JP3531906B2 - 磁気記録媒体用結晶化ガラス基板の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体用結晶化ガラス基板の製造方法Info
- Publication number
- JP3531906B2 JP3531906B2 JP33588998A JP33588998A JP3531906B2 JP 3531906 B2 JP3531906 B2 JP 3531906B2 JP 33588998 A JP33588998 A JP 33588998A JP 33588998 A JP33588998 A JP 33588998A JP 3531906 B2 JP3531906 B2 JP 3531906B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass substrate
- polishing
- crystallized glass
- recording medium
- magnetic recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体用結晶
化ガラス基板の製造方法に関し、より詳しくは、表面欠
陥が少なく且つ表面粗さが極端に低いスムーズな表面を
有する磁気記録媒体用結晶化ガラス基板を生産できる製
造方法に関する。
化ガラス基板の製造方法に関し、より詳しくは、表面欠
陥が少なく且つ表面粗さが極端に低いスムーズな表面を
有する磁気記録媒体用結晶化ガラス基板を生産できる製
造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気ディスク記録装置の大容量化に伴っ
て、記録密度向上のために磁気ヘッド浮上量の低減が図
られており、そのためには表面平滑性に優れており、し
かも表面欠陥の少ない磁気記録媒体用基板が必要とされ
ている。
て、記録密度向上のために磁気ヘッド浮上量の低減が図
られており、そのためには表面平滑性に優れており、し
かも表面欠陥の少ない磁気記録媒体用基板が必要とされ
ている。
【０００３】表面平滑性に優れた磁気記録媒体用基板と
して、従来は、アルミニウム合金にＮｉ−Ｐメッキを施
し、そのメッキした主表面を多段に研磨して得た基板が
主として使用されている。
して、従来は、アルミニウム合金にＮｉ−Ｐメッキを施
し、そのメッキした主表面を多段に研磨して得た基板が
主として使用されている。
【０００４】しかし、近年は、ノート型パソコン等の携
帯できるパソコンにも磁気ディスク記録装置が採用され
てきており、それで耐衝撃性の高い磁気記録媒体用基板
が必要とされてきており、また、磁気ディスク記録装置
の応答速度を高めるために磁気記録媒体用基板を１００
００ｒｐｍ以上で高速回転させる必要から高強度な磁気
記録媒体用基板が必要とされてきており、これらの必要
性を満たすものとしてガラス基板が用いられてきてい
る。
帯できるパソコンにも磁気ディスク記録装置が採用され
てきており、それで耐衝撃性の高い磁気記録媒体用基板
が必要とされてきており、また、磁気ディスク記録装置
の応答速度を高めるために磁気記録媒体用基板を１００
００ｒｐｍ以上で高速回転させる必要から高強度な磁気
記録媒体用基板が必要とされてきており、これらの必要
性を満たすものとしてガラス基板が用いられてきてい
る。
【０００５】このガラス基板として、化学強化によって
強度アップした強化ガラス基板が主として採用されてい
るが、更に、高強度を容易に達成することができる結晶
化ガラス基板も有力なものとして挙げることができる。
強度アップした強化ガラス基板が主として採用されてい
るが、更に、高強度を容易に達成することができる結晶
化ガラス基板も有力なものとして挙げることができる。
【０００６】この結晶化ガラスは、例えば７０〜８０％
の結晶相と２０〜３０％のアモルファス相とが共存する
混合相から構成されており、例えば、溶融成形して得ら
れたアモルファス状のガラスを６００〜８００℃の高温
に長時間保持することによって作られる。
の結晶相と２０〜３０％のアモルファス相とが共存する
混合相から構成されており、例えば、溶融成形して得ら
れたアモルファス状のガラスを６００〜８００℃の高温
に長時間保持することによって作られる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな結晶化ガラス基板を、周知技術に従って平均粒径が
０．５〜２μｍ程度のＣｅＯ2 系の研磨材を数％程度含
有する研磨液を用いて研磨しても、結晶相とアモルファ
