JP2007521402A - 金属含有溶液の処理方法 - Google Patents
金属含有溶液の処理方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007521402A JP2007521402A JP2006547236A JP2006547236A JP2007521402A JP 2007521402 A JP2007521402 A JP 2007521402A JP 2006547236 A JP2006547236 A JP 2006547236A JP 2006547236 A JP2006547236 A JP 2006547236A JP 2007521402 A JP2007521402 A JP 2007521402A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cathode
- anode
- solution
- metal
- anolyte
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
- C02F1/461—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrolysis
- C02F1/46104—Devices therefor; Their operating or servicing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/46—Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2101/00—Nature of the contaminant
- C02F2101/30—Organic compounds
- C02F2101/32—Hydrocarbons, e.g. oil
- C02F2101/325—Emulsions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2103/00—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
- C02F2103/16—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated from metallurgical processes, i.e. from the production, refining or treatment of metals, e.g. galvanic wastes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2209/00—Controlling or monitoring parameters in water treatment
- C02F2209/005—Processes using a programmable logic controller [PLC]
- C02F2209/008—Processes using a programmable logic controller [PLC] comprising telecommunication features, e.g. modems or antennas
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S210/00—Liquid purification or separation
- Y10S210/902—Materials removed
- Y10S210/911—Cumulative poison
- Y10S210/912—Heavy metal
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
Abstract
Description
1g÷ (58 g/mole) × (6 mole e-/mole) × (96,500 coulomb/mole e-) ÷ (5 coulomb/sec) ÷ (60 sec/min) = 33 min
中間溶液、すなわち還元剤の少なくとも過半数が酸化された金属含有溶液は、アノードとの接触状態から取り出される。いくつかの実施形態において中間溶液は反応容器12から第1の貯槽20に取り出され、いくつかの実施形態において使用済み陰極電解液はカソードとの接触状態から第2の貯槽21に取り出される。必要であれば、中間溶液は次いで反応容器12に戻され、カソード16と接触状態に置かれる。陽極電解液を次に反応容器12内でアノード14と接触させる。
以下のように、酸化剤としてコバルトイオンを及び還元剤としてジメチルアミンボラン(DMAB)を含む使用済み無電解メッキ溶液を処理して、析出及び水素ガスの自然発生を防止することができる。
第1工程:使用済み無電解メッキ溶液を上述のようにアノードと接触させる(すなわち、陽極電解液として作用する)。陰極電解液は、硫酸第二鉄水溶液である。電流の印加により、アノードにおける酸化反応は:
DMAB → DMA + B(OH)3 + 6e- ;
カソードにおける還元反応は:
Fe3+ + e- → Fe2+
次いで、陰極電解液及び陽極電解液を装置から取り除く。
第2工程:上述の第1工程からの使用済み無電解メッキ溶液(すなわち、DMABが酸化されたばかりの溶液)をカソードと接触させる(すなわち、陰極電解液として作用する)。陽極電解液は硫酸ナトリウムを含む水溶液である。電流の印加により、カソードにおける還元反応は:
Co2+ + 2e- → Co;
アノードにおける酸化反応は:
2H2O → 4H+ + O2 + 4e-
結果は、コバルトイオンが除去され、DMABが酸化されてしまった使用済み無電解メッキ溶液が生じるので、溶液は析出せず(will not plate out)、水素ガスは自然発生しない。
Claims (18)
- 還元剤をも含む金属含有液体を処理する方法であって、
アノード、カソード及び該アノードと該カソードとを分離する水素イオン透過性膜を含む反応容器を準備し;
被処理金属含有液体を反応容器内で該アノードと接触させ;
