JP2008039861A - 光学デバイス - Google Patents

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洋和 山賀
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Abstract

【課題】安定した駆動を行うことができる光学デバイスを提供すること。
【解決手段】本体部211および光反射部212を備えた板状の質量部21と、質量部21を支持する支持部22と、支持部22に対し質量部21を回動可能とするように、質量部21と支持部22とを連結する弾性変形可能な1対の弾性部24、25と、質量部21を回動駆動させるための駆動手段とを有し、前記駆動手段を作動させることにより、弾性部24、25を捩れ変形させながら、質量部21を回動させ、光反射部212で光を反射させ、走査するように構成された光学デバイス1であって、質量部21は、本体部211の光反射部212とは反対側の面に本体部211の構成材料よりも熱伝導率の高い材料で構成された放熱部4を有する。
【選択図】図1

Description

本発明は、光学デバイスに関するものである。
レーザープリンタ等に用いられ、光走査により描画を行う光学デバイスとしては、小型化を図ることなどの目的から、ねじり振動子を用いるものが知られている(例えば、特許文献1参照。)。
例えば、特許文献1にかかる光学デバイスは、シリコンで構成された板状の可動部上に、アルミニウムで構成された光反射部を直接設けたものを、その両側で1対のねじりバネによって回動可能に支持してなる。そして、1対のねじりバネをねじれ変形させながら、可動部を回動(振動)させることにより、光走査を行う。その際、光反射部では、照射された光のほとんどが反射する。
しかしながら、光反射部での光反射率を完全に100%とすることはできないため、このような光学デバイスにあっては、光反射部に照射された光の一部が熱となり、可動部を昇温させてしまう。
そのため、かかる光学デバイスを長時間使用すると、可動部の形状や光反射部の材質等によっては、熱により可動部に反りなどの変形が生じて、光反射部の平面性が損なわれるおそれがある。また、可動部からの熱によりねじりバネの材料物性が変化して、ねじりバネのバネ定数が変化してしまうおそれがある。
光反射部の平面性が損なわれたり、ねじりバネのバネ定数が変化したりすると、安定した駆動(描画)を行うことが難しい。
特開平7−92409号公報
本発明の目的は、安定した駆動を行うことができる光学デバイスを提供することにある。
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の光学デバイスは、板状をなす本体部と、その一方の面側に設けられた光反射性を有する光反射部とを有する質量部と、
前記質量部を支持する支持部と、
前記質量部を前記支持部に対し回動可能に連結する弾性変形可能な1対の弾性部と、
前記質量部を回動駆動させるための駆動手段とを有し、
前記駆動手段を作動させることにより、前記弾性部を捩れ変形させながら、前記質量部を回動させ、前記光反射部で光を反射させ走査するように構成された光学デバイスであって、
前記質量部は、前記本体部の前記光反射部とは反対の面側に前記本体部の構成材料よりも熱伝導率の高い材料で構成された放熱部を有することを特徴とする。
これにより、前記放熱部により前記本体部の熱を放熱することができるため、熱変化(昇温)による光学デバイスの振動特性の変化を抑制することができ、光学デバイスを安定的に駆動させることができる。また、前記質量部の機械的極度を高めることもできる。
本発明の光学デバイスでは、前記本体部は、シリコンを主材料として構成されていることが好ましい。
これにより、優れた回動特性を発揮する光学デバイスを提供することができる。
本発明の光学デバイスでは、前記放熱部の構成材料は、前記光反射部の構成材料と同様であることが好ましい。
これにより、前記本体部の一方の面に設けられた前記光反射部と、他方の面に設けられた前記放熱部との熱膨張率がほぼ等しくなるため、前記本体部の歪みを抑制することができる。
本発明の光学デバイスでは、前記放熱部は、前記本体部の面のほぼ全面にわたって設けられていることが好ましい。
これにより、放熱効果を優れたものとすることができる。
本発明の光学デバイスでは、前記放熱部は、前記本体部と反対側の面に凹凸部を有することが好ましい。
これにより、前記放熱部の表面積を大きくし、放熱効果を優れたものとすることができる。
本発明の光学デバイスでは、前記凹凸部は、前記本体部の平面視にて、前記質量部の回動中心軸に対して対称に設けられていることが好ましい。
これにより、優れた放熱効果を発揮しつつ、前記質量部を安定的に回動させることができる。
本発明の光学デバイスでは、前記凹凸部は、前記本体部の平面視にて、前記質量部の回動中心軸に直角な方向に対して対称に設けられていることが好ましい。
これにより、優れた放熱効果を発揮しつつ、前記質量部をより安定的に回動させることができる。
本発明の光学デバイスでは、前記凹凸部は、複数の凸部を有することが好ましい。
これにより、前記放熱部の表面積を大きくし、放熱効果をより優れたものとすることができる。