ス相との物性（硬度）の違いから結晶相は比較的研磨さ
れにくく、アモルファス相は比較的研磨され易いので表
面に凹凸が形成されてしまい、中心線平均粗さＲａで８
Å程度が限度であり、スムーズな表面とすることが困難
である。
うな結晶化ガラス基板を、周知技術に従って平均粒径が
０．５〜２μｍ程度のＣｅＯ2 系の研磨材を数％程度含
有する研磨液を用いて研磨しても、結晶相とアモルファ
ス相との物性（硬度）の違いから結晶相は比較的研磨さ
れにくく、アモルファス相は比較的研磨され易いので表
面に凹凸が形成されてしまい、中心線平均粗さＲａで８
Å程度が限度であり、スムーズな表面とすることが困難
である。
【０００８】本発明の課題は、表面欠陥が少なく且つ表
面粗さが極端に低いスムーズな表面を有する磁気記録媒
体用結晶化ガラス基板を効率よく生産できる製造方法を
提供することである。
面粗さが極端に低いスムーズな表面を有する磁気記録媒
体用結晶化ガラス基板を効率よく生産できる製造方法を
提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題に
ついて鋭意検討した結果、従来周知の方法に従って磁気
記録媒体用結晶化ガラス基板を所定の板厚になるように
ラッピング加工し、必要に応じてポリッシング加工した
後の仕上げポリッシング工程において、極微細なＣｅＯ
2 系研磨材を極低濃度で含有し、添加剤として脂肪酸石
鹸を含有する研磨液を用いると、予想外にも、結晶化ガ
ラス基板を従来の両面研磨機を用いてアモルファスガラ
ス基板と同程度に容易に研磨でき、しかも結晶化ガラス
基板の表面欠陥を少なくし且つ表面粗さを容易に低くで
きることを見出し、本発明を完成した。
ついて鋭意検討した結果、従来周知の方法に従って磁気
記録媒体用結晶化ガラス基板を所定の板厚になるように
ラッピング加工し、必要に応じてポリッシング加工した
後の仕上げポリッシング工程において、極微細なＣｅＯ
2 系研磨材を極低濃度で含有し、添加剤として脂肪酸石
鹸を含有する研磨液を用いると、予想外にも、結晶化ガ
ラス基板を従来の両面研磨機を用いてアモルファスガラ
ス基板と同程度に容易に研磨でき、しかも結晶化ガラス
基板の表面欠陥を少なくし且つ表面粗さを容易に低くで
きることを見出し、本発明を完成した。
【００１０】即ち、本発明の磁気記録媒体用結晶化ガラ
ス基板の製造方法は、磁気記録媒体用結晶化ガラス基板
の仕上げポリッシング工程において、平均粒径Ｄ50が
０.５μｍ以下のＣｅＯ2系研磨材を０ . ５重量％以下含
有し、添加剤として脂肪酸石鹸を含有する研磨液及び研
磨布を用いて研磨することを特徴とする。
ス基板の製造方法は、磁気記録媒体用結晶化ガラス基板
の仕上げポリッシング工程において、平均粒径Ｄ50が
０.５μｍ以下のＣｅＯ2系研磨材を０ . ５重量％以下含
有し、添加剤として脂肪酸石鹸を含有する研磨液及び研
磨布を用いて研磨することを特徴とする。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下に、本発明について詳細に説
明する。本発明の製造方法で使用する研磨材は、平均粒
径Ｄ50が０．５μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以下、
より好ましくは０．２μｍ以下のＣｅＯ2 系微粒子であ
る。平均粒径が０．５μｍよりも大きい研磨材を含有す
る研磨液を用いて結晶化ガラス基板を研磨すると、表面
粗さが大きくなり、本発明で目的としているような表面
欠陥が少なく且つ表面粗さが極端に低いスムーズな表面
を有する結晶化ガラス基板を生産することができない。
明する。本発明の製造方法で使用する研磨材は、平均粒
径Ｄ50が０．５μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以下、
より好ましくは０．２μｍ以下のＣｅＯ2 系微粒子であ
る。平均粒径が０．５μｍよりも大きい研磨材を含有す
る研磨液を用いて結晶化ガラス基板を研磨すると、表面
粗さが大きくなり、本発明で目的としているような表面
欠陥が少なく且つ表面粗さが極端に低いスムーズな表面
を有する結晶化ガラス基板を生産することができない。
【００１２】本発明の製造方法で使用できるＣｅＯ2 系
研磨材として、高純度のＣｅＯ2 、ＣｅＯ2 と希土類元
素酸化物との混合物、ＣｅＯ2 とＳｉＯ2 との混合物、
特開平９−１３２７７０号公報に開示されているような
酸化セリウムと酸化ケイ素とからなる固溶体等を挙げる
ことができる。このような固溶体は所望の極微細粒子と
して入手でき、且つ水中への分散性が良好であるので本
