JP2008000963A - 精密微細空間の形成方法、精密微細空間を有する部材の製造方法および感光性積層フィルム - Google Patents
精密微細空間の形成方法、精密微細空間を有する部材の製造方法および感光性積層フィルム Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】精密微細凹部を有する基材上に、フィルムを布設する工程を有する精密微細空間の形成方法において、フィルムを布設する工程が、基材と前記フィルムとが接触する接触部の単位接触面積あたりの圧力を一定に制御しながら布設する工程であることによって、一定の形状および体積を有する精密微細空間を形成する。
【選択図】図1
Description
エポキシ樹脂(JER157s70 ジャパンエポキシレジン社製)を100重量部と、酸発生剤(アデカオプトマーSP172 株式会社ADEKA)を3重量部とをPGMEAに溶解混合することにより感光性組成物層42を得た。なお、感光性組成物層42の膜厚は30μmであった。
離型剤付きポリエチレンテレフタレートフィルム(ピューレックスA53 帝人デュポンフィルム社製)からなる膜厚50μmの支持フィルム51上に、上記のように作製した感光性組成物層42を均一に塗布し、温風対流乾燥機により65℃で5分および80℃で5分乾燥させた。その後、感光性組成物層42上に離型剤付きポリエチレンテレフタレートフィルム(ピューレックスA31 帝人デュポンフィルム社製)からなる膜厚25μmの保護フィルム43をラミネートして感光性積層フィルム4を形成した。
フォトレジストパターンにより形成した精密微細凹部31を有する直径300mmの円形状の基材3をステージ1上に載置した。なお、精密微細凹部31は、高さ(深さ)30μm、幅、奥行きが共に100μmであった。
基材3と感光性積層フィルム4が接触している接触部の単位接触面積当たりの圧力を一定になるように制御しなかったこと以外は実施例と同様に行った。走査電子顕微鏡(SEM)にて精密微細空間を観察すると、部材上に有する全ての精密微細空間は図1(b)に示したような空間ではなく、図1(c)に示したような空間もあれば図1(a)に示したような空間もあり、精密微細空間の形状と体積は一定でなかった。
2 接触部材
3 基材
31 精密微細凹部
4 感光性積層フィルム(フィルム)
41 支持フィルム
42 感光性組成物層
43 保護フィルム
Claims (8)
- 精密微細凹部を有する基材上に、フィルムを布設する工程を有する精密微細空間の形成方法において、前記フィルムを布設する工程が、前記基材と前記フィルムとが接触する接触部の単位接触面積あたりの圧力を一定に制御しながら布設する工程であることを特徴とする精密微細空間の形成方法。
- 前記フィルムは、支持フィルム上に感光組成物層が積層されてなる感光性積層フィルムであることを特徴とする請求項1に記載の精密微細空間の形成方法。
- 前記基材と前記フィルムとが接触する接触部の単位接触面積あたりの圧力が0.1〜1MPa/cm2であることを特徴とする請求項1または2に記載の精密微細空間の形成方法。
- 前記精密微細凹部は、高さが0.1μm〜1mmであることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の精密微細空間の形成方法。
- 前記精密微細凹部が、フォトレジストパターンにより形成される精密微細凹部であることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の精密微細空間の形成方法。
- 前記精密微細凹部を有する基材上に、前記感光性積層フィルムを布設する工程後、前記感光性積層フィルムを露光し、加熱処理を行い、前記感光組成物層を硬化させ、前記精密微細凹部上に天板部を成形し、精密微細空間を形成する工程を有することを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の精密微細空間の形成方法。
- 請求項1から6に記載の精密微細空間の形成方法に使用するフィルムであって、感光組成物層と、支持フィルムとを積層してなることを特徴とする感光性積層フィルム。
- 精密微細凹部を有する基材上に、フィルムを布設する工程を有する精密微細空間を有する部材の製造方法において、前記フィルムを布設する工程が、前記基材と前記フィルムとが接触する接触部の単位接触面積あたりの圧力を一定に制御しながら布設する工程であることを特徴とする精密微細空間を有する部材の製造方法。
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