突出した波形(フレネル反射波形)を示す。さらに、本実施形態にかかる双方向光モジュール200は、迷光遮蔽部材185と受光素子190との間に集光レンズ295を備えていることによって戻り光100aを確実に第1の受光エリア191aに結合させることができる。したがって、図3に示す実線の波形よりもさらに裾引きを小さくすることができる。このように、光パルス試験器に本実施形態の双方向光モジュール200を適用することにより、従来の光パルス試験器と比較して測定精度の高い光パルス試験器を提供することができる。
なお、レンズ295により集光された戻り光100aの集光点は、必ずしも受光素子190の受光面191上になくともよく、光のビーム径が、周波数特性のよい第1の受光エリア191a内に収まる程度に集光されていればよい。
<実験結果>
次に、本実施形態にかかる双方向光モジュール200を備える光パルス試験器を用いて、被測定光ファイバ73の破断点を測定した測定結果を図6に示す。かかる実験では、双方向光モジュール200の発光素子から、波長1.31μm、パルス幅1μsecのパルス光を出力し、距離レンジ約10kmの被測定光ファイバ73の破断点を測定した。また、サンプリング分解能は20cmとした。
本実験では、図4に示す双方向光モジュール200について、迷光遮蔽部材185を設けた場合(実線)と、迷光遮蔽部材185を設けない場合(点線)とについて測定を行った。測定結果を図6に示す。図6に示すように、迷光遮蔽部材185を設けない双方向光モジュールは、破断点を検出して信号レベルが高くなった後の立下りが緩やかであり、裾引きが大きい。これに対して、迷光遮蔽部材185を設けた双方向光モジュール200は、破断点検出後の信号レベルは急激に下がっており、裾引きが迷光遮蔽部材185を設けない場合と比較して小さくなっている。
これは、迷光遮蔽部材185を設けない双方向光モジュールの場合、迷光100bが第2の受光エリア191bに結合して、受光素子190が迷光100bを受光してしまうことによる。一方、迷光遮蔽部材185を設けた双方向光モジュール200の場合、迷光100bは迷光遮蔽部材185の遮蔽部187にて遮蔽され、戻り光100aは迷光遮蔽部材185の開口部186を通過して第1の受光エリア191aに結合する。すなわち、周波数特性のよい第1の受光エリア191aにおいて戻り光を検出するため、裾引きが小さくなったものと考えられる。
以上、第2の実施形態にかかる双方向光モジュール200の構成について説明した。第2の実施形態にかかる双方向光モジュール200は、迷光100bが受光素子190の第2の受光エリア191bに入射することを防止するために、合分岐素子160と受光素子190との間に迷光遮蔽部材185を備える。これにより、迷光100bが第1の受光エリア191aより周波数特性が悪い第2の受光エリア191bに結合する前に、迷光遮蔽部材185により除去することができる。さらに、本実施形態にかかる双方向光モジュール200は、迷光遮蔽部材185と受光素子190との間に、迷光遮蔽部材185の開口部186を通過した光を受光素子190の第1の受光エリア191aに集光するレンズ295を備える。これにより、開口部186を通過した光が第1の受光エリア191aから外れて第2の受光エリア191bに集光することを防止できるので、双方向光モジュール200の測定精度を高めることができる。また、光ファイバカプラ型の双方向光モジュールと比べて、双方向光モジュール200のサイズを小型化することができる。
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
例えば、上記実施形態の光パルス試験器1は表示部50を備えていたが、本発明はかかる例に限定されず、例えば、光パルス試験器1に別個の表示機器を接続してもよい。
また、上記実施形態の双方向光モジュールは、合分岐素子160と迷光遮蔽部材185との間にレンズ180を設けたが、本発明はかかる例に限定されず、レンズ180は必ずしも設けなくともよい。
さらに、上記実施形態では、双方向光モジュールを、光ファイバの破断等を確認する光パルス試験器に用いる例を示したが、本発明の双方向光モジュールは、例えば、ファイバトゥザホーム(FTTH)やローカルエリアネットワーク(LAN)等の双方向光通信ネットワーク等に用いることもできる。
また、上記実施形態では、受光素子としてAPDを用いる構成を示したが、ピンフォトダイオード、シリコンフォトダイオード等を用いることもできる。例えば、送受信モジュール等のように、一方のモジュールから発した光を他方のモジュールが受け、また、他方のモジュールから発せられた光を一方のモジュールが受ける場合には、信号光がそれほど微弱でないことから、これらの受光素子も使用可能である。
本発明の第1の実施形態にかかる双方向光モジュールの構成を示す構成概略図である。 同実施形態にかかる受光素子の受光状態を説明するための説明図である。 同実施形態にかかる双方向光モジュールを用いた光パルス試験器により破断点または接続点における反射光を検出したときの波形を示すグラフである。 本発明の第2の実施形態にかかる双方向光モジュールの構成を示す構成概略図である。 同実施形態にかかる受光素子の受光状態を説明するための説明図である。 同実施形態にかかる双方向光モジュールについて、迷光遮蔽部材を設けた場合と迷光遮蔽部材を設けない場合の破断点または接続点における反射光を検出したときの波形を示すグラフである。 光パルス試験器の構成を示すブロック図である。 従来の双方向光モジュールの構成を示す構成概略図である。 従来の光ファイバカプラ型双方向光モジュールの構成を示す構成概略図である。 従来の受光素子の受光状態を説明するための説明図である。 従来の双方向光モジュールを用いた光パルス試験器により破断点または接続点における反射光を検出したときの波形を示すグラフである。
符号の説明
100、200 双方向光モジュール
110、130 発光素子
120,140 レンズ
150 合分波素子
160 合分岐素子
170、180、295 レンズ
185 迷光遮蔽部材
186 開口部
187 遮蔽部
190 受光素子
191 受光面
191a 第1の受光エリア
191b 第2の受光エリア

Claims (9)

  1. 光ファイバに入射する光を発光する1または2以上の発光素子と、
    前記光ファイバから出射された光を受光する受光素子と、
    前記光ファイバから出射された光を前記受光素子に導く合分岐素子と、
    を備え、
    前記合分岐素子と前記受光素子との間に、前記受光素子に入射させる光が通過する開口部が形成された迷光遮蔽部材を備えることを特徴とする、双方向光モジュール。
  2. 前記受光素子の受光面は、第1の受光エリアと、前記第1の受光エリアより周波数特性の低い第2の受光エリアとからなり、
    前記迷光遮蔽部材と前記受光素子との間に、前記開口部を通過した光を前記第1の受光エリアに集光する第1の集光素子をさらに備えることを特徴とする、請求項1に記載の双方向光モジュール。
  3. 前記開口部の面積は、前記受光素子の第1の受光エリアの面積以下であることを特徴とする、請求項1または2に記載の双方向光モジュール。
  4. 前記合分岐素子と前記迷光遮蔽部材との間に、前記合分岐素子により分岐された光を前記迷光遮蔽部材の前記開口部に集光する第2の集光素子を備えることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の双方向光モジュール。
  5. 前記受光素子の受光面は、第1の受光エリアと、前記第1の受光エリアより周波数特性の低い第2の受光エリアとからなり、
    前記迷光遮蔽部材は、前記第2の受光エリアを覆うように設けられることを特徴とする、請求項1に記載の双方向光モジュール。
  6. 前記迷光遮蔽部材は、前記受光素子と一体に形成されることを特徴とする、請求項5に記載の双方向光モジュール。
  7. 前記受光素子は、前記発光素子が出射した光の戻り光を前記光ファイバから受光することにより、前記光ファイバの損失特性を検出することを特徴とする、請求項1〜6のいずれかに記載の双方向光モジュール。
  8. 前記受光素子は、外部機器から発光された光を前記光ファイバから受光することにより、前記外部機器との通信情報を検出することを特徴とする、請求項1〜6のいずれかに記載の双方向光モジュール。
  9. 光ファイバの損失特性を試験する光パルス試験器であって、
    前記光ファイバに光を出射し、前記光ファイバから戻り光が入射される双方向光モジュールと、
    光を所定のタイミングで発生させるように前記双方向光モジュールを駆動する双方向光モジュール駆動部と、
    前記双方向光モジュールに入射した光を電気信号に変換する電気信号変換部と、
    前記電気信号変換部にて変換された電気信号に基づいて、前記光ファイバの損失特性を算出する信号処理部と、
    を備え、
    前記双方向光モジュールは、
    前記光ファイバに入射される光を発光する1または2以上の発光素子と、
    前記光ファイバから出射された光を受光する受光素子と、
    前記光ファイバから出射された光を前記受光素子に導く合分岐素子と、
    を備え、
    前記合分岐素子と前記受光素子との間に、前記受光素子に入射させる光が通過する開口部が形成された迷光遮蔽部材を備えることを特徴とする、光パルス試験器。
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