発明で用いるのに特に適している。このような固溶体は
酸化セリウム１００重量部と酸化ケイ素０．１〜１０重
量部とからなる固溶体であることが好ましい。
研磨材として、高純度のＣｅＯ2 、ＣｅＯ2 と希土類元
素酸化物との混合物、ＣｅＯ2 とＳｉＯ2 との混合物、
特開平９−１３２７７０号公報に開示されているような
酸化セリウムと酸化ケイ素とからなる固溶体等を挙げる
ことができる。このような固溶体は所望の極微細粒子と
して入手でき、且つ水中への分散性が良好であるので本
発明で用いるのに特に適している。このような固溶体は
酸化セリウム１００重量部と酸化ケイ素０．１〜１０重
量部とからなる固溶体であることが好ましい。
【００１３】本発明の製造方法で使用する研磨液は、上
記のＣｅＯ2 系研磨材を１重量％以下，好ましくは０.
５重量％以下含有するものである。ＣｅＯ2 系研磨材の
濃度が０ . ５重量％を超える研磨液、特に１重量％を超
える研磨液を用いて結晶化ガラス基板を研磨すると、表
面粗さが大きくなり、本発明で目的としているような表
面欠陥が少なく且つ表面粗さが極端に低いスムーズな表
面を有する結晶化ガラス基板を生産することができな
い。ＣｅＯ2 系研磨材の濃度を極めて低くした研磨液を
用いて研磨することにより結晶化ガラス基板表面の表面
粗さが極端に低くなる理由については、現時点では解明
にまでは至っていないが、おそらく、研磨加工に有効に
作用するのに必要な研磨材の濃度は実際には非常に低
く、しかも研磨液中に過剰量の研磨材が存在すると表面
粗さを悪くする方に作用するためであると考えられる。
記のＣｅＯ2 系研磨材を１重量％以下，好ましくは０.
５重量％以下含有するものである。ＣｅＯ2 系研磨材の
濃度が０ . ５重量％を超える研磨液、特に１重量％を超
える研磨液を用いて結晶化ガラス基板を研磨すると、表
面粗さが大きくなり、本発明で目的としているような表
面欠陥が少なく且つ表面粗さが極端に低いスムーズな表
面を有する結晶化ガラス基板を生産することができな
い。ＣｅＯ2 系研磨材の濃度を極めて低くした研磨液を
用いて研磨することにより結晶化ガラス基板表面の表面
粗さが極端に低くなる理由については、現時点では解明
にまでは至っていないが、おそらく、研磨加工に有効に
作用するのに必要な研磨材の濃度は実際には非常に低
く、しかも研磨液中に過剰量の研磨材が存在すると表面
粗さを悪くする方に作用するためであると考えられる。
【００１４】本発明の製造方法においては、研磨液中の
研磨材の濃度が低いため研磨中の研磨抵抗、加工抵抗が
大きくなるが、それらの抵抗を下げるために、従来技術
と同様に研磨液に高分子添加剤や界面活性剤を含有させ
ることができる。このような高分子添加剤としてセルロ
ース、グリセリン等を用いることができ、また界面活性
剤としてアニオン系、カチオン系、非イオン系の界面活
性剤を用いることができる。しかし、脂肪酸系界面活性
剤である脂肪酸石鹸を用いると、単に研磨抵抗、加工抵
抗が低下するだけでなく、表面粗さが極端に低いスムー
ズな表面を有する結晶化ガラス基板の生産が更に容易に
なる。
研磨材の濃度が低いため研磨中の研磨抵抗、加工抵抗が
大きくなるが、それらの抵抗を下げるために、従来技術
と同様に研磨液に高分子添加剤や界面活性剤を含有させ
ることができる。このような高分子添加剤としてセルロ
ース、グリセリン等を用いることができ、また界面活性
剤としてアニオン系、カチオン系、非イオン系の界面活
性剤を用いることができる。しかし、脂肪酸系界面活性
剤である脂肪酸石鹸を用いると、単に研磨抵抗、加工抵
抗が低下するだけでなく、表面粗さが極端に低いスムー
ズな表面を有する結晶化ガラス基板の生産が更に容易に
なる。
【００１５】本発明の製造方法においては、公知の両面
研磨機を用い、研磨布を用いて結晶化ガラス基板を研磨
するが、この際、メカノ−ケミカル作用のうちメカノ作
用を高めるため、硬めの研磨布を用いることが好まし
く、このような硬めの研磨布としては、例えば硬質の発
泡ウレタン等を挙げることができる。
研磨機を用い、研磨布を用いて結晶化ガラス基板を研磨
するが、この際、メカノ−ケミカル作用のうちメカノ作
用を高めるため、硬めの研磨布を用いることが好まし
く、このような硬めの研磨布としては、例えば硬質の発
泡ウレタン等を挙げることができる。
【００１６】本発明の製造方法において、上記以外の研
磨条件、例えば研磨圧力、回転数、研磨時間について
は、普通に研磨加工が可能である限りは特には制限され
ない。しかしながら、研磨圧力が高過ぎるとキシミ音が
発生したり、結晶化ガラス基板の破損が発生したりする
こともあるので、好ましくは１００ｇ／ｃｍ2 未満、よ