陰極電解液を該カソードと接触させ;
該アノード及び該カソードを電源と電通状態にして、金属含有液体中の還元剤の少なくとも過半数が酸化されて中間液体及び使用済み陰極電解液を発生させるまで、電流を該アノード及び該カソードに流す1回目の電通と;
使用済み陰極電解液を該カソードとの接触状態から、該中間液体を該アノードとの接触状態から、場合によっては反応容器から、第1及び第2の貯槽へそれぞれ別個に取り出し;
該中間液体をカソードと接触させ;
該陽極電解液をアノードと接触させ;
該アノード及び該カソードを電源と電通状態にして、中間液体中の金属イオンの過半数が該カソード上に析出して処理済み溶液を提供するまで、電流を該アノード及び該カソードに流す2回目の電通と、
を含む方法。 - 前記陰極電解液は、金属含有液体とほぼ等しいイオン濃度を有する非電気化学的反応性塩溶液である、請求項1に記載の方法。
- 前記陰極電解液は硫酸第二鉄溶液であり、前記使用済み陰極電解液は硫酸第一鉄溶液である、請求項2に記載の方法。
- 硫酸第一鉄溶液に空気及び酸素からなる群より選択される気体を曝気することにより、硫酸第一鉄溶液から硫酸第二鉄溶液を再生することをさらに含む、請求項3に記載の方法。
- 前記陽極電解液は、中間液体とほぼ等しいイオン濃度のナトリウム塩溶液及び硫酸塩溶液からなる群より選択される溶液である、請求項3に記載の方法。
- 前記陽極電解液は、硫酸ナトリウム及び硫酸第一鉄からなる群より選択される、請求項5に記載の方法。
- 前記陽極電解液は、中間液体とほぼ等しいイオン濃度のナトリウム塩溶液及び硫酸塩溶液からなる群より選択される溶液である、請求項1に記載の方法。
- 前記陽極電解液は、硫酸ナトリウム及び硫酸第一鉄からなる群より選択される、請求項7に記載の方法。
- アノード及びカソードを電源と電気連通状態にする2回の電通のうち少なくとも一方における電流は、約1A〜約10Aの間である、請求項1に記載の方法。
- 還元剤をも含む金属含有液体を処理する方法であって、
アノード、カソード及び該アノードと該カソードとを分離する水素イオン透過性膜を含む反応容器を準備し;
反応容器内で金属含有液体を該カソードと接触させ;
反応容器内で陽極電解液を該アノードと接触させ;
該アノード及び該カソードを電源と電通状態にして、金属含有液体中の金属イオンの少なくとも過半数が該カソード上にメッキされて、中間液体を発生させるまで該アノード及び該カソードに電流を流し;
中間液体を該カソードとの接触状態から、陽極電解液を該アノードとの接触状態から、場合によっては反応容器から、それぞれ第1及び第2の貯槽に別個に取り出し;
中間液体を該アノードと接触させ;
陰極電解液を該カソードと接触させ;
アノード及びカソードを電源と電通状態にして、金属含有液体中の還元剤の少なくとも過半数が酸化されて処理済み溶液を提供するまで電流を該アノード及び該カソードに流す2回目の電通と
を含む方法。 - 前記陰極電解液は、中間液体とほぼ等しいイオン濃度を有する第二鉄塩の溶液である、請求項10に記載の方法。
- 前記第二鉄塩は硫酸第二鉄であり、前記使用済み陰極電解液は硫酸第一鉄溶液である、請求項11に記載の方法。
- 硫酸第一鉄溶液に空気及び酸素からなる群より選択される気体を曝気することにより、硫酸第一鉄溶液から硫酸第二鉄溶液を再生することをさらに含む、請求項12に記載の方法。
- 前記陽極電解液は、中間液体とほぼ等しいイオン濃度のナトリウム塩溶液及び硫酸塩溶液からなる群より選択される溶液である、請求項12に記載の方法。
- 前記陽極電解液は、硫酸ナトリウム及び硫酸第一鉄からなる群より選択される、請求項14に記載の方法。
- 前記陽極電解液は、中間液体とほぼ等しいイオン濃度のナトリウム塩溶液及び硫酸塩溶液からなる群より選択される溶液である、請求項10に記載の方法。
- 前記陽極電解液は、硫酸ナトリウム及び硫酸第一鉄からなる群より選択される、請求項16に記載の方法。
- 前記アノード及び前記カソードを電源と電通状態に置く2回の電通のうち少なくとも一方の電流は約1A〜約10Aの間にある、請求項8に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/749,946 US6942810B2 (en) | 2003-12-31 | 2003-12-31 | Method for treating metal-containing solutions |
PCT/US2004/042821 WO2005066078A1 (en) | 2003-12-31 | 2004-12-17 | Method for treating-containing solutions |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007521402A true JP2007521402A (ja) | 2007-08-02 |
Family
ID=34701127
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006547236A Pending JP2007521402A (ja) | 2003-12-31 | 2004-12-17 | 金属含有溶液の処理方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6942810B2 (ja) |
EP (1) | EP1701920A4 (ja) |
JP (1) | JP2007521402A (ja) |
KR (1) | KR20060108735A (ja) |
CN (1) | CN1902133A (ja) |
IL (1) | IL176294A0 (ja) |
WO (1) | WO2005066078A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7833583B2 (en) * | 2007-03-27 | 2010-11-16 | Trevor Pearson | Method of recycling electroless nickel waste |