本発明の光学デバイスでは、各前記凸部は、凸条であることが好ましい。
これにより、優れた放熱効果を発揮しつつ、前記放熱部の製造が容易となる。また、光学デバイスの機械的強度を向上させることができる。
本発明の光学デバイスでは、前記各凸条は、前記本体部の面上において、前記質量部の回動中心軸にほぼ直角な方向へ延在していることが好ましい。
これにより、優れた放熱効果を発揮することができる。また、前記放熱部の軽量化を図りつつ、前記質量部の回動による前記本体部の撓みを効果的に抑制することができる。
本発明の光学デバイスでは、前記凸条は、前記本体部の面に対してほぼ垂直に突出していることが好ましい。
これにより、前記放熱部の製造が容易となる。また、前記質量部の回動による前記本体部の撓みをより効果的に防止することができる。
本発明の光学デバイスでは、前記凹凸部は、複数の凹部を有し、
各前記凹部は、前記本体部の平面視にて、多角形状をなしていることが好ましい。
これにより、優れた放熱効果を発揮しつつ、光学デバイスの強度を向上させることができる。
本発明の光学デバイスでは、各前記凹部は、ほぼ同一形状であることが好ましい。
これにより、密に凹部を形成することができ、前記放熱部の放熱特性が向上する。
本発明の光学デバイスでは、各前記弾性部は、板状の駆動部と、前記駆動部を前記支持部に対して回動可能に連結する第1の弾性部と、前記質量部を前記駆動部に対して回動可能に連結する第2の弾性部とを有し、前記駆動手段が、前記第1の弾性部を捩れ変形させながら前記駆動部を回動させ、これに伴い、前記第2の弾性部を捩れ変形させながら前記質量部を回動させるように構成されていることが好ましい。
これにより、前記1対の弾性部に大きな応力(負担)をかけずに、前記質量部の回動角を大きくすることができる。
以下、本発明の光学デバイスの好適な実施形態について、添付図面を参照しつつ説明する。
<第1実施形態>
まず、本発明の光学デバイスの第1実施形態を説明する。
図1は、本発明の光学デバイスの第1実施形態を示す斜視図、図2は、図1中のA−A線断面図、図3は、電極の配置を示す図、図4は、図1に示す光学デバイスの駆動電圧の電圧波形の一例を示す図、図5は、図1に示す光学デバイスの駆動電圧として交流電圧を用いた場合における交流電圧の周波数と、質量部および駆動部のそれぞれの振幅との関係を示すグラフ、図6は、図1にかかる光学デバイスの部分拡大図である。
なお、以下では、説明の便宜上、図1中の紙面手前側を「上」、紙面奥側を「下」、右側を「右」、左側を「左」と言い、図2中の上側を「上」、下側を「下」、右側を「右」、左側を「左」と言う。
光学デバイス1は、図1ないし図3に示すような2自由度振動系を有する基体2と、この基体2を支持する支持基板3とを有している。
基体2は、質量部21と、支持部22と、1対の弾性部24、25とを備えている。
また、弾性部24は、駆動部241と、第1の弾性部242と、第2の弾性部243とを備え、これと同様に、弾性部25は、駆動部251と、第1の弾性部252と、第2の弾性部253とを備えている。
すなわち、基体2は、質量部21と、支持部22と、1対の駆動部241、251と、1対の第1の弾性部242、252と、1対の第2の弾性部243、253とを備えている。
このような光学デバイス1にあっては、後述する1対の電極32、33に電圧を印加することにより、1対の第1の弾性部242、252を捩れ変形させながら、1対の駆動部241、251を回動させ、これに伴って、1対の第2の弾性部243、253を捩れ変形させながら質量部21を回動させる。このとき、1対の駆動部241、251および質量部21は、それぞれ、図1に示す回動中心軸Xを中心にして回動する。
1対の駆動部241、251は、それぞれ、板状をなし、互いにほぼ同一寸法でほぼ同一形状をなしている。
1対の駆動部241、251の間には、質量部21が設けられており、1対の駆動部241、251は、非駆動時での質量部21の平面視にて、質量部21を中心として、ほぼ左右対称となるように設けられている。同様に、1対の第1の弾性部242、252は、平面視にて、質量部21を中心として、ほぼ左右対称となるように設けられており、1対の第2の弾性部243、254は、平面視にて、質量部21を中心として、ほぼ左右対称となるように設けられている。すなわち、本実施形態にかかる光学デバイス1は、質量部21の平面視にて、質量部21を中心として、ほぼ左右対称となるように形成されている。
ここで、質量部21は、板状をなす本体部211と、本体部211の上面(支持基板3と反対側の板面)に設けられた光反射部212と、本体部の下面(支持基板3と対向する側の板面)に設けられた放熱部4とで構成されている。
このように、本体部211に光反射部212を設けることにより、光学デバイス1を光スキャナ、光アッテネータ、光スイッチなどの光デバイスに適用することができる。ここで、光学デバイス1は、例えば、光スキャナなどに用いた場合、質量部21を回動させることでレーザーなどの光を光反射部212により反射させ、走査対象物を走査するよう構成される。しかし、光反射部212で反射しきれなかった光が熱に変換され、本体部211が昇温してしまう場合がある。この昇温により、(1)光学デバイス1の材料特性(ヤング率など)が変化する、(2)熱膨張により本体部211に反り・歪みが生じ、それに伴い光反射部212にも反り・歪みが生じ、光反射部212によって所望の位置に光を走査させることができないなどの問題が生じる。これにより、光学デバイス1が長時間連続的に使用される場合、優れた回動特性を維持することが困難であるという問題が生じる場合がある。
