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  1. 監視される領域の中に光束を放射し、
    その領域の複数の映像において、粒子の存在を示す変動を検出する
    粒子検出法。
  2. 請求項1に記載された方法であって、さらに、前記光束を変調することを含む、ことを特徴とする方法。
  3. 請求項2に記載された方法であって、前記領域の中のあるゾーンの中の散乱光が、対応する映像の1以上のセグメントに表現され、これにより、同定される前記領域内の粒子の位置を考慮する、ことを特徴とする方法。
  4. 請求項に記載された方法であって、前記粒子の位置が、放射された光の光源の位置、光の方向および映像検出の点の間の幾何学的関係により決定され、この幾何学的関係が前記複数の映像から決定される、ことを特徴とする方法。
  5. 請求項1〜4のいずれかに記載された方法であって、検出された前記変動が散乱光強度の増加である、ことを特徴とする方法。
  6. 請求項に記載された方法であって、前記増加はしきい値を参照して評価される、ことを特徴とする方法。
  7. 請求項に記載された方法であって、前記しきい値は、前記複数の映像から積分強度値を平均することにより計算される、ことを特徴とする方法。
  8. 請求項またはに記載された方法であって、さらに、前記領域内で異なる空間位置について異なるしきい値を割り当てる、ことを特徴とする方法。
  9. 請求項1〜8のいずれかに記載された方法であって、さらに、
    前記光を1つの光路にそって向け、
    前記複数の映像の中で、前記領域内で光が入射する表面に入射する点を表す狙い点を同定する
    ことを特徴とする方法。
  10. 請求項に記載された方法であって、
    前記複数の映像の中の狙い点の位置が監視され、放射された光の発生が、狙い点の位置の変化に応答して終わる、
    ことを特徴とする方法。
  11. 請求項1〜10のいずれかに記載された方法であって、
    さらに、前記複数の映像において発光体の位置を同定する、ことを特徴とする方法。
  12. 請求項11に記載された方法であって、
    さらに、前記発光体の同定された位置での放射強度に基づいて前記発光体の動作条件を決定する、ことを特徴とする方法。
  13. 請求項1〜12のいずれかに記載された方法であって、
    前記複数の映像は、前記監視領域内で空間的位置を表す複数の区分に分割される複数のフレームとして処理される、ことを特徴とする方法。
  14. 請求項13に記載された方法であって、さらに、
    前記複数の映像の複数の区分に関連して強度レベルを監視し、
    前記区分に対応する前記領域内の異なる空間的位置に対して異なるしきい値を割り当てる、
    ことを特徴とする方法。
  15. 領域を監視する装置であって、
    少なくとも1つの予め決められた特性を持つ光束を前記領域の中に放射する発光体と、
    その領域の少なくとも1つの映像を得る撮像装置と、
    前記少なくとも1つの映像を解析して、前記領域の中で粒子の存在を示す、前記複数の映像の間で前記少なくとも1つの特性の変動を検出する処理装置と
    からなる装置。
  16. 請求項15に記載された装置であって、
    前記粒子の位置を、放射された光の光源の位置、光束の方向および映像検出点の間の幾何学的関係により決定し、この幾何学的関係を前記複数の映像から決定する、ことを特徴とする装置
  17. 請求項15または16に記載された装置であって、
    異なる光路にそって発光するように配置された複数の発光体を備える、ことを特徴とする装置。
  18. 請求項17に記載された装置であって、さらに、
    前記撮像装置が他の光源からの光に優先して前記発光体からの光を撮像するために用いる1以上のフィルタを備える、ことを特徴とする装置。
  19. 請求項18に記載された装置であって、前記フィルタの1つは時間的フィルタであることを特徴とする装置。
  20. 請求項18に記載された装置であって、前記フィルタの1つは空間的フィルタであることを特徴とする装置。
  21. 請求項18に記載された装置であって、前記フィルタの1つはバンドパスフィルタであることを特徴とする装置。
  22. 請求項18に記載された装置であって、前記フィルタの1つは偏光フィルタであることを特徴とする装置。
  23. 請求項1522のいずれかに記載された装置であって、前記撮像装置は減衰器を備えることを特徴とする装置。
  24. 請求項23に記載された装置であって、前記減衰器が可変開口装置を備えることを特徴とする装置。
  25. 請求項1524のいずれかに記載された装置であって、複数の前記撮像装置を備えることを特徴とする装置。
  26. 請求項1525に記載された装置であって、前記撮像装置がカメラであることを特徴とする装置。
  27. 請求項1526に記載された装置であって、前記発光体がレーザであることを特徴とする装置。
  28. 粒子を検出する方法であって、
    光源を見る第1撮像装置と放射された光束の光路の少なくとも一部とを置くことを含めて、前記光路を決定し、
    光源の位置を処理装置に通信し、
    前記光束が当たる点を見る第2撮像装置を置き、
    前記当たる点の位置情報を前記処理装置に通信し、
    前記光源の位置と前記当たる点の位置情報との間の幾何学的位置関係により前記光路を決定する
    方法。
  29. 粒子を検出する方法であって、
    光源の位置である第1点の位置を見出すことを含み、撮像装置を用いることにより、光束の光路を含む関心領域を決定し、
    前記光束の前記撮像装置の視野との交差点である第2点を見出して、第1点と第2点により前記光路を決定し、