り好ましくは８０ｇ／ｃｍ2 以下で実施する。回転数に
ついては遅過ぎるとキシミ音が発生ことがあり、早過ぎ
ると研磨抵抗、加工抵抗が大きくなり過ぎることがある
ので、１５〜６０ｒｐｍ程度であることが好ましい。ま
た、研磨時間については、回転数と関連するが、短過ぎ
ると表面粗さの改善が不十分である傾向があり、長くな
ってもそれに見合った効果が得られないので、研磨時間
（分）×回転数（ｒｐｍ）で１５０〜１０００程度にな
ることが好ましい。
磨条件、例えば研磨圧力、回転数、研磨時間について
は、普通に研磨加工が可能である限りは特には制限され
ない。しかしながら、研磨圧力が高過ぎるとキシミ音が
発生したり、結晶化ガラス基板の破損が発生したりする
こともあるので、好ましくは１００ｇ／ｃｍ2 未満、よ
り好ましくは８０ｇ／ｃｍ2 以下で実施する。回転数に
ついては遅過ぎるとキシミ音が発生ことがあり、早過ぎ
ると研磨抵抗、加工抵抗が大きくなり過ぎることがある
ので、１５〜６０ｒｐｍ程度であることが好ましい。ま
た、研磨時間については、回転数と関連するが、短過ぎ
ると表面粗さの改善が不十分である傾向があり、長くな
ってもそれに見合った効果が得られないので、研磨時間
（分）×回転数（ｒｐｍ）で１５０〜１０００程度にな
ることが好ましい。
【００１７】
【実施例】以下に、実施例及び比較例によって本発明を
更に具体的に説明する。比較例１ 通常の磁気記録媒体用結晶化ガラス基板の作製手順に従
って、リチウムシリケート結晶化ガラス板（株式会社オ
ハラ製：ＴＳ−１０ＳＸ、石英・クリストバライトが７
０〜８０％、残りがアモルファス）を内外径加工し、ラ
ッピング加工して、外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍ、板厚
０．６８ｍｍの多数のドーナツ状基板を作製した。
更に具体的に説明する。比較例１ 通常の磁気記録媒体用結晶化ガラス基板の作製手順に従
って、リチウムシリケート結晶化ガラス板（株式会社オ
ハラ製：ＴＳ−１０ＳＸ、石英・クリストバライトが７
０〜８０％、残りがアモルファス）を内外径加工し、ラ
ッピング加工して、外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍ、板厚
０．６８ｍｍの多数のドーナツ状基板を作製した。
【００１８】次に、上記のドーナツ状基板１００枚を浜
井株式会社製の１６Ｂ両面研磨機にセットし、研磨材と
して三井金属鉱業株式会社製のミレーク８０１（ＣｅＯ
2 系研磨材、平均粒径Ｄ50＝１．５μｍ）を用い、研磨
布としてロデールニッタ製のＭＨＣ１５Ａ（発砲ウレタ
ン）を用いて削減厚さが片面１５μｍとなるように研磨
して、本発明で研磨処理する結晶化ガラス基板を作製し
た。
井株式会社製の１６Ｂ両面研磨機にセットし、研磨材と
して三井金属鉱業株式会社製のミレーク８０１（ＣｅＯ
2 系研磨材、平均粒径Ｄ50＝１．５μｍ）を用い、研磨
布としてロデールニッタ製のＭＨＣ１５Ａ（発砲ウレタ
ン）を用いて削減厚さが片面１５μｍとなるように研磨
して、本発明で研磨処理する結晶化ガラス基板を作製し
た。
【００１９】上記で得た結晶化ガラス基板１００枚を浜
井株式会社製の１６Ｂ両面研磨機にセットし、研磨材と
して三井金属鉱業株式会社製のＣＥＰ（酸化セリウム１
００重量部と酸化ケイ素１重量部とからなる固溶体、平
均粒径Ｄ50＝０．２μｍ）を用い、この研磨材を０．５
重量％含有する研磨液を用い、研磨布としてロデールニ
ッタ製のＭＨＣ１４Ｅ（発砲ウレタン）を用い、研磨圧
力６０ｇ／ｃｍ2 、回転数３０ｒｐｍ、研磨時間２０分
間の研磨条件で結晶化ガラス基板の両面を研磨した。研
磨後の結晶化ガラス基板の表面の表面粗さ（Ｒa 及びＲ
max ）をＡ．Ｆ．Ｍ．(Atomic Force Microscope) で２
μｍ×２μｍの面積で観察した。その結果を第１表に示
す。
井株式会社製の１６Ｂ両面研磨機にセットし、研磨材と
して三井金属鉱業株式会社製のＣＥＰ（酸化セリウム１
００重量部と酸化ケイ素１重量部とからなる固溶体、平
均粒径Ｄ50＝０．２μｍ）を用い、この研磨材を０．５
重量％含有する研磨液を用い、研磨布としてロデールニ
ッタ製のＭＨＣ１４Ｅ（発砲ウレタン）を用い、研磨圧
力６０ｇ／ｃｍ2 、回転数３０ｒｐｍ、研磨時間２０分
間の研磨条件で結晶化ガラス基板の両面を研磨した。研
磨後の結晶化ガラス基板の表面の表面粗さ（Ｒa 及びＲ
max ）をＡ．Ｆ．Ｍ．(Atomic Force Microscope) で２
μｍ×２μｍの面積で観察した。その結果を第１表に示
す。
【００２０】比較例２ 比較例１