そこで、本発明にかかる光学デバイス1は、本体部211の下面に放熱部4を設け、前述したような熱を放熱部4から積極的に放熱し、本体部211の昇温を抑制するように構成されている。これにより、光学デバイス1は、長時間、連続的に使用する場合であっても、優れた走査特性を維持(発揮)することができる。このような放熱部4については、後に詳述する。
このような本体部211および駆動部241、251にあっては、駆動部241が第1の弾性部242を介して支持部22に接続され、本体部211が第2の弾性部242を介して駆動部241に接続されている。これと同様に、駆動部251が第1の弾性部252を介して支持部22に接続され、本体部211が第2の弾性部252を介して駆動部251に接続されている。
また、弾性部24のうち、第1の弾性部242および第2の弾性部243は、弾性変形(主として捩れ変形)可能な棒状部材である。これと同様に、弾性部25のうち、第1の弾性部252および第2の弾性部253は、弾性変形可能な棒状部材である。
第1の弾性部242は、駆動部241を支持部22に対して回動可能とするように、駆動部241と支持部22とを連結している。これと同様に、第1の弾性部252は、駆動部251を支持部22に対して回動可能とするように、駆動部251と支持部22とを連結している。
第2の弾性部243は、本体部211を駆動部241に対して回動可能とするように、本体部211と駆動部241とを連結している。これと同様に、第2の弾性部253は、本体部211を駆動部251に対して回動可能とするように、本体部211と駆動部251とを連結している。
このような第1の弾性部242、252および第2の弾性部243、253は、同軸的に設けられており、これらを回動中心軸(回転軸)Xとして、駆動部241が支持部22に対して、また、駆動部251が支持部22に対して回動可能となっている。さらに、質量部21が駆動部241、251に対して回動可能となっている。
このように、基体2は、駆動部241、251と第1の弾性部242、252とで構成された第1の振動系と、質量部21と第2の弾性部243、253とで構成された第2の振動系とを有する。すなわち、基体2は、第1の振動系および第2の振動系からなる2自由度振動系を有する。
このような2自由度振動系は、基体2の全体の厚さよりも薄く形成されているとともに、図2にて上下方向で基体2の上部に位置している。言い換えすれば、基体2には、基体2の全体の厚さよりも薄い部分が形成されており、この薄い部分に異形孔が形成されることにより、本体部211と駆動部241、251と第1の弾性部242、252と第2の弾性部243、253とが形成されている。
本実施形態では、前記薄肉部の上面が支持部22の上面と同一面上に位置することにより、前記薄い部分の下方には質量部21および駆動部241、251の回動のための空間(凹部)30が形成されている。
このような基体2は、例えば、シリコンを主材料として構成されていて、本体部211
と、駆動部241、251と、支持部22と、第1の弾性部242、252と、第2の弾性部243、253とが一体的に形成されている。このように、シリコンを主材料とすることにより、優れた回動特性を実現できるとともに、優れた耐久性を発揮することができる。また、微細な処理(加工)が可能であり、光学デバイス1の小型化を図ることができる。
なお、基体2は、SOI基板等の積層構造を有する基板から、本体部211と、駆動部241、251と、支持部22と、第1の弾性部242、252と、第2の弾性部243、253とを形成したものであってもよい。その際、本体部211と、駆動部241、251と、支持部22、23の一部と、第1の弾性部242、252と、第2の弾性部243、253とが一体的となるように、これらを積層構造基板の1つの層で構成するのが好ましい(例えば、SOI基板の一方のSi層)。
前述したような基体2に接合した支持基板3は、例えば、ガラスやシリコンを主材料として構成されている。
支持基板3の上面(図2にて、基体2側の面)には、図2に示すように、質量部21に対応する部分に開口部31が形成されている。この開口部31は、質量部21が回動(振動)する際に、支持基板3に接触するのを防止する逃げ部を構成する。開口部(逃げ部)31を設けることにより、光学デバイス1全体の大型化を防止しつつ、質量部21の振れ角(振幅)をより大きく設定することができる。
なお、前述したような逃げ部は、前記効果を十分に発揮し得る構成であれば、必ずしも支持基板3の下面(質量部21と反対側の面)で開放(開口)していなくてもよい。すなわち、逃げ部は、支持基板3の上面に形成された凹部で構成することもできる。また、空間30の深さが質量部21の振れ角(振幅)に対し大きい場合などには、逃げ部を設けなくともよい。
支持基板3の上面(図2にて、基板2側の面)には、図3に示すように、駆動部241に対応する部分に、1対の電極32が回動中心軸Xを中心にほぼ対象となるように設けられている。これと同様に、駆動部251に対応する部分に、1対の電極33が回動中心軸Xを中心にほぼ対象となるように設けられている。すなわち、本実施形態では、1対の電極が2組、計4個設けられている。
駆動部241と電極32とは、図示しない電源に接続さており、駆動部241と電極32との間に交流電圧(駆動電圧)を印加できるように構成されている。これと同様に、駆動部251と電極33とは、図示しない電源に接続されており、駆動部251と電極33との間には交流電圧(駆動電圧)を印加できるように構成されている。
なお、駆動部241の電極32に対抗する面には、図示しない絶縁膜が設けられており、これと同様に、駆動部251の電極33に対向する面には、図示しない絶縁膜が設けられている。これにより、駆動部241と電極32の間および/または駆動部251と電極33の間で短絡が発生することを好適に防止することができる。
また、本実施形態では、電極32および電極33は、それぞれ、図示しない絶縁膜を介して、支持基板3に設けられている。これにより、電極32および電極33と支持基板3との間で絶縁性を確保することができる。また、このような絶縁層は、電極32と駆動部241とのギャップ(距離)、電極33と駆動部251とのギャップを調整する役割も有している。
以上のような構成の光学デバイス1は、次のようにして駆動する。
すなわち、電極32と駆動部241との間および電極33と駆動部251との間に、例えば、正弦波(交流電圧)等を印加する。具体的には、例えば、まず、1対の駆動部241、251をアースしておく。この状態にて、1対の電極32、33のうち、図3中上側の電極に図4(a)に示すような波形の電圧を印加し、図3中下側の電極に図4(b)に示すような波形の電圧を印加する。すると、電極32と駆動部241との間および電極33と駆動部251との間に静電気力(クーロン力)が生じ、1対の駆動部241、251が、それぞれ電極32、33の方へ引き付けられる。
このような静電気力(すなわち、1対の駆動部241、251が、それぞれ電極32、33の方へ引き付けられる力)は、正弦波の位相により変化し、回動中心軸Xを軸に基体2の板面に対して傾斜するように振動(回動)する。
そして、この1対の駆動部241、251の回動に伴って、第2の弾性部243、253を介して連結されている本体部211(質量部21)も、回動中心軸Xを軸に、基体2の板面に傾斜するように振動(回動)する。
次に、駆動部241、251と、本体部211との関係について詳述する。
駆動部241の回動中心軸Xからこれにほぼ垂直な方向(長手方向)での長さをLとし、駆動部251の回動中心軸Xからこれにほぼ垂直な方向(長手方向)での長さをLとし、本体部211の回動中心軸Xからこれにほぼ垂直な方向での長さをLとしたとき、本実施形態では、駆動部241、251が、それぞれ独立して設けられているため、本体部211の大きさ(長さL)にかかわらず、駆動部241、251と本体部211とが干渉せず、LおよびLを小さくすることができる。これにより、駆動部241、251の回転角度(振れ角)を大きくすることができ、その結果、質量部21の回転角度を大きくすることができる。
また、駆動部241、251および本体部211の寸法は、それぞれ、L<LかつL<Lなる関係を満足するよう設定されるのが好ましい。
前記関係を満たすことにより、LおよびLをより小さくすることができ、駆動部241、251の回転角度をより大きくすることができ、質量部21の回転角度をさらに大きくすることができる。
この場合、質量部21の最大回転角度が、20°以上となるように構成されるのが好ましい。
これらによって、駆動部241、251の低電圧駆動と、質量部21の大回転角度での振動(回動)とを実現することができる。
このため、このような光学デバイス1を、例えばレーザープリンタや、走査型共焦点レーザー顕微鏡等の装置に用いられる光スキャナに適用した場合には、より容易に装置を小型化することができる。
なお、前述したように、本実施形態では、LとLとはほぼ等しく設定されているが、LとLとが異なっていてもよいことは言うまでもない。
ところで、このような質量部21および駆動部241、251の振動系(2自由度振動系)では、駆動部241、251および質量部21の振幅(振れ角)と、印加する交流電圧の周波数との間に、図6に示すような周波数特性が存在している。
すなわち、かかる振動系は、駆動部241、251の振幅と、質量部21の振幅とが大きくなる2つの共振周波数fm[kHz]、fm[kHz](ただし、fm<fm)と、駆動部241、251の振幅がほぼ0となる、1つの反共振周波数fm[kHz]とを有している。
この振動系では、電極32、33に印加する交流電圧の周波数Fが、2つの共振周波数のうち低いもの、すなわち、fmとほぼ等しくなるように設定するのが好ましい。これにより、駆動部241、251の振幅を抑制しつつ、質量部21の振れ角(回転角度)を大きくすることができる。
なお、本明細書中では、F[kHz]とfm[kHz]とがほぼ等しいとは、(fm−1)≦F≦(fm+1)の条件を満足することを意味する。
駆動部241、251の平均厚さは、それぞれ、1〜1500μmであるのが好ましく、10〜300μmであるのがより好ましい。
本体部211の平均厚さは、1〜1500μmであるのが好ましく、10〜300μmであるのがより好ましい。
第1の弾性部242、252のばね定数kは、1×10−4〜1×10Nm/radであるのが好ましく、1×10−2〜1×10Nm/radであるのがより好ましく、1×10−1〜1×10Nm/radであるのがさらに好ましい。これにより、質量部21の回転角度(振れ角)をより大きくすることができる。
一方、第2の弾性部243、253のばね定数kは、1×10−4〜1×10Nm/radであるのが好ましく、1×10−2〜1×10Nm/radであるのがより好ましく、1×10−1〜1×10Nm/radであるのがさらに好ましい。これにより、駆動部241、251の振れ角を抑制しつつ、質量部21の振れ角をより大きくすることができる。
また、第1の弾性部242、252のばね定数kと第2の弾性部243、253のばね定数kとは、k>kなる関係を満足するのが好ましい。これにより、駆動部241、251の振れ角を抑制しつつ、質量部21の回転角度(振れ角)をより大きくすることができる。
さらに、駆動部241、251の慣性モーメントをJとし、質量部21の慣性モーメントをJとしたとき、JとJとは、J≦Jなる関係を満足することが好ましく、J<Jなる関係を満足することがより好ましい。これにより、駆動部241、251の振れ角を抑制しつつ、質量部21の回転角度(振れ角)をより大きくすることができる。
ところで、駆動部241、251と第1の弾性部242、252とからなる第1の振動系の固有振動数ωは、駆動部241、251の慣性モーメントJと、第1の弾性部242、252のばね定数kとにより、ω=(k/J1/2によって与えられる。一方、質量部21と第2の弾性部243、253とからなる第2の振動系の固有振動数ωは、質量部21の慣性モーメントJと、第2の弾性部243、253のばね定数kとにより、ω=(k/J1/2によって与えられる。
このようにして求められる第1の振動系の固有振動数ωと第2の振動系の固有振動数ωとは、ω>ωなる関係を満足するのが好ましい。これにより、駆動部241、251の振れ角を抑制しつつ、質量部21の回転角度(振れ角)をより大きくすることができる。
次に、放熱部4について詳述する。放熱部4は、前述したように、本体部211の下面に設けられている。これにより、光反射部212で反射しきれなかった(吸収された)光によって本体部211が昇温することを効果的に抑制することができる。その結果、光学デバイス1は、連続的に使用する場合であっても、安定的に駆動を行うことができ、所望の振動特性を維持(発揮)することができる。
また、放熱部4を本体部211に設けることで、光反射部212で発生する熱をより迅速に(例えば、弾性部24、25などに熱が伝達される前に)放熱することができる。これにより、本体部211の昇温を効果的に抑制することができる。また、本体部211の下面、すなわち光反射部212とは反対側の面側に放熱部4を設けることにより、光反射部212および放熱部4の配置などの設計の自由度を増大させることができる。これにより、光学デバイス1の走査特性(走査角など)を犠牲にせずに、光学デバイス1の昇温を効果的に抑制することができる。
このような放熱部4は、本体部211の下面の全面にわたって形成されている。これにより、放熱部4の下面(本体部211とは反対側の面)の表面積を大きくすることができる。その結果、放熱部4は、優れた放熱特性を発揮することができる。
放熱部4は、図6に示すように、基部411と、基部411の面上に設けられた複数の凸条(凸部)412とで構成されている。放熱部4は、凸条412と、互いに隣接する1対の凸条412と基部411とで形成された凹部413とで構成された凹凸部41を有している。
凹凸部41は、平面視にて、回動中心軸Xに対して対称に設けられていることが好ましい。これにより、本体部211に放熱部4を設けることで、質量部21の重心が、回動中心軸X上からずれてしまうことを防止することができる。その結果、質量部21の昇温を抑制しつつ、質量部21を安定的に回動させることができる。
また、凹凸部41は、平面視にて回動中心軸Xに対して対称に設けられ、かつ、平面視にて回動中心軸Xに直角な方向に対して対称に設けられていることがさらに好ましい。これにより、本体部211の昇温を抑制しつつ、質量部21をより安定的に回動させることができる。
本実施形態では、各凸条412は、回動中心軸Xに直角な方向へ延在している。言い換えすれば、回動中心軸Xに直角な方向へ延在した複数の凸条412が、回動中心軸X方向へ並設している。これにより、質量部21の回動による本体部211の撓み(特に、質量部21の面に垂直な方向への撓み)を効果的に防止することができる。
一方、溝状の凹部413は、空気の流通経路としても機能するため、質量部21の回動により凹部413内の空気の流通性が向上する。その結果、放熱部4の放熱特性をより向上させることができる。
また、凸条412は、本体部211の面に垂直な方向に突出している。これにより、放熱部4の製造が容易となる。
また、互いに隣接する1対の凸条412同士の間隔が等しくなるように凸条412が設けられている。