DE102018207589A1 (de) * | 2018-05-16 | 2019-11-21 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren zur Gewinnung von Gold, Silber und Platinmetallen aus Bestandteilen eines Brennstoffzellenstapels oder eines Elektrolysators |
CN111499086B (zh) * | 2020-04-17 | 2023-09-19 | 生态环境部华南环境科学研究所 | 一种化学镀铜废液的在线资源化处理方法 |
CN113620389B (zh) * | 2020-06-24 | 2024-02-13 | 叶旖婷 | 一种电协同氧化反应处理废水的方法及装置 |
CN112456607B (zh) * | 2020-10-28 | 2022-09-30 | 马鞍山市华茂机械科技有限公司 | 一种机械加工厂污水处理设备 |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61133192A (ja) * | 1984-12-03 | 1986-06-20 | Toagosei Chem Ind Co Ltd | 塩酸含有銅廃液の処理方法 |
JPS62199774A (ja) * | 1986-02-27 | 1987-09-03 | Agency Of Ind Science & Technol | めつき液中に含まれるギ酸イオンの電解酸化除去方法 |
JPS6380897A (ja) * | 1986-09-24 | 1988-04-11 | Agency Of Ind Science & Technol | 亜リン酸イオンを含む廃めつき液の電解酸化処理法 |
JPH05192662A (ja) * | 1991-07-22 | 1993-08-03 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 水性組成物の有機物含有量を減少させるための電気分解法及びそのための装置 |
JPH0699178A (ja) * | 1992-09-22 | 1994-04-12 | Permelec Electrode Ltd | 化学メッキ廃液の電解処理方法 |
JPH06299364A (ja) * | 1993-04-09 | 1994-10-25 | Yasuhiko Ito | 無電解ニッケル鍍金廃液処理装置 |
JPH06299365A (ja) * | 1993-04-09 | 1994-10-25 | Yasuhiko Ito | 無電解金属鍍金廃液処理装置 |
JPH0711451A (ja) * | 1993-06-23 | 1995-01-13 | Taiyo Kagaku Kogyo Kk | 無電解銅メッキ液中の酒石酸塩の再生利用方法 |
JPH08199366A (ja) * | 1993-12-01 | 1996-08-06 | K O Eng Kk | 無電解ニツケル鍍金廃液の処理方法 |
JPH10317154A (ja) * | 1997-05-07 | 1998-12-02 | Km Europ Metal Ag | 錫メッキ用溶液の再生方法およびその装置 |
JPH11124679A (ja) * | 1997-10-17 | 1999-05-11 | Kunimitsu Mekki Kogyo Kk | 無電解ニッケルめっき廃液の電解処理方法 |
JP2001293485A (ja) * | 2000-04-12 | 2001-10-23 | Kurita Water Ind Ltd | 6価クロム含有廃水の処理方法及び処理装置 |
JP2002219464A (ja) * | 2001-01-30 | 2002-08-06 | Nec Corp | 電解処理方法および処理装置 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3766049A (en) * | 1971-08-26 | 1973-10-16 | Process Res Inc | Recovery of metal from rinse solutions |
US3755530A (en) | 1971-11-24 | 1973-08-28 | Western Electric Co | Process for treatment of waste solutions |
US4416745A (en) | 1982-03-01 | 1983-11-22 | The Bendix Corporation | Process for recovering nickel from spent electroless nickel plating solutions |
DE3769855D1 (de) * | 1986-06-10 | 1991-06-13 | Tosoh Corp | Verfahren zur rueckgewinnung von metallen. |
US4762601A (en) | 1986-11-10 | 1988-08-09 | Morton Thiokol, Inc. | Copper bath for electroless plating having excess counter-cation and process using same |
US4956097A (en) | 1988-10-11 | 1990-09-11 | Enthone, Incorporated | Waste treatment of metal containing solutions |
US5306336A (en) | 1992-11-20 | 1994-04-26 | Monsanto Company | Sulfate-free electroless copper plating baths |
US5419821A (en) | 1993-06-04 | 1995-05-30 | Vaughan; Daniel J. | Process and equipment for reforming and maintaining electroless metal baths |