で用いたＣＥＰ研磨材の代わりに三井金属鉱業
株式会社製のミレークＳＯ（平均粒径Ｄ50＝１．０μ
ｍ；ＣｅＯ2 ７０％）を用いた以外は、比較例１と同様
の処理を施し、研磨後の結晶化ガラス基板の表面の表面
粗さを比較例１と同様に観察した。その結果を第１表に
示す。
株式会社製のミレークＳＯ（平均粒径Ｄ50＝１．０μ
ｍ；ＣｅＯ2 ７０％）を用いた以外は、比較例１と同様
の処理を施し、研磨後の結晶化ガラス基板の表面の表面
粗さを比較例１と同様に観察した。その結果を第１表に
示す。
【００２１】
【００２２】第１表のデータからも明らかなように、従
来、普通に用いられている平均粒径１.０μｍよりも小
さい（Ｄ50が０.５μｍ以下の）ＣｅＯ2 系研磨材を低
濃度（０ . ５重量％以下）で用いて研磨することにより
結晶化ガラス基板表面の表面粗さを低くすることができ
る。
来、普通に用いられている平均粒径１.０μｍよりも小
さい（Ｄ50が０.５μｍ以下の）ＣｅＯ2 系研磨材を低
濃度（０ . ５重量％以下）で用いて研磨することにより
結晶化ガラス基板表面の表面粗さを低くすることができ
る。
【００２３】
【００２４】
【００２５】実施例１〜５及び比較例３〜４ 比較例１
で用いたＣＥＰ研磨材の濃度を第２表に示すよ
うに変更し、また添加剤として脂肪酸石鹸（協同油脂
製；ＭＫＰ−９８）を第２表に示す濃度で添加した（無
添加の場合もある）以外は、比較例１と同様の処理を施
し、研磨後の結晶化ガラス基板の表面の表面粗さを比較
例１と同様に観察した。その結果を比較例１のデータと
共に第２表に示す。
うに変更し、また添加剤として脂肪酸石鹸（協同油脂
製；ＭＫＰ−９８）を第２表に示す濃度で添加した（無
添加の場合もある）以外は、比較例１と同様の処理を施
し、研磨後の結晶化ガラス基板の表面の表面粗さを比較
例１と同様に観察した。その結果を比較例１のデータと
共に第２表に示す。
【００２６】
【００２７】第２表のデータからも明らかなように、研
磨液中の研磨材の濃度が０ . ５質量％よりも高い場合、
特に１重量％よりも高い場合には、研磨後の結晶化ガラ
ス基板の表面の表面粗さが悪いが、極めて低濃度である
ときには研磨後の結晶化ガラス基板表面の表面粗さを低
くすることができ、また、添加剤として脂肪酸石鹸を加
えるとその潤滑作用により更に表面粗さを低くすること
ができる。
磨液中の研磨材の濃度が０ . ５質量％よりも高い場合、
特に１重量％よりも高い場合には、研磨後の結晶化ガラ
ス基板の表面の表面粗さが悪いが、極めて低濃度である
ときには研磨後の結晶化ガラス基板表面の表面粗さを低
くすることができ、また、添加剤として脂肪酸石鹸を加
えるとその潤滑作用により更に表面粗さを低くすること
ができる。
【００２８】
【００２９】
【００３０】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明の製造方
法に従って結晶化ガラス基板を製造することにより、表
面粗さを極めて低いスムーズな表面を有する磁気記録媒
体用結晶化ガラス基板を容易に得ることができる。
法に従って結晶化ガラス基板を製造することにより、表
面粗さを極めて低いスムーズな表面を有する磁気記録媒
体用結晶化ガラス基板を容易に得ることができる。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G11B 5/84
Claims (3)
- 【請求項１】磁気記録媒体用結晶化ガラス基板の仕上げ
ポリッシング工程において、平均粒径Ｄ50が０.５μｍ
以下のＣｅＯ2 系研磨材を０ . ５重量％以下含有し、添
加剤として脂肪酸石鹸を含有する研磨液及び研磨布を用
いて研磨することを特徴とする磁気記録媒体用結晶化ガ
ラス基板の製造方法。 - 【請求項２】平均粒径Ｄ50が０.３μｍ以下のＣｅＯ2
系研磨材を０.５重量％以下含有する研磨液を用いるこ
とを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体用結晶化ガ
ラス基板の製造方法。 - 【請求項３】ＣｅＯ2 系研磨材が酸化セリウム１００重
量部と酸化ケイ素０.１〜１０重量部とからなる固溶体
であることを特徴とする請求項１又は２記載の磁気記録
媒体用結晶化ガラス基板の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33588998A JP3531906B2 (ja) | 1998-11-26 | 1998-11-26 | 磁気記録媒体用結晶化ガラス基板の製造方法 |