このような放熱部4は、質量部21の本体の構成材料よりも熱伝導率が高い材料で構成されている。これにより、放熱部4の放熱特性が向上する。
このような放熱部4の構成材料(高熱伝導材料)としては、本体部211の構成材料によっても異なるが、特に限定されないが、例えば、Li、Be、B、Na、Mg、Al、K、Ca、Sc、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ga、Rb、Sr、Y、Zr、Nb、Mo、Cd、In、Sn、Sb、Cs、Ba、La、Hf、Ta、W、Tl、Pb、Bi、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Ag、Au、Pt、Pdのような金属(金属単体)、これらの金属を含む合金、これらの金属を含む酸化物や窒化物等が挙げられる。
また、放熱部4の構成材料としては、光反射部212の構成材料とほぼ同じであることが好ましい。これにより、放熱部4の線膨張率と光反射部212の線膨張率とをほぼ等しくすることができる。その結果、昇温により本体部211が撓んでしまうことを防止することができる。すなわち、光反射部212の撓み・反りなどを防止することができ、その結果、光学デバイス1は、連続的に使用される場合であっても、所望の走査特性を維持(発揮)することができる。なお「線膨張率」とは、単位温度変化あたりの寸法変化率をいう。
具体的に説明すれば、光反射部212の構成材料と放熱部4の構成材料とが異なる場合には、一般的に、光反射部212の線膨張率と放熱部4の線膨張率も異なるものとなる。この状態で本体部211がレーザーなどにより昇温された場合には、本体部211は、光反射部212と放熱部4のうち線膨張率の低い方が凸となるように撓んで(反って)しまう。このように本体部211が撓めば、それに伴い光反射部212も撓み、その結果、光学デバイス1は、所望の走査特性を発揮することができなくなる。
一方、光反射部212の構成材料と放熱部4の構成材料とが同じ場合には、光反射部212の線膨張率と放熱部4の線膨張率とが等しいものとなる。この状態で本体部211がレーザーなどにより昇温された場合には、光反射部212と放熱部4とが同程度膨張するため、結果的に本体部211に発生する撓み(反り)を抑制することができる。その結果、デバイス1は、連続的に使用される場合であっても、所望の走査特性を維持(発揮)することができる。
このような観点からすれば、放熱部4の構成材料としては、特にAlN、SiCなどが好ましい。これにより、例えば、半導体製造工程において、放熱部4および光反射部212を形成することができ、光学デバイス1の製造工程を簡略化することができる。
このような光学デバイス1は、例えば、次のようにして製造することができる。
図7および図8は、それぞれ、第1実施形態の光学デバイスの製造方法を説明するための図(縦断面図)である。なお、以下では、説明の便宜上、図7および図8中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
[A1] まず、図7(a)に示すように、例えば、シリコン基板60を用意する。
次に、図7(b)に示すように、本体部211と、支持部22と、駆動部241、251と、第1の弾性部242、252と、第2の弾性部243、253との形状(平面視形状)に対応するように、例えば、アルミニウム等により金属マスク70を形成する。
また、シリコン基板60の他方の面に、フォトレジストを塗布し、露光、現像を行って、空間30の平面視形状と同様の形状をなす開口を有するレジストマスク71を形成する。なお、レジストマスク71の形成は、金属マスク70の形成よりも先に行ってもよい。
次に、このレジストマスク71を介して、シリコン基板60の前記他方の面をエッチングした後、レジストマスク71を除去する。これにより、図7(c)に示すように、空間30の平面視に対応する領域に凹部51が形成される。
エッチング方法としては、例えば、プラズマエッチング、リアクティブイオンエッチング、ビームエッチング、光アシストエッチング等の物理的エッチング法、ウェットエッチング等の化学的エッチング法等のうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。なお、以下の各工程におけるエッチングにおいても、同様の方法を用いることができる。
次に、金属マスク70を介して、シリコン基板60の前記一方の面側を、前記凹部51に対応する部分が貫通するまでエッチングする。そして、金属マスク70を除去した場合、この後、本体部211上に金属膜を成膜し、光反射部212を形成する。
なお、ここで、シリコン基板60に対しエッチングを行った後、金属マスク70は除去してもよく、除去せずに残存させてもよい。金属マスク70を除去しない場合、本体部211上に残存した金属マスク70は光反射部212として用いることができる。
金属膜の成膜方法としては、真空蒸着、スパッタリング(低温スパッタリング)、イオンプレーティング等の乾式メッキ法、電解メッキ、無電解メッキ等の湿式メッキ法、溶射法、金属箔の接合等が挙げられる。なお、以下の各工程における金属膜の成膜においても、同様の方法を用いることができる。
[A2]次に、図7(d)に示すように、本体部211の下面(光反射部212が設けられた面とは反対の面)上に、金属膜8を成膜する。金属膜の成膜方法としては、前述した通りである。
さらに、金属膜8にフォトレジストを塗布し、露光、現像を行って、凸条412の平面視形状と同様の形状をなす開口を有するレジストマスク72を形成する。次に、このレジストマスク72を介して、金属膜8の面をエッチングした後、レジストマスク71を除去する。
以上の工程により、図7(f)に示すように、質量部21と支持部22と各駆動部241、251と第1の弾性部242、252と第2の弾性部243、253とが一体的に形成された基体2が得られる。
[B1]次に、図8(a)に示すように、支持基板3を形成するための基板として、例えばシリコン基板61を用意する。
そして、シリコン基板61の一方の面に、開口部31を形成する領域を除いた部分に対応するように、例えば、アルミニウム等により金属マスク73を形成する。
次に、この金属マスクを介して、シリコン基板61の一方の面側をエッチングした後、金属マスク73を除去し、図9(c)に示すように、開口部31を形成する。すなわち、支持基板3が得られる。
[B2]次に、図8(d)に示すように、前記工程[A2]で得られた基体2と、前記工程[B1]で得られた支持基板3とを直接接合により接合し、光学デバイス1を得る。なお、基体2と支持基板3との間に可動イオンを含む硼珪酸ガラスのようなガラスを介在させ、これらを陽極接合により接合してもよい。また、シリコン基板61に代えてガラス基板を用いて、基体2と支持基板3とを陽極接合により接合することもできる。
以上のようにして、第1実施形態の光学デバイス1が製造される。
以上第1実施形態の光学デバイス1について説明したが、放熱部4の凸条412の形状、大きさ、配設数は、それぞれ任意であり、実施形態に限定されない。例えば、凸条412の配設数は、光学デバイス1の大きさや、放熱部4の質量や、光反射部212に照射させるレーザーの出力などを勘案して定めることができる。
また、凹凸部41は、回動中心軸Xに対して対称となるように形成されているが、非対称に形成されていてもよい。
<第2実施形態>
次に、本発明の光学デバイスの第2実施形態について説明する。
図9は、本発明の光学デバイスの第2実施形態を示す部分拡大図ある。
以下、第2実施形態の光学デバイス1Aについて、前述した第1実施形態の光学デバイス1との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
第2実施形態の光学デバイス1Aは、放熱部4Aの構成が異なる以外は、第1実施形態の光学デバイス1とほぼ同様である。
すなわち、放熱部4Aは、図9に示すように、凹凸部41Aを有している。凹凸部41Aは、互いに平行に設けられた複数の凸条414Aと、互いに平行に設けられた複数の凸条415Aと、互いに隣接する1対の凸条414Aと互いに隣接する1対の凸条415Aとで囲まれることにより区画形成された複数の凹部413Aとで構成されている。このように凹部413Aを形成することにより、比較的簡単に凹部413Aを設けることができる。
このように複数の凹部413Aを有するため、放熱部4Aの表面積を大きくすることができ、放熱部4Aは、優れた放熱特性を発揮することができる。
さらに、複数の凹部413Aは、互いにほぼ同一形状、かつ、同一寸法をなしている。これにより、凹部413Aをより蜜に形成することができる。すなわち、凹部413Aをより多く形成することができ、放熱部4Aの表面積をより大きくすることができる。その結果、放熱部4の放熱特性が向上する。
このような第2実施形態によっても、第1実施形態と同様の効果を発揮することができる。
<第3実施形態>
次に、本発明の光学デバイスの第3実施形態について説明する。
図10は、本発明の光学デバイスの第3実施形態を示す部分拡大図ある。
以下、第3実施形態の光学デバイス1Bについて、前述した第1実施形態の光学デバイス1との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
第3実施形態の光学デバイス1Bは、放熱部4Bの構成が異なる以外は、第1実施形態の光学デバイス1とほぼ同様である。
すなわち、放熱部4Bは凹凸部41Bを有している。凹凸部41Bは、凸部412Bと凹部413Bとで構成されている。
凹凸部41Bは、図10に示すように、ハニカム状に形成されている。これにより、放熱部4Bの表面積を大きくすることができ、放熱部4の放熱効果が向上する。さらに、質量部21の機械的強度を向上させることができ、質量部21を安定的に回動させることができる。
このような第3実施形態によっても、第1実施形態と同様の効果を発揮することができる。
以上、本発明の光学デバイスについて、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、本発明の光学デバイスでは、各部の構成は、同様の機能を発揮する任意の構成のものに置換することができ、また、任意の構成を付加することもできる。
また、前述した実施形態では、連結部材が直線状をなしていたが、2つの連結部材を互いに逆方向に主として曲げ変形させることにより、第1の弾性連結部全体を捩り変形させることができるものであれば、連結部材の形状は任意である。例えば、連結部材は湾曲していてもよい。
また、前述した実施形態では、光学デバイスの中心を通り質量部や1対の駆動部の回動軸線に直角な面に対しほぼ対称(左右対称)な形状をなしている構造を説明したが、非対称であってもよい。
また、前述した実施形態では、光反射部が質量部の上面(支持基板とは逆側の面)に設けられ、放熱部が質量部の裏面(支持基板側の面)に設けられている構成について説明したが、例えば、その逆に設けられている構成であってもよい。すなわち、光反射部が質量部の裏面に設けられ、放熱部が質量部の上面に設けられているものであってもよい。
また、前述した実施形態では、放熱部を半導体製造プロセスの中で質量部に設ける製造方法について説明したが、例えば、別の工程にて放熱部を製造し、その後、質量部に取り付けてもよい。
また、前述した実施形態では、2自由度振動系について説明したが、例えば1自由度振動系の光学デバイスに用いてもよい。
本発明の光学デバイスの第1実施形態を示す斜視図である。 図1中のA−A線断面図である。 電極の配置を示す図である。 図1に示す光学デバイスの駆動電圧の電圧波形の一例を示す図である。 印加した交流電圧の周波数と、質量部および駆動部の共振曲線を示すグラフある。 放熱部の部分拡大図である。 光学デバイスの製造方法を説明する図である。 光学デバイスの製造方法を説明する図である。 本発明にかかる光学デバイスの第2実施形態を示す部分拡大図である。 本発明にかかる光学デバイスの第3実施形態を示す部分拡大図である。
符号の説明
1、1A、1B‥‥‥光学デバイス 2‥‥‥基体 21‥‥‥質量部 211‥‥‥本体部 212‥‥‥光反射部 22‥‥‥支持部 24、25‥‥‥弾性部 241、251‥‥‥駆動部 242、252‥‥‥第1の弾性部 243、253‥‥‥第2の弾性部 3‥‥‥支持基板 30‥‥‥空間 31‥‥‥開口部(逃げ部) 32、33‥‥‥電極 4、4A、4B‥‥‥放熱部 41、41A、41B‥‥‥凹凸部 411‥‥‥基部 412、412B‥‥‥凸部(凸条) 413、413A、413B‥‥‥凹部 414A、415A‥‥‥凸条 60、61‥‥‥シリコン基板 70、73‥‥‥金属マスク 71、72‥‥‥レジストマスク X‥‥‥回動中心軸

Claims (14)

  1. 板状をなす本体部と、その一方の面側に設けられた光反射性を有する光反射部とを有する質量部と、
    前記質量部を支持する支持部と、
    前記質量部を前記支持部に対し回動可能に連結する弾性変形可能な1対の弾性部と、
    前記質量部を回動駆動させるための駆動手段とを有し、
    前記駆動手段を作動させることにより、前記弾性部を捩れ変形させながら、前記質量部を回動させ、前記光反射部で光を反射させ走査するように構成された光学デバイスであって、
    前記質量部は、前記本体部の前記光反射部とは反対の面側に前記本体部の構成材料よりも熱伝導率の高い材料で構成された放熱部を有することを特徴とする光学デバイス。
  2. 前記本体部は、シリコンを主材料として構成されている請求項1に記載の光学デバイス。
  3. 前記放熱部の構成材料は、前記光反射部の構成材料と同様である請求項1または2に記載の光学デバイス。
  4. 前記放熱部は、前記本体部の面のほぼ全面にわたって設けられている請求項1ないし3のいずれかに記載の光学デバイス。
  5. 前記放熱部は、前記本体部と反対側の面に凹凸部を有する請求項4に記載の光学デバイス。
  6. 前記凹凸部は、前記本体部の平面視にて、前記質量部の回動中心軸に対して対称に設けられている請求項5に記載の光学デバイス。
  7. 前記凹凸部は、前記本体部の平面視にて、前記質量部の回動中心軸に直角な方向に対して対称に設けられている請求項5または6に記載の光学デバイス。
  8. 前記凹凸部は、複数の凸部を有する請求項5ないし7のいずれかに記載の光学デバイス。
  9. 各前記凸部は、凸条である請求項6ないし8のいずれかに記載の光学デバイス。
  10. 前記各凸条は、前記本体部の面上において、前記質量部の回動中心軸にほぼ直角な方向へ延在している請求項9に記載の光学デバイス。
  11. 前記凸条は、前記本体部の面に対してほぼ垂直に突出している請求項9または10に記載の光学デバイス。
  12. 前記凹凸部は、複数の凹部を有し、
    各前記凹部は、前記本体部の平面視にて、多角形状をなしている請求項5ないし7のいずれかに記載の光学デバイス。
  13. 各前記凹部は、ほぼ同一形状である請求項12に記載の光学デバイス。
  14. 各前記弾性部は、板状の駆動部と、前記駆動部を前記支持部に対して回動可能に連結する第1の弾性部と、前記質量部を前記駆動部に対して回動可能に連結する第2の弾性部とを有し、前記駆動手段が、前記第1の弾性部を捩れ変形させながら前記駆動部を回動させ、これに伴い、前記第2の弾性部を捩れ変形させながら前記質量部を回動させるように構成されている請求項1ないし13のいずれかに記載の光学デバイス。
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