GB9318794D0 (en) * | 1993-09-10 | 1993-10-27 | Ea Tech Ltd | A high surface area cell for the recovery of metals from dilute solutions |
DE4338228A1 (de) * | 1993-11-09 | 1995-05-11 | Eilenburger Elektrolyse & Umwelttechnik Gmbh | Kreislaufverfahren zur Aufarbeitung von metallhaltigen Reststoffen |
JP2911393B2 (ja) | 1995-07-25 | 1999-06-23 | 日本テクノ株式会社 | 無電解ニッケルめっき廃液から肥料水溶液を製造する方法と装置 |
US6245389B1 (en) | 1996-12-27 | 2001-06-12 | Nippon Chemical Industrial Co., Ltd. | Method for circulating electroless nickel plating solution |
DE19829274C2 (de) * | 1998-07-01 | 2002-06-20 | Otb Oberflaechentechnik Berlin | Verfahren zur Rückgewinnung von Edelmetallen |
US6162333A (en) | 1999-01-22 | 2000-12-19 | Renovare International, Inc. | Electrochemical cell for removal of metals from solutions |
US6391209B1 (en) | 1999-08-04 | 2002-05-21 | Mykrolis Corporation | Regeneration of plating baths |
US6942779B2 (en) | 2000-05-25 | 2005-09-13 | Mykrolis Corporation | Method and system for regenerating of plating baths |
US6878258B2 (en) | 2002-02-11 | 2005-04-12 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for removing contaminants from semiconductor copper electroplating baths |
-
2003
- 2003-12-31 US US10/749,946 patent/US6942810B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-12-17 KR KR1020067012975A patent/KR20060108735A/ko not_active Application Discontinuation
- 2004-12-17 JP JP2006547236A patent/JP2007521402A/ja active Pending
- 2004-12-17 EP EP04814953A patent/EP1701920A4/en not_active Withdrawn
- 2004-12-17 CN CNA200480039132XA patent/CN1902133A/zh active Pending
- 2004-12-17 WO PCT/US2004/042821 patent/WO2005066078A1/en not_active Application Discontinuation
-
2006
- 2006-06-14 IL IL176294A patent/IL176294A0/en unknown
Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61133192A (ja) * | 1984-12-03 | 1986-06-20 | Toagosei Chem Ind Co Ltd | 塩酸含有銅廃液の処理方法 |
JPS62199774A (ja) * | 1986-02-27 | 1987-09-03 | Agency Of Ind Science & Technol | めつき液中に含まれるギ酸イオンの電解酸化除去方法 |
JPS6380897A (ja) * | 1986-09-24 | 1988-04-11 | Agency Of Ind Science & Technol | 亜リン酸イオンを含む廃めつき液の電解酸化処理法 |
JPH05192662A (ja) * | 1991-07-22 | 1993-08-03 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 水性組成物の有機物含有量を減少させるための電気分解法及びそのための装置 |
JPH0699178A (ja) * | 1992-09-22 | 1994-04-12 | Permelec Electrode Ltd | 化学メッキ廃液の電解処理方法 |
JPH06299364A (ja) * | 1993-04-09 | 1994-10-25 | Yasuhiko Ito | 無電解ニッケル鍍金廃液処理装置 |
JPH06299365A (ja) * | 1993-04-09 | 1994-10-25 | Yasuhiko Ito | 無電解金属鍍金廃液処理装置 |
JPH0711451A (ja) * | 1993-06-23 | 1995-01-13 | Taiyo Kagaku Kogyo Kk | 無電解銅メッキ液中の酒石酸塩の再生利用方法 |
JPH08199366A (ja) * | 1993-12-01 | 1996-08-06 | K O Eng Kk | 無電解ニツケル鍍金廃液の処理方法 |
JPH10317154A (ja) * | 1997-05-07 | 1998-12-02 | Km Europ Metal Ag | 錫メッキ用溶液の再生方法およびその装置 |
JPH11124679A (ja) * | 1997-10-17 | 1999-05-11 | Kunimitsu Mekki Kogyo Kk | 無電解ニッケルめっき廃液の電解処理方法 |
JP2001293485A (ja) * | 2000-04-12 | 2001-10-23 | Kurita Water Ind Ltd | 6価クロム含有廃水の処理方法及び処理装置 |
JP2002219464A (ja) * | 2001-01-30 | 2002-08-06 | Nec Corp | 電解処理方法および処理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1701920A4 (en) | 2010-09-01 |
KR20060108735A (ko) | 2006-10-18 |
WO2005066078A1 (en) | 2005-07-21 |
US6942810B2 (en) | 2005-09-13 |
EP1701920A1 (en) | 2006-09-20 |
IL176294A0 (en) | 2006-10-05 |
US20050139553A1 (en) | 2005-06-30 |
CN1902133A (zh) | 2007-01-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI417421B (zh) | 降低等向蝕刻之材料消耗及廢料產生 | |
US6827832B2 (en) | Electrochemical cell and process for reducing the amount of organic contaminants in metal plating baths | |
US7520973B2 (en) | Method for regenerating etching solutions containing iron for the use in etching or pickling copper or copper alloys and an apparatus for carrying out said method | |
JP3783972B2 (ja) | シアン含有水の処理方法 | |
US6942810B2 (en) | Method for treating metal-containing solutions | |
JPH0466187A (ja) | 重金属および有機物を含有する廃液の処理方法 | |
JP5253994B2 (ja) | 放射性金属廃棄物の処理方法 | |
Ito et al. | Technical feasibility of electrochemical Fenton-type process using Cu (I)/HOCl system | |
JP2007245047A (ja) | 排水処理システム | |
US20050145498A1 (en) | Apparatus and method for treating used electroless plating solutions | |
How et al. | Degradation of Acid Orange 7 through radical activation by electro-generated cuprous ions | |
US20110042234A1 (en) | Integrated electrolytic and chemical method for producing clean treated water wherein cyanide species concentration is less than 1 milligram per liter | |
JP4071980B2 (ja) | 電子部品の洗浄方法及び装置 | |
JP2001279343A (ja) | 貴金属の回収装置および貴金属の回収方法 | |
KR102120679B1 (ko) | Sf6의 매개 전기화학적 제거 방법, 및 그 시스템 | |
JP2003290767A (ja) | 機能水、その製造方法及び製造装置 | |
JP3172898B2 (ja) | エッチング廃液処理方法 | |
JP3981424B2 (ja) | ハロゲン化エチレンの分解処理方法 | |
JPH09239371A (ja) | エタノールアミン含有希塩酸廃液の処理法 | |
JPH08254597A (ja) | アンモニア性窒素および有機物を含有する廃液の処理方法 | |
JP2745278B2 (ja) | 貴金属シアン浴めっき廃水及び水洗水の処理方法 | |
Dziewinski et al. | Electrochemical treatment of mixed and hazardous waste | |
JPH05204097A (ja) | ハロゲン化銅溶液の処理方法 | |
CA2329553A1 (en) | An electrochemical cell and process for reducing the amount of organic contaminants in metal plating baths | |
JPH08285993A (ja) | 化学除染方法およびその除染装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071217 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20080617 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091006 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091013 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100329 |