| TW089107721A TW494397B (en) | 1998-11-26 | 2000-04-25 | Method for making a glass substrate for magnetic recording media |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33588998A JP3531906B2 (ja) | 1998-11-26 | 1998-11-26 | 磁気記録媒体用結晶化ガラス基板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000163740A JP2000163740A (ja) | 2000-06-16 |
| JP3531906B2 true JP3531906B2 (ja) | 2004-05-31 |
Family
ID=18293516
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33588998A Expired - Fee Related JP3531906B2 (ja) | 1998-11-26 | 1998-11-26 | 磁気記録媒体用結晶化ガラス基板の製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3531906B2 (ja) |
| TW (1) | TW494397B (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1175401C (zh) * | 2000-04-28 | 2004-11-10 | 三井金属矿业株式会社 | 磁记录介质用玻璃基板的制造方法 |
| JP4562274B2 (ja) * | 2000-11-09 | 2010-10-13 | Ｈｏｙａ株式会社 | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体の製造方法 |
| US7037352B2 (en) | 2000-12-12 | 2006-05-02 | Showa Denko Kabushiki Kaisha | Polishing particle and method for producing polishing particle |
| JP4885352B2 (ja) * | 2000-12-12 | 2012-02-29 | 昭和電工株式会社 | 研磨材スラリー及び研磨微粉 |
| TWI292780B (ja) * | 2000-12-12 | 2008-01-21 | Showa Denko Kk | |
| JP4785406B2 (ja) * | 2004-08-30 | 2011-10-05 | 昭和電工株式会社 | 研磨スラリー、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、及び情報記録媒体の製造方法 |
| JP2006066851A (ja) * | 2004-08-30 | 2006-03-09 | Matsumura Sekiyu Kenkyusho:Kk | 化学的機械研磨用組成物 |
| CN101827686B (zh) | 2008-07-03 | 2013-07-17 | 旭硝子株式会社 | 研磨玻璃衬底的方法、制造玻璃衬底的方法和制造磁盘用玻璃衬底的方法 |
-
1998
- 1998-11-26 JP JP33588998A patent/JP3531906B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-04-25 TW TW089107721A patent/TW494397B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000163740A (ja) | 2000-06-16 |
| TW494397B (en) | 2002-07-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6248395B1 (en) | Mechanical texturing of glass and glass-ceramic substrates | |
| JP3998813B2 (ja) | 研磨用組成物 | |
| JP4785406B2 (ja) | 研磨スラリー、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、及び情報記録媒体の製造方法 | |
| JP2000336344A (ja) | 研磨剤 | |