    決定された前記光路を含む関心領域を計算する
    方法。
  30. 請求項29に記載された方法であって、前記第2点の位置の決定において、少なくとも1つの実質的に透明のプローブを用いる、ことを特徴とする方法。
  31. 請求項30に記載された方法であって、前記プローブは、前記光路から取り去られることを特徴とする方法。
  32. 関心領域の中の1以上のサブ領域で煙のレベルを決定する方法であって、
    前記領域内に光束を向け、
    撮像装置を用いて前記光束の光路の少なくとも一部の視界を選択し、
    前記撮像装置に対する前記光束の位置を決定し、
    前記撮像装置に対する前記光束の方向を決定し、
    前記光束を複数のセグメントに分割し、
    前記複数のセグメントと前記撮像装置の間の幾何学的関係を決定し、
    前記撮像装置により受光された、各セグメントの光のレベルを、前記幾何学的関係を考慮するように調整する
    方法。
  33. 請求項32に記載された方法であって、
    前記複数のセグメントは少なくとも1つの画素からなる、ことを特徴とする方法。
  34. 請求項33に記載された方法であって、
    前記複数のセグメントがグループ化されて、煙検出のための複数のサブ領域を形成する、ことを特徴とする方法。
  35. 粒子を検出する装置であって、
    予め決められた命令セットにより動作する処理手段を備え、前記処理手段は、前記命令セットを用いて、請求項1〜14および2834のいずれかに記載された方法を実行可能である、装置。
  36. 粒子を検出するためデータ処理システム内にコンピュータ読み出し可能なプログラムコードとシステムコードとを備える記録媒体を備え、前記記録媒体内に、請求項1〜14および2834のいずれかに記載された方法を実行するためのコンピュータ読み出し可能なコードを備える、コンピュータプログラムプロダクト。
  37. 監視される領域に光束を向け、この領域の複数の映像において、粒子の存在を示す変動を検出して、粒子を検出する方法であって、
    前記領域内の異なる空間的位置に対して異なるしきい値を割り当てる、
    方法。
  38. 請求項37に記載された方法であって、さらに、前記光束を変調することを特徴とする方法。
  39. 請求項37に記載された方法であって、前記領域の中の1つのゾーンでの散乱光が、対応する映像の1以上のセグメントにおいて表わされ、これにより前記領域内の粒子の位置が同定可能である、ことを特徴とする方法。
  40. 請求項38に記載された方法であって、前記粒子の所在が、光源の位置、光束の方向および映像検出の点の間の幾何学的関係によって決定され、この幾何学的関係が前記複数の映像から決定される、ことを特徴とする方法。
  41. 請求項37〜40のいずれかに記載された方法であって、検出される前記変動が散乱光の強度の増加であることを特徴とする方法。
  42. 請求項41に記載された方法であって、前記増加が、しきい値を参照して評価されることを特徴とする方法。
  43. 請求項42に記載された方法であって、前記しきい値が前記複数の映像から積分された強度値を平均することにより計算されることを特徴とする方法。
  44. 請求項37〜43のいずれかに記載された方法であって、
    前記光を1つの光路にそって向け、
    前記複数の映像の中で、前記領域内で表面に入射する点を表す狙い点を同定する、
    ことを特徴とする方法。
  45. 請求項44に記載された方法であって、
    前記複数の映像の中の狙い点の位置が監視され、前記光の生成が、この狙い点の位置の変化に対応して終わる、ことを特徴とする方法。
  46. 請求項37〜45のいずれかに記載された方法であって、さらに、前記複数の映像における発光体の位置を同定する、ことを特徴とする方法。
  47. 請求項46に記載された方法であって、前記発光体の動作条件を、前記発光体の同定された前記位置を基に決定する、ことを特徴とする方法。
  48. 請求項37〜47のいずれかに記載された方法であって、
    前記複数の映像は、前記監視領域内で空間的位置を表す複数の区分に分割される複数のフレームとして処理される、ことを特徴とする方法。
    ことを特徴とする方法。
  49. 請求項48に記載された方法であって、
    前記複数の映像の区分について強度レベルを監視し、
    前記区分に対応する前記領域内の異なる空間的位置に対して異なるしきい値を割り当てる、
    方法。
  50. 1つの領域を監視する装置であって、
    少なくとも1つの予め決められた特性を持つ光束を前記領域の中に向ける発光体と、
    その領域の少なくとも1つの映像を得る撮像装置と、
    前記少なくとも1つの映像を解析して、前記複数の映像の間で、前記複数の映像の中での粒子の存在を示す、前記少なくとも1つの特性の変動を検出する処理装置と
    からなる装置。
  51. 請求項50に記載された装置であって、
    前記処理装置は、前記発光体の位置、前記光束の方向および撮像装置の間の、前記複数の映像から決定される幾何学的関係により前記粒子の位置を決定することを特徴とする装置。
  52. 請求項50または51に記載された装置であって、光を、異なる光路にそって向けるように配置された、1以上の発光体を備える、ことを特徴とする装置。
  53. 請求項52に記載された装置であって、さらに、前記撮像装置が他の光源からの光に優先して前記発光体からの光を撮像するために用いる1以上のフィルタを備える、ことを特徴とする装置。
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