JP2008050180A - 金属シリコンの精製方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】純度が99.5%以上の金属シリコンを150μm以下に粉砕した後、その粉砕物から5μmより小さな粒径の微粒子を分級除去することにより、5〜150μmの粒径の金属シリコンを採取し、次いでこの微粒子の除去された金属シリコン粒子を希薄フッ化水素酸中において10時間以上浸漬処理することによって、酸洗浄を施し、更にその後、水洗して、乾燥するようにした。
【選択図】なし
Description
先ず、純度:99.5%以上の化学工業用の金属シリコンブロック(株式会社アドマテックス製)を、ジョークラッシャーやボールミル等を用いて、機械的に粉砕する一方、その得られた粉砕物を100メッシュの篩いに掛けることにより、150μm以下の粒径を有する金属シリコン粒子を取り出した。また、篩上の150μmよりも大なる粒径の金属シリコン粒子については、ボールミルに戻して、再度の粉砕を行った。
金属シリコン粒子として、5μmより小さな粒径の微粒子を分級除去する操作を施していない金属シリコン粒子(粉砕物)を使用したこと以外は、実施例1と同様の手順で、金属シリコン粒子の精製を行った。そして、その金属シリコン粒子の精製の各工程における条件、精製に要した延べ時間、得られた金属シリコン粒子の収量及び収率等を、下記表1に示す。また、得られた金属シリコン粒子中の不純物含有率を、実施例1と同様にして調べた。その結果を、下記表1に併せて示す。
Claims (3)
- 純度が99.5%以上の金属シリコンを150μm以下に粉砕した後、その粉砕物から5μmより小さな粒径の微粒子を分級除去することにより、5〜150μmの粒径の金属シリコン粒子を採取し、次いでこの微粒子の除去された金属シリコン粒子を希薄フッ化水素酸中において10時間以上浸漬処理することによって、酸洗浄を施し、更にその後、水洗して、乾燥することを特徴とする金属シリコンの精製方法。
- 前記水洗によって、含有ウラン濃度が2.0ppb以下とされた金属シリコン粒子が、取り出されることを特徴とする請求項1に記載の金属シリコンの精製方法。
- 前記希薄フッ化水素酸が、1〜3重量%のフッ化水素濃度を有していることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の金属シリコンの精製方法。
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