| JP4439755B2 (ja) | 研磨用組成物およびそれを用いたメモリーハードディスクの製造方法 | |
| JP3531906B2 (ja) | 磁気記録媒体用結晶化ガラス基板の製造方法 | |
| US6371834B1 (en) | Method for preparing glass substrate for magnetic recording medium | |
| WO2001081496A1 (fr) | Compose de polissage et procede de preparation correspondant, et procede de polissage | |
| JP2004178777A (ja) | テクスチャ加工用研磨スラリー及び方法 | |
| JP2008013716A (ja) | 複合粒子およびその製造方法、ならびに研磨液 | |
| JP2018174005A (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板、並びに磁気記録媒体 | |
| JP2000339672A (ja) | 情報記憶媒体用ガラス基板材またはガラスセラミックス基板材の加工方法 | |
| JP4156174B2 (ja) | 研磨液組成物 | |
| JPH09143455A (ja) | ハードディスク基板の研磨用組成物及びこれを用いる研磨方法 | |
| JP3562794B2 (ja) | 磁気記録媒体用表面化学強化性ガラス基板の製造方法 | |
| JP4076853B2 (ja) | 研磨液組成物 | |
| JPH09137156A (ja) | ハードディスク基板の研磨用組成物及びこれを用いる研磨方法 | |
| JP4092015B2 (ja) | 研磨液組成物 | |
| JP4267743B2 (ja) | 情報記憶媒体用ガラスセラミックス基板の研磨加工方法 | |
| JP2007260853A (ja) | 非晶質ガラスの研磨方法 | |
| JPH1143791A (ja) | 研磨液用洗浄剤組成物 | |
| JP5636243B2 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
| KR100370873B1 (ko) | 자기기록 매체용 유리기판의 제조방법 | |
| JP3231600B2 (ja) | 磁気ディスク研磨用組成物及びそれを用いた研磨液 | |
| JP2012079365A (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20030520 |
|
| A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20040129 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040225 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040301 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D04 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090312 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090312 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100312 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110312 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120312 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120312 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130312 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130312 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140312 Year of fee payment: 10 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |