JP3117438B1 - 化学的機械的テクスチャ加工方法 - Google Patents
化学的機械的テクスチャ加工方法Info
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Abstract
【要約】
【課題】磁気ディスク用のガラス基板表面に微細且つ均
一なテクスチャ条痕を形成できる化学的機械的テクスチ
ャ加工方法を提供することである。 【解決手段】水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶
液、等の水酸基を有する溶液を含有した砥粒懸濁液Ｌを
ガラス基板Ｄの表面に供給しつつ、プラスチック繊維か
らなる織布テープＴをガラス基板Ｄの表面に押し付けて
走行させる工程、から成る化学的機械的テクスチャ加工
方法。
一なテクスチャ条痕を形成できる化学的機械的テクスチ
ャ加工方法を提供することである。 【解決手段】水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶
液、等の水酸基を有する溶液を含有した砥粒懸濁液Ｌを
ガラス基板Ｄの表面に供給しつつ、プラスチック繊維か
らなる織布テープＴをガラス基板Ｄの表面に押し付けて
走行させる工程、から成る化学的機械的テクスチャ加工
方法。
Description
【０００１】
【発明の属する分野】本発明は、磁気ディスク用のガラ
ス基板表面のテクスチャ加工方法に関し、特に、ガラス
基板表面の化学的機械的テクスチャ加工方法に関する。
ス基板表面のテクスチャ加工方法に関し、特に、ガラス
基板表面の化学的機械的テクスチャ加工方法に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明の解決しようとする課題】磁気デ
ィスク用の基板は、その表面に鏡面加工が施され、次に
所定の表面粗度をもつようにテクスチャ加工されてい
る。
ィスク用の基板は、その表面に鏡面加工が施され、次に
所定の表面粗度をもつようにテクスチャ加工されてい
る。
【０００３】テクスチャ加工は、基板表面にテクスチャ
条痕を形成して、高速で回転する磁気ディスクの表面か
らの磁気ヘッドの浮上距離を一定且つ安定に維持し、ま
た停止中の磁気ディスクの表面への磁気ヘッドの吸着を
防止するために行われる。
条痕を形成して、高速で回転する磁気ディスクの表面か
らの磁気ヘッドの浮上距離を一定且つ安定に維持し、ま
た停止中の磁気ディスクの表面への磁気ヘッドの吸着を
防止するために行われる。
【０００４】このようなテクスチャ加工は、一般に、ダ
イヤモンド、アルミナ、等の微粉を砥粒として混入した
砥粒懸濁液を基板表面に供給しつつ、織布又は不織布の
テープや植毛テープを基板表面に押し付けて走行させた
り、ダイヤモンド、等の微粉を砥粒として固定した研磨
層を表面に形成した研磨テープを基板表面に押し付けて
走行させて行われており、基板表面に砥粒を押し付け擦
ることにより基板表面を機械的に研削して基板表面にテ
クスチャ条痕を形成している。このようなテクスチャ加
工は、一般に、機械的テクスチャ加工とよばれている。
イヤモンド、アルミナ、等の微粉を砥粒として混入した
砥粒懸濁液を基板表面に供給しつつ、織布又は不織布の
テープや植毛テープを基板表面に押し付けて走行させた
り、ダイヤモンド、等の微粉を砥粒として固定した研磨
層を表面に形成した研磨テープを基板表面に押し付けて
走行させて行われており、基板表面に砥粒を押し付け擦
ることにより基板表面を機械的に研削して基板表面にテ
クスチャ条痕を形成している。このようなテクスチャ加
工は、一般に、機械的テクスチャ加工とよばれている。
【０００５】近年、磁気ディスク用の基板として、アル
ミニウム合金製の基板の他、ガラス製の基板（ガラス基
板）が使用されるようになり、アルミニウム基板と同様
に、ガラス基板においても、磁気ヘッドの浮上距離をよ
り小さくして、磁気記憶媒体としての磁気ディスクの記
録密度を増大させるため、ガラス基板表面へのより微細
且つ均一なテクスチャ条痕の形成が要望されている。
ミニウム合金製の基板の他、ガラス製の基板（ガラス基
板）が使用されるようになり、アルミニウム基板と同様
に、ガラス基板においても、磁気ヘッドの浮上距離をよ
り小さくして、磁気記憶媒体としての磁気ディスクの記
録密度を増大させるため、ガラス基板表面へのより微細
且つ均一なテクスチャ条痕の形成が要望されている。
【０００６】しかし、上述のような機械的テクスチャ加
工では、ガラス基板が硬質であるため、微細且つ均一な
テクスチャ条痕をガラス基板表面に形成できない、とい
う問題があり、上記の要望に十分に応えられないのが現
状である。
工では、ガラス基板が硬質であるため、微細且つ均一な
テクスチャ条痕をガラス基板表面に形成できない、とい
う問題があり、上記の要望に十分に応えられないのが現
状である。
【０００７】したがって、本発明の課題は、磁気ディス
ク用のガラス基板表面に微細且つ均一なテクスチャ条痕
を形成できる化学的機械的テクスチャ加工方法を提供す
ることである。
ク用のガラス基板表面に微細且つ均一なテクスチャ条痕
を形成できる化学的機械的テクスチャ加工方法を提供す
ることである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明の化学的機械的テクスチャ加工方法は、水酸基を有す
る溶液を含有した砥粒懸濁液をガラス基板表面に供給し
つつ、プラスチック繊維からなる織布テープをガラス基
板表面に押し付けて走行させる工程、から構成される。
明の化学的機械的テクスチャ加工方法は、水酸基を有す
る溶液を含有した砥粒懸濁液をガラス基板表面に供給し
つつ、プラスチック繊維からなる織布テープをガラス基
板表面に押し付けて走行させる工程、から構成される。
【０００９】本発明の化学的機械的テクスチャ加工方法
は、砥粒懸濁液中の水酸基を有する溶液により砥粒とガ
ラス基板表面との接触界面に固相反応を生じさせ、この
接触界面に異質な物質を生成し、この接触界面部分を化
学的且つ機械的に除去しながら加工する点に特徴があ
り、砥粒懸濁液中の水酸基を有する溶液によるガラス基
板表面の化学反応を利用しているため加工変質が極めて
少なく、加工単位が極めて小さいので微細なテクスチャ
条痕が形成される。
は、砥粒懸濁液中の水酸基を有する溶液により砥粒とガ
ラス基板表面との接触界面に固相反応を生じさせ、この
接触界面に異質な物質を生成し、この接触界面部分を化
学的且つ機械的に除去しながら加工する点に特徴があ
り、砥粒懸濁液中の水酸基を有する溶液によるガラス基
板表面の化学反応を利用しているため加工変質が極めて
少なく、加工単位が極めて小さいので微細なテクスチャ
条痕が形成される。
【００１０】ガラス基板表面に供給される水酸基を有す
る溶液は、砥粒とガラス基板表面との接触界面に生じる
固相反応による化学的研磨加工を促進するだけでなく、
砥粒とガラス基板との機械的研磨加工により発生する摩
擦熱を吸収するクーラントとしての機能も発揮する。
る溶液は、砥粒とガラス基板表面との接触界面に生じる
固相反応による化学的研磨加工を促進するだけでなく、
砥粒とガラス基板との機械的研磨加工により発生する摩
擦熱を吸収するクーラントとしての機能も発揮する。
【００１１】本発明の化学的機械的テクスチャ加工方法
に使用する水酸基を有する溶液には、水酸化カリウム溶
液、水酸化ナトリウム溶液、等が使用される。
に使用する水酸基を有する溶液には、水酸化カリウム溶
液、水酸化ナトリウム溶液、等が使用される。
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明に従った化学的機械的テク
スチャ加工は、水酸基を有する溶液を含有した砥粒懸濁
液をガラス基板表面に供給しつつ、プラスチック繊維か
らなる織布テープをガラス基板表面に押し付けながら走
行させて行われ、好適に、図１に示すような片面研磨加
工機にて行われる。ここで、織布テープは、ポリエステ
ル、ナイロン、ポリエチレン、等の高引張力及び耐薬品
性があるプラスチック繊維からなる織物又は編物をテー
プ状にスリットしたものである。織布テープの厚さは、
５μｍ〜５０００μｍの範囲にある。
スチャ加工は、水酸基を有する溶液を含有した砥粒懸濁
液をガラス基板表面に供給しつつ、プラスチック繊維か
らなる織布テープをガラス基板表面に押し付けながら走
行させて行われ、好適に、図１に示すような片面研磨加
工機にて行われる。ここで、織布テープは、ポリエステ
ル、ナイロン、ポリエチレン、等の高引張力及び耐薬品
性があるプラスチック繊維からなる織物又は編物をテー
プ状にスリットしたものである。織布テープの厚さは、
５μｍ〜５０００μｍの範囲にある。
【００１３】図示の片面研磨加工機では、ノズルＮを通
じて水酸基を含有した砥粒懸濁液Ｌをガラス基板Ｄの表
面に供給しつつ、ガラス基板Ｄを矢印Ｒの方向に回転さ
せ、織布テープＴをガラス基板Ｄの表面にゴムローラＰ
を介して押し付け、織布テープＴをガラス基板Ｄの回転
方向Ｒと逆方向（矢印Ｍの方向）に走行させて化学的機
械的研磨加工が行われる。ガラス基板Ｄの洗浄は、ガラ
ス基板Ｄから織布テープＴを遠ざけた直後、ガラス基板
Ｄを研磨加工機に取り付けたままガラス基板Ｄの表面に
洗浄液を吹きかけて行われる。
じて水酸基を含有した砥粒懸濁液Ｌをガラス基板Ｄの表
面に供給しつつ、ガラス基板Ｄを矢印Ｒの方向に回転さ
せ、織布テープＴをガラス基板Ｄの表面にゴムローラＰ
を介して押し付け、織布テープＴをガラス基板Ｄの回転
方向Ｒと逆方向（矢印Ｍの方向）に走行させて化学的機
械的研磨加工が行われる。ガラス基板Ｄの洗浄は、ガラ
ス基板Ｄから織布テープＴを遠ざけた直後、ガラス基板
Ｄを研磨加工機に取り付けたままガラス基板Ｄの表面に
洗浄液を吹きかけて行われる。
【００１４】ここで、ゴムローラＰの硬度は、低すぎる
とガラス基板Ｄの表面にテクスチャ条痕が形成されない
ので、少なくとも６０以上である。
とガラス基板Ｄの表面にテクスチャ条痕が形成されない
ので、少なくとも６０以上である。
【００１５】砥粒懸濁液は、砥粒を分散した水溶液に、
水酸基を有する溶液を添加したものであり、水酸基を有
する溶液には、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム
溶液、等が使用される。
水酸基を有する溶液を添加したものであり、水酸基を有
する溶液には、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム
溶液、等が使用される。
【００１６】砥粒には、粒径０．０１μｍ〜５μｍの範
囲にあるダイヤモンド、炭化珪素、アルミナ、酸化ジル
コニア、等の研磨用途に一般的に使用されている微粉が
使用される。
囲にあるダイヤモンド、炭化珪素、アルミナ、酸化ジル
コニア、等の研磨用途に一般的に使用されている微粉が
使用される。
【００１７】
【実施例】本発明の方法に従って磁気ディスク用のガラ
ス基板のテクスチャ加工を行って加工後の表面粗度を計
測し、また、その表面の状態を観察した。
ス基板のテクスチャ加工を行って加工後の表面粗度を計
測し、また、その表面の状態を観察した。
【００１８】実施例では、織布テープは、太さ１．０デ
ニールのポリエステル繊維からなる織布をテープ状にス
リットしたものであり、織布テープの厚さは７５μｍで
あった。
ニールのポリエステル繊維からなる織布をテープ状にス
リットしたものであり、織布テープの厚さは７５μｍで
あった。
【００１９】砥粒懸濁液は、粒径２μｍのダイヤモンド
微粉を含有した水溶液（ダイヤモンド微粉０．５重量
％、純水９９．５重量％）（９５重量％）に水酸化カリ
ウム（５重量％）を添加したものである。
微粉を含有した水溶液（ダイヤモンド微粉０．５重量
％、純水９９．５重量％）（９５重量％）に水酸化カリ
ウム（５重量％）を添加したものである。
【００２０】ガラス基板表面の化学的機械的研磨加工
は、図１に示す片面研磨加工機を使用し、以下の表１に
示す研磨加工条件にて行った。
は、図１に示す片面研磨加工機を使用し、以下の表１に
示す研磨加工条件にて行った。
【００２１】テクスチャ加工に使用したガラス基板は、
予め鏡面加工が施されたものであり、その平均表面粗度
（Ｒａ）は、３．０Å（加工前）であった。
予め鏡面加工が施されたものであり、その平均表面粗度
（Ｒａ）は、３．０Å（加工前）であった。
【００２２】
【表１】
【００２３】化学的機械的研磨加工後のガラス基板表面
上の任意の３０μｍ×３０μｍの範囲を走査型プローブ
顕微鏡（デジタルインスツルメント社、ナノスコープＤ
ｉｍｅｎｔｉｏｎ３１００シリーズ）を使用して走査
（２５６ポイント）し、この走査範囲での平均表面粗度
を計測した。平均表面粗度は、４．４Åであった。ま
た、ガラス基板表面の状態を観察したところ、表面には
テクスチャ条痕が均一に形成された。
上の任意の３０μｍ×３０μｍの範囲を走査型プローブ
顕微鏡（デジタルインスツルメント社、ナノスコープＤ
ｉｍｅｎｔｉｏｎ３１００シリーズ）を使用して走査
（２５６ポイント）し、この走査範囲での平均表面粗度
を計測した。平均表面粗度は、４．４Åであった。ま
た、ガラス基板表面の状態を観察したところ、表面には
テクスチャ条痕が均一に形成された。
【００２４】＜比較実験＞ 上記実施例におけるガラス
基板表面の化学的機械的研磨加工において、ゴムローラ
の硬度を４０に変えて、予め鏡面加工が施された平均表
面粗度（Ｒａ）３．０Åのガラス基板のテクスチャ加工
を行った。
基板表面の化学的機械的研磨加工において、ゴムローラ
の硬度を４０に変えて、予め鏡面加工が施された平均表
面粗度（Ｒａ）３．０Åのガラス基板のテクスチャ加工
を行った。
【００２５】上記実施例と同様に、化学的機械的研磨加
工後のガラス基板表面上の任意の３０μｍ×３０μｍの
範囲を走査型プローブ顕微鏡を使用して走査（２５６ポ
イント）し、この走査範囲での平均表面粗度を計測し
た。平均表面粗度は、３．６Åであり、ガラス基板表面
の状態を観察したところ、表面にはテクスチャ条痕が形
成されず、ガラス基板表面が単に研磨されただけであっ
た。
工後のガラス基板表面上の任意の３０μｍ×３０μｍの
範囲を走査型プローブ顕微鏡を使用して走査（２５６ポ
イント）し、この走査範囲での平均表面粗度を計測し
た。平均表面粗度は、３．６Åであり、ガラス基板表面
の状態を観察したところ、表面にはテクスチャ条痕が形
成されず、ガラス基板表面が単に研磨されただけであっ
た。
【００２６】
【発明の効果】本発明の化学的機械的テクスチャ加工方
法が以上のように構成されるので、磁気ディスク用のガ
ラス基板表面に微細且つ均一なテクスチャ条痕を形成で
きる、という効果を奏する。
法が以上のように構成されるので、磁気ディスク用のガ
ラス基板表面に微細且つ均一なテクスチャ条痕を形成で
きる、という効果を奏する。
【図１】図１は、本発明の実施例に使用する片面研磨加
工機の略図である。
工機の略図である。
Ｄ ・・・ガラス基板 Ｌ ・・・砥粒懸濁液 Ｎ ・・・ノズル Ｐ ・・・ゴムローラ Ｔ ・・・織布テープ Ｍ ・・・テープ走行方向 Ｒ ・・・ガラス基板回転方向
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平８−96355（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−33042（ＪＰ，Ａ) 特開 平11−114792（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−241521（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−44862（ＪＰ，Ａ) 特開 平11−138407（ＪＰ，Ａ) 特開 平11−90810（ＪＰ，Ａ) 特開 平10−188274（ＪＰ，Ａ) 特開 平11−138424（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B24B 21/00 G11B 5/84 B24B 37/00
Claims (2)
- 【請求項１】水酸基を有する溶液を含有した砥粒懸濁液
をガラス基板表面に供給しつつ、プラスチック繊維から
なる織布テープを前記ガラス基板表面に押し付けて走行
させる工程、から成る化学的機械的テクスチャ加工方
法。 - 【請求項２】前記水酸基を有する溶液が水酸化カリウム
溶液である、請求項１の化学的機械的テクスチャ加工方
法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11178258A JP3117438B1 (ja) | 1999-06-24 | 1999-06-24 | 化学的機械的テクスチャ加工方法 |
| US09/590,643 US6755722B1 (en) | 1999-06-24 | 2000-06-08 | Method of chemical mechanical texturing |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11178258A JP3117438B1 (ja) | 1999-06-24 | 1999-06-24 | 化学的機械的テクスチャ加工方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP3117438B1 true JP3117438B1 (ja) | 2000-12-11 |
| JP2001009694A JP2001009694A (ja) | 2001-01-16 |
Family
ID=16045358
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11178258A Expired - Fee Related JP3117438B1 (ja) | 1999-06-24 | 1999-06-24 | 化学的機械的テクスチャ加工方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6755722B1 (ja) |
| JP (1) | JP3117438B1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7550211B2 (en) | 2004-08-16 | 2009-06-23 | Showa Denko K.K. | Magnetic recording medium and magnetic recording and reproducing device |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3473847B2 (ja) * | 2001-05-11 | 2003-12-08 | 富士電機ホールディングス株式会社 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
| JP5095141B2 (ja) * | 2006-07-05 | 2012-12-12 | 日本ミクロコーティング株式会社 | テープ状金属基材の表面研磨システム及び研磨方法 |
| CN101969022B (zh) * | 2010-08-12 | 2012-12-19 | 友达光电股份有限公司 | 基板清洗机台与基板清洗方法 |
| JP5831974B2 (ja) * | 2011-11-08 | 2015-12-16 | Ｍｉｐｏｘ株式会社 | 端縁部を研磨テープにより研磨仕上げした板ガラス並びに板ガラス端縁部の研磨方法及び研磨装置 |
| US20150238207A1 (en) | 2012-09-24 | 2015-08-27 | Inceptus Medical LLC | Device and method for treating vascular occlusion |
| US10342571B2 (en) | 2015-10-23 | 2019-07-09 | Inari Medical, Inc. | Intravascular treatment of vascular occlusion and associated devices, systems, and methods |
| US9700332B2 (en) | 2015-10-23 | 2017-07-11 | Inari Medical, Inc. | Intravascular treatment of vascular occlusion and associated devices, systems, and methods |
| CN110312481B (zh) | 2016-10-24 | 2023-04-11 | 伊纳里医疗有限公司 | 用于治疗血管闭塞的装置和方法 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4973496A (en) * | 1989-11-02 | 1990-11-27 | International Business Machines Corporation | Method for texturing magnetic disks |
| US5482497A (en) * | 1992-12-30 | 1996-01-09 | International Business Machines Corporation | Method and apparatus for texturing zones of a magnetic disk |
| IN183464B (ja) * | 1994-07-25 | 2000-01-15 | Orica Australia Pty Ltd | |
| US5624303A (en) * | 1996-01-22 | 1997-04-29 | Micron Technology, Inc. | Polishing pad and a method for making a polishing pad with covalently bonded particles |
| SG65715A1 (en) * | 1996-12-26 | 1999-06-22 | Mitsubishi Chem Corp | Texturing method |
| US6099604A (en) * | 1997-08-21 | 2000-08-08 | Micron Technology, Inc. | Slurry with chelating agent for chemical-mechanical polishing of a semiconductor wafer and methods related thereto |
| JP2000301441A (ja) * | 1999-04-19 | 2000-10-31 | Nippon Micro Coating Kk | 化学的機械的テクスチャ加工方法 |
| US6258721B1 (en) * | 1999-12-27 | 2001-07-10 | General Electric Company | Diamond slurry for chemical-mechanical planarization of semiconductor wafers |
| JP2001341058A (ja) * | 2000-03-29 | 2001-12-11 | Nihon Micro Coating Co Ltd | 磁気ディスク用ガラス基板表面加工方法及び加工用砥粒懸濁液 |
-
1999
- 1999-06-24 JP JP11178258A patent/JP3117438B1/ja not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-06-08 US US09/590,643 patent/US6755722B1/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7550211B2 (en) | 2004-08-16 | 2009-06-23 | Showa Denko K.K. | Magnetic recording medium and magnetic recording and reproducing device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2001009694A (ja) | 2001-01-16 |
| US6755722B1 (en) | 2004-06-29 |
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