JP2008013716A - 複合粒子およびその製造方法、ならびに研磨液 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基材と、1または複数種類の無機材料からなる砥粒とを備え、砥粒は少なくとも基材の表面に担持されている。基材は多糖類により構成されていることが好ましい。多糖類は、その誘導体の酸化還元電位の極性がマイナスとなる高分子であり、砥粒はpH13におけるゼータ電位の上限値が30mVより大きくなる材料、またはpH13におけるゼータ電位のピーク値の極性がプラスとなる材料により構成されている。砥粒の径は、5nmから15μm程度であり、基材の径を1とすると、1/4000以上1/2以下が好ましい。
【選択図】なし
Description
(A1)酸化還元電位の極性がマイナスとなる分散媒に、酸化還元電位の極性がマイナスとなる溶解性の誘導体と、分散媒中で、pH13におけるゼータ電位のピーク値の極性がマイナスとなり、かつpH13におけるゼータ電位の上限値が30mV以下となる材料からなる砥粒とを、混合して混合液を得る工程
(A2)混合液中の誘導体に対して固定化処理を行う工程
(B1)酸化還元電位の極性がプラスとなる分散媒に、酸化還元電位の極性がマイナスとなる溶解性の誘導体と、分散媒中で、pH13におけるゼータ電位のピーク値の極性がマイナスとなり、かつpH13におけるゼータ電位の上限値が30mVより大きくなる材料、またはpH13におけるゼータ電位のピーク値の極性がプラスとなる材料からなる砥粒とを混合して混合液を得る工程
(B2)混合液中の誘導体に対して固定化処理を行う工程
研磨液1を得る。このようにして、本実施の形態の研磨液1が製造される。
上記実施の形態では、砥粒12は、分散媒14中で、pH13におけるゼータ電位のピーク値の極性がマイナスであって、かつpH13におけるゼータ電位の上限値が30mV以下である無機材料により構成されていたが、砥粒12が、分散媒14中で、pH13におけるゼータ電位のピーク値の極性がマイナスとなり、かつpH13におけるゼータ電位の上限値が30mVより大きくなる材料、またはpH13におけるゼータ電位のピーク値の極性がプラスとなる材料、例えば、ダイヤモンド系、アルミナ系、炭化ケイ素系、ジルコニア系、セリア系またはシリカ系の材料により構成されていてもよい。
次に、本実施の形態の研磨液1を備えた研磨装置100について説明する。
次に、実施例に係る複合粒子2の製造方法について説明する。
1.ビスコース:苛性ソーダ5. 5重量%、セルロース9.5重量%;レンゴー(株)製
2.炭酸カルシウム: 奥多摩工業(株)製
3.ダイヤモンド(200nm);東名ダイヤモンド工業(株)製
( pH13におけるゼータ電位の上限値:- 15mV)
4.ダイヤモンド(1.0μm);東名ダイヤモンド工業(株)製
( pH13におけるゼータ電位の上限値:15mV)
5.炭化ケイ素(3.0μm);東名ダイヤモンド工業(株)製
( pH13におけるゼータ電位の上限値:15mV)
6.炭化ケイ素(13.0μm);東名ダイヤモンド工業(株)製
7.酸化セリウム(27μm);東名ダイヤモンド工業(株)製
( pH13におけるゼータ電位の上限値:15mV)
8.ジルコニア(30μm);住友大阪セメント(株)製
9.アルミナ3 (3μm);東名ダイヤモンド工業(株)製
( pH13におけるゼータ電位の上限値:15mV)
10.アルミナ(10μm);東名ダイヤモンド工業(株)製
( pH13におけるゼータ電位の上限値:15mV)
1.ホモジナイザH( SMT-Process Homogenizer);(株)エスエムテー製
2.電解放射型走査型電子顕微鏡(FE−SEM);商品名S−4000;(株)日立製作所製
3.紫外可視拡散反射スペクトル測定計;商品名JASCO V-560/ISV−469;日本分光(株)製
4.予備混合装置:商品名遊星型ボールミルP−5;フリッチェ製
1.潤滑液: 日本エンギス(株)製
2.市販ダイヤモンド配合研磨液(1 mm, 3 mm): 日本エンギス(株)製
3.市販酸化セリウム配合研磨液: バイコウスキージャパン製
1.ポリッシング・ラッピング装置: LAPOLISH 15 LAPMASTER SDT Corp. 製
2.表面粗さ測定装置: SVRFCON (株)東京精密製
3.共焦点レーザー顕微鏡: VK-9500 キーエンス製
4.鋳鉄定盤: ノリタゲダイヤ(株)製
5.すず定盤: ノリタゲダイヤ(株)製
Claims (10)
- 基材と、
1または複数種類の無機材料からなる砥粒と
を備え、
前記砥粒は少なくとも前記基材の表面に担持されている
ことを特徴とする複合粒子。 - 前記基材は多糖類からなる
ことを特徴とする請求項1に記載の複合粒子。 - 前記多糖類は、その誘導体の酸化還元電位の極性がマイナスとなる高分子であり、
前記砥粒は、pH13におけるゼータ電位のピーク値の極性がマイナスとなり、かつpH13におけるゼータ電位の上限値が30mV以下となる材料からなる
ことを特徴とする請求項2に記載の複合粒子。 - 前記多糖類は、その誘導体の酸化還元電位の極性がマイナスとなる高分子であり、
前記砥粒は、pH13におけるゼータ電位のピーク値の極性がマイナスとなり、かつpH13におけるゼータ電位の上限値が30mVより大きくなる材料、またはpH13におけるゼータ電位のピーク値の極性がプラスとなる材料により構成されている
ことを特徴とする請求項2に記載の複合粒子。 - 前記砥粒の径は、前記基材の径を1とすると、1/4000以上1/2以下である
ことを特徴とする請求項1に記載の複合粒子。 - 複合粒子を分散媒中に分散してなる研磨液であって、
前記複合粒子は、
基材と、
1または複数種類の無機材料からなる砥粒と
を備え、
前記砥粒は少なくとも前記基材の表面に担持されている
ことを特徴とする研磨液。 - 分散媒と、
前記分散媒中にそれぞれ分散された砥粒および基材と
を備え、
前記砥粒は1または複数種類の無機材料からなり、
前記基材は多糖類からなる
ことを特徴とする研磨液。 - 前記砥粒の径は、前記基材の径を1とすると、1/4000以上1/2以下である
ことを特徴とする請求項7に記載の研磨液。 - 酸化還元電位の極性がマイナスとなる分散媒に、酸化還元電位の極性がマイナスとなる溶解性の誘導体と、前記分散媒中で、pH13におけるゼータ電位のピーク値の極性がマイナスとなり、かつpH13におけるゼータ電位の上限値が30mV以下となる材料からなる砥粒とを、混合して混合液を得る工程と、
前記混合液中の前記誘導体に対して固定化処理を行う工程と
を含むことを特徴とする複合粒子の製造方法。 - 酸化還元電位の極性がプラスとなる分散媒に、酸化還元電位の極性がマイナスとなる溶解性の誘導体と、前記分散媒中で、pH13におけるゼータ電位のピーク値の極性がマイナスとなり、かつpH13におけるゼータ電位の上限値が30mVより大きくなる材料、またはpH13におけるゼータ電位のピーク値の極性がプラスとなる材料からなる砥粒とを、混合して混合液を得る工程と、
前記混合液中の前記誘導体に対して固定化処理を行う工程と
を含むことを特徴とする複合粒子の製造方